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微型制造中的掩膜快速成型技术 被引量:5
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作者 于殿泓 劳奇成 +1 位作者 卢秉恒 山本昌彦 《机械设计与制造工程》 2000年第4期27-29,共3页
采用离散点曝光方式来制作微型构造物的光固化快速成型法 ,其成型时间长 ,这一问题是制约微型光固化快速成型技术迅速推广应用的主要因素之一。为探索解决此问题的途径 ,提出了掩膜成型方案 ,设计制作了实验装置 ,用该装置制作了掩膜 ,... 采用离散点曝光方式来制作微型构造物的光固化快速成型法 ,其成型时间长 ,这一问题是制约微型光固化快速成型技术迅速推广应用的主要因素之一。为探索解决此问题的途径 ,提出了掩膜成型方案 ,设计制作了实验装置 ,用该装置制作了掩膜 ,并利用此掩膜进行了光固化实验。结果表明 ,此方案可大幅缩短成型时间 。 展开更多
关键词 掩膜快速成型 微型制造 热转印技术 热敏色带
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