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多晶硅薄膜晶体管泄漏电流建模
被引量:
1
1
作者
胡云峰
李斌
《电子器件》
CAS
2008年第4期1104-1108,共5页
泄漏电流是多晶硅薄膜晶体管应用的一个主要问题,多晶硅薄膜晶体管泄漏电流的建模对集成多晶硅薄膜晶体管设计和工艺改进具有重要意义。本文以陷阱辅助热电子场致发射理论为基础,通过对物理模型的近似处理,提出了一个在大的栅压范围和...
泄漏电流是多晶硅薄膜晶体管应用的一个主要问题,多晶硅薄膜晶体管泄漏电流的建模对集成多晶硅薄膜晶体管设计和工艺改进具有重要意义。本文以陷阱辅助热电子场致发射理论为基础,通过对物理模型的近似处理,提出了一个在大的栅压范围和温度范围内与实验数据吻合较好的多晶硅薄膜晶体管泄漏电流解析模型。模型适合于电路仿真器。
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关键词
多晶硅薄膜晶体管
泄漏电流
热电子场致发射
解析模型
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职称材料
题名
多晶硅薄膜晶体管泄漏电流建模
被引量:
1
1
作者
胡云峰
李斌
机构
华南理工大学微电子研究所
出处
《电子器件》
CAS
2008年第4期1104-1108,共5页
基金
国家自然科学基金资助(60776020)
文摘
泄漏电流是多晶硅薄膜晶体管应用的一个主要问题,多晶硅薄膜晶体管泄漏电流的建模对集成多晶硅薄膜晶体管设计和工艺改进具有重要意义。本文以陷阱辅助热电子场致发射理论为基础,通过对物理模型的近似处理,提出了一个在大的栅压范围和温度范围内与实验数据吻合较好的多晶硅薄膜晶体管泄漏电流解析模型。模型适合于电路仿真器。
关键词
多晶硅薄膜晶体管
泄漏电流
热电子场致发射
解析模型
Keywords
p-Si TFT
leakage current
thermionic field emission
analytical model
分类号
TN44 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
多晶硅薄膜晶体管泄漏电流建模
胡云峰
李斌
《电子器件》
CAS
2008
1
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