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关于硅基片硬质掩膜形成的可行性研究
1
作者 新梅 《大连民族学院学报》 CAS 2001年第3期7-9,共3页
通过实验对热氧化工艺中的两种不同方法，即干氧氧化和水汽氧化进行了比较研究，证明了利用这种工艺形成硅基片硬质掩膜的可行性.
关键词 硅基片 硬质掩膜 可行性 热氧化工艺 干氧氧化 水汽氧化 热生长二氧化硅法 半导体工艺
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