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脉冲激光模拟SRAM器件单粒子翻转效应的试验方法研究
被引量:
3
1
作者
上官士鹏
封国强
+2 位作者
余永涛
姜昱光
韩建伟
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第11期2137-2141,共5页
针对0.13μm和0.35μm工艺尺寸的两款商用SRAM器件进行了脉冲激光背部单粒子翻转效应试验方法研究。单粒子翻转效应主要测试单粒子翻转阈值和单粒子翻转截面,本文主要研究了激光聚焦深度、激光脉冲注量、测试模式和芯片配置的数据对测...
针对0.13μm和0.35μm工艺尺寸的两款商用SRAM器件进行了脉冲激光背部单粒子翻转效应试验方法研究。单粒子翻转效应主要测试单粒子翻转阈值和单粒子翻转截面,本文主要研究了激光聚焦深度、激光脉冲注量、测试模式和芯片配置的数据对测试两者的影响。试验结果表明:只有聚焦到芯片有源区才可测得最低的翻转阈值和最大的翻转截面,此时的结果与重离子结果基本一致;注量对翻转阈值测试无影响,但注量增大时翻转截面会减小,测试时激光脉冲注量应小于1×107 cm-2;测试模式和存储数据对翻转阈值和翻转截面的影响不大,测试时可不考虑。
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关键词
SRAM
脉冲
激光
单粒子翻转效应
激光
聚焦深度
激光脉冲注量
下载PDF
职称材料
题名
脉冲激光模拟SRAM器件单粒子翻转效应的试验方法研究
被引量:
3
1
作者
上官士鹏
封国强
余永涛
姜昱光
韩建伟
机构
中国科学院空间科学与应用研究中心
中国科学院大学
出处
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第11期2137-2141,共5页
基金
国家自然科学基金资助项目(40974113)
基础科研计划资助项目(A1320110028)
文摘
针对0.13μm和0.35μm工艺尺寸的两款商用SRAM器件进行了脉冲激光背部单粒子翻转效应试验方法研究。单粒子翻转效应主要测试单粒子翻转阈值和单粒子翻转截面,本文主要研究了激光聚焦深度、激光脉冲注量、测试模式和芯片配置的数据对测试两者的影响。试验结果表明:只有聚焦到芯片有源区才可测得最低的翻转阈值和最大的翻转截面,此时的结果与重离子结果基本一致;注量对翻转阈值测试无影响,但注量增大时翻转截面会减小,测试时激光脉冲注量应小于1×107 cm-2;测试模式和存储数据对翻转阈值和翻转截面的影响不大,测试时可不考虑。
关键词
SRAM
脉冲
激光
单粒子翻转效应
激光
聚焦深度
激光脉冲注量
Keywords
SRAM
pulsed laser
single event upset
laser focusing depth
laser pulsefluence
分类号
TN432 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
脉冲激光模拟SRAM器件单粒子翻转效应的试验方法研究
上官士鹏
封国强
余永涛
姜昱光
韩建伟
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013
3
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职称材料
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