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题名热压印技术制作纳米光栅
被引量:2
- 1
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作者
熊瑛
刘刚
田扬超
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机构
中国科学技术大学国家同步辐射实验室
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出处
《微细加工技术》
EI
2008年第4期25-26,31,共3页
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文摘
通过分析脱模过程的摩擦力,讨论了模具表面处理工艺与压模质量的关系,给出了降低脱膜过程摩擦力的工艺方法。实验结果表明,用类聚四氟乙烯膜作为脱模剂能大大减小模具表面与聚合物表面的摩擦力。研究了压模、脱模工艺参数对实验结果的影响,基于HEX-02塑铸系统,真空条件下,在压模温度为195℃,模压压强为8 MPa的环境下,利用热压印技术在PMMA薄膜上复制出周期为120 nm的纳米光栅。
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关键词
纳米光栅
热压印技术
PMMA
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Keywords
nano-grating
hot embossing
PM MA
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分类号
TN405
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名热压印刻蚀技术
被引量:1
- 2
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作者
章国明
邵会波
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机构
首都师范大学化学系
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出处
《纳米科技》
2005年第5期18-22,共5页
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基金
国家973(项目编号2001CB6105)
国家自然科学基金(项目编号90301006).
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文摘
纳米压印技术是一种高分辨率、廉价、高效的纳米结构制备技术。它既继承了传统光刻技术所具有的并行性,又同时拥有传统光刻技术不易达到的纳米结构制备能力,这为今后纳米结构的广泛应用提供了良好的条件。文章介绍了纳米热压印技术中核心工艺流程,包括:模板的制备、抗粘层的制备、压印过程中温度与压力的影响、反应离子刻蚀,并且给出了利用纳米热压印技术制备的光栅结构,最后展望了纳米压印技术的前景。
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关键词
纳米压印技术
热压印技术
纳米结构制备
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Keywords
nanoimprint
hot embossing
nano structure fabrication
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分类号
TG17
[金属学及工艺—金属表面处理]
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题名热压印刻蚀技术
被引量:9
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作者
陈芳
高宏军
刘忠范
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机构
北京大学化学与分子工程学院
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出处
《微纳电子技术》
CAS
2004年第10期1-9,23,共10页
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基金
国家重点基础研究发展计划(973)
纳电子运算器材料的表征与性能基础研究(2001CB6105)
国家自然科学基金重大研究计划重点项目"STM热化学烧孔存储技术及材料研究"(9031006)
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文摘
纳米压印刻蚀技术是通过压模的方法实现纳米结构批量复制的。这一技术具有高分辨、高效率和低成本的优点。它与现行的光学刻蚀技术流程相似,具有较好的兼容性与继承性。详细介绍了热压印刻蚀技术的核心工艺步骤:压印模板的制备、热压印胶的选择、压模和撤模、反应离子刻蚀以及热压印过程中的聚合物流动机理,探讨了热压印刻蚀技术中的基础科学问题。还分析了纳米压印刻蚀技术的研究现状,展望了纳米压印刻蚀技术的应用前景。
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关键词
纳米压印刻蚀技术
热压印刻蚀技术
纳米结构
批量复制
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Keywords
nanoimprint lithography
hot embossing lithography
nanostructure
mass replicate
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分类号
TN405
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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