热丝CVD系统的温度场及基底表面的温度分布

基于一简单模型和叠加原理，分别研究了单丝和多丝化学气相沉积（ＣＶＤ）系统的温度场及基底表面的温度分布。由此得到沉积区域基底表面的温度分布以及金刚石薄膜的生长率与基底温度的关系曲线而得到基底表面的生长率分布。

真空镀膜机改装成热丝CVD系统

通过重新设计和改造镀膜室 ,增添新引线和引进进气系统 ,将蒸发镀膜装置改装成新型热丝 CVD(化学气相沉积 )系统 .性能参数测试结果表明 ,改装后的装置完全达到化学气相沉积系统的要求 ,能进行金刚石、BCN材料等物质的化学气相沉积 ,同时也完好地保留了原有真空镀膜的功能 .

等离子体预处理提高金刚石薄膜／基体间结合力

采用等离子体预处理技术和优化的金刚石薄膜沉积工艺，以期为金刚石薄膜涂层工具的制备开发一种新的实用易行的表面预处理方法。等离子体预处理和金刚石薄膜沉积都在自行研制的热丝CVD系统中进行的。等离子体预处理是在脱炭气氛中进行，基体温度控制在硬质合金的再结晶温度范围内，处理总时间为2h。