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红外发光显微镜及其在集成电路失效分析中的应用
被引量:
5
1
作者
张滨海
方培源
王家楫
《分析仪器》
CAS
2008年第5期15-18,共4页
随着超大规模集成电路的发展,半导体芯片中元器件的特征尺寸越来越小,已经进入了深亚微米时代。近几年新发展起来的红外发光显微镜技术,能利用集成电路(IC)器件中大多数缺陷都呈现微弱红外发光的现象,迅速准确地定位失效点,成为对IC进...
随着超大规模集成电路的发展,半导体芯片中元器件的特征尺寸越来越小,已经进入了深亚微米时代。近几年新发展起来的红外发光显微镜技术,能利用集成电路(IC)器件中大多数缺陷都呈现微弱红外发光的现象,迅速准确地定位失效点,成为对IC进行失效缺陷定位的有力工具。本文介绍了半导体的发光机理,红外发光显微镜的基本结构、主要部件及技术特点。通过对两个IC失效样品的分析实例,介绍红外发光显微镜及其补充技术——激光束诱导电阻率变化测试技术在IC失效分析中的具体应用。
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关键词
集成电路
失效分析
红外发光显微镜
激光束诱导电阻率变化测试技术
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职称材料
题名
红外发光显微镜及其在集成电路失效分析中的应用
被引量:
5
1
作者
张滨海
方培源
王家楫
机构
复旦大学材料科学系
出处
《分析仪器》
CAS
2008年第5期15-18,共4页
文摘
随着超大规模集成电路的发展,半导体芯片中元器件的特征尺寸越来越小,已经进入了深亚微米时代。近几年新发展起来的红外发光显微镜技术,能利用集成电路(IC)器件中大多数缺陷都呈现微弱红外发光的现象,迅速准确地定位失效点,成为对IC进行失效缺陷定位的有力工具。本文介绍了半导体的发光机理,红外发光显微镜的基本结构、主要部件及技术特点。通过对两个IC失效样品的分析实例,介绍红外发光显微镜及其补充技术——激光束诱导电阻率变化测试技术在IC失效分析中的具体应用。
关键词
集成电路
失效分析
红外发光显微镜
激光束诱导电阻率变化测试技术
分类号
TH742 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
红外发光显微镜及其在集成电路失效分析中的应用
张滨海
方培源
王家楫
《分析仪器》
CAS
2008
5
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职称材料
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