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HFCVD法制备SiC薄膜工艺 被引量:5
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作者 赵武 王雪文 +1 位作者 邓周虎 张志勇 《西北大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2002年第3期247-250,共4页
分析研究了热丝化学汽相沉积 (HFCVD)法工艺参数的变化对 Si C薄膜质量的影响。结果表明 ,合理的选取工艺参数 ,可在较低温度 (70 0~ 90 0℃ )下 ,沿 Si(1 1 1 )晶向异质生长出高质量的准晶 Si C薄膜。
关键词 hfcvd SIC薄膜 低温生长 碳化硅薄膜 准晶 热丝化学 制备工艺 半导体材料
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HFCVD法制备SiC薄膜的研究
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作者 黄灿灿 李家贵 惠东 《科学技术创新》 2018年第32期24-25,共2页
用热丝化学汽相淀积法以硅烷、甲烷、氢气为源气,在低温下沿Si(111)晶面异质生长SiC薄膜。用XRD法对生成的SiC薄膜进行分析检测。实验表明在钨丝温度为1900℃,钨丝到衬底的距离为0.8cm时可生成优质的SiC薄膜。
关键词 热丝化学(hfcvd) 碳化硅 薄膜
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掺硼金刚石薄膜电极的制备及电化学特性 被引量:3
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作者 王帅 檀柏梅 +2 位作者 高宝红 张男男 安卫静 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2015年第5期378-381,共4页
通过热丝化学气相沉积(HFCVD)技术,在钽衬底上制备了p型掺硼金刚石(BDD)薄膜电极。利用原子力显微镜(AFM)分析丙酮体积分数对BDD电极的表面形貌和成膜质量的影响,利用循环伏安法(CV)分析BDD电极在不同种类、不同浓度电解液中的电化学特... 通过热丝化学气相沉积(HFCVD)技术,在钽衬底上制备了p型掺硼金刚石(BDD)薄膜电极。利用原子力显微镜(AFM)分析丙酮体积分数对BDD电极的表面形貌和成膜质量的影响,利用循环伏安法(CV)分析BDD电极在不同种类、不同浓度电解液中的电化学特性。结果表明,当丙酮体积分数为1.5%时,金刚石薄膜表现出优异的附着力,并且BDD电极具有稳定的电化学特性。采用制备的BDD电极,在不同浓度的KCl和KH2PO4电解液中使用,得出电势窗口均在3.4 V以上。 展开更多
关键词 掺硼金钢石(BDD)薄膜电极 热丝化学(hfcvd) 循环伏安(CV) 丙酮体分数 化学窗口
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SiGe HBT发射极台面湿法腐蚀技术研究
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作者 熊小义 刘志农 +6 位作者 张伟 付玉霞 黄文韬 刘志弘 陈长春 窦维治 钱佩信 《微纳电子技术》 CAS 2003年第10期15-16,41,共3页
在SiGeHBT的制造工艺中,为了防止干法刻蚀发射极台面对外基区表面造成损伤,从而导致SiGeHBT小电流下较大漏电问题,对SiGeHBT发射极台面的湿法腐蚀技术进行了研究。通过改变超声功率、腐蚀液温度,从中获得了较为理想的腐蚀条件。
关键词 SIGE HBT 制造工艺 湿腐蚀 异质结双极晶体管 超高真空低压化学 硅锗
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Preparation of free-standing diamond films for high frequency SAW devices
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作者 刘健敏 夏义本 +5 位作者 王林军 苏青峰 赵平 徐闰 彭鸿雁 史伟民 《中国有色金属学会会刊:英文版》 CSCD 2006年第B01期298-301,共4页
Free-standing diamond films were prepared by hot filament chemical vapor deposition (HFCVD) method under different conditions. Inter-digital transducers (IDTs) were formed on the nucleation sides of free-standing diam... Free-standing diamond films were prepared by hot filament chemical vapor deposition (HFCVD) method under different conditions. Inter-digital transducers (IDTs) were formed on the nucleation sides of free-standing diamond films by photolithography technique. Then piezoelectric ZnO films were deposited by radio-frequency(RF) reactive magnetron sputtering to obtain the ZnO/diamond film structures. Surface morphologies of the nucleation sides and the IDTs were characterized by means of scanning electron microscopy (SEM), atomic force microscope (AFM) and optical microscopy. The results indicate that the surfaces of nucleation sides are very smooth and the IDTs are of high quality without discontinuity and short circuit phenomenon. Raman spectra show the sharp diamond feature peak at about 1 334 cm?1 and the small amount of non-diamond carbon in the nucleation side. X-ray diffraction (XRD) patterns of the structure of ZnO/diamond films show a strong diffraction peak of ZnO (002), which indicates that as-sputtered ZnO films are highly c-axis oriented. 展开更多
关键词 自立金刚石膜 化学 hfcvd 高频声表面波器件 ZNO
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真空蒸发、淀积、溅射、氧化与金属化工艺
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《电子科技文摘》 2000年第12期39-40,共2页
Y2000-62135-149 0020140采用高密度等离子体化学汽相淀积氧化物电介质的窄铝金属化过程中感应金属空隙形成机制=A mecha-nism of stress-indueed metaI void in narrow Aluminum-brised metallization with the HDP CVD oxide dielectr... Y2000-62135-149 0020140采用高密度等离子体化学汽相淀积氧化物电介质的窄铝金属化过程中感应金属空隙形成机制=A mecha-nism of stress-indueed metaI void in narrow Aluminum-brised metallization with the HDP CVD oxide dielectric[会,英]/Lee,S.G.& Oh,H.-S.//1999 IEEE Pro-ceedirigs of Internationai Interconnect Technology Con-ference.-149~151(EC) 展开更多
关键词 真空蒸发 金属化工艺 化学 高密度等离子体 形成机制 电介质 铝金属化 磁控溅射 氧化物 多层膜
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