微/纳米CVD金刚石涂层沉积工艺参数优化

通过正交实验设计工艺参数,利用热丝化学气相沉积法(HFCVD)制备金刚石涂层,采用扫描电镜、洛氏硬度计、X射线衍射仪等对金刚石涂层进行性能表征,同时进行切削试验,从而确定微米层和纳米层最佳的碳源浓度、沉积气压、热丝与基体间距。结果表明:最优微米金刚石涂层沉积工艺参数为碳源浓度2%,沉积气压3 k Pa,热丝/基体间距5 mm。最优纳米金刚石涂层沉积工艺参数为碳源浓度5%,沉积气压5 k Pa,热丝/基体间距8 mm。