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热铁盘法抛光CVD金刚石的微观表面研究 被引量:2
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作者 马泳涛 张建立 +1 位作者 李钝 马胜钢 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2008年第4期57-61,65,共6页
用原子力显微镜对热铁盘法抛光CVD金刚石达到R_a0.016μm的表面进行观察。在微观表面重现的基础上,对不同方向的表面粗糙度进行探测。发现抛光后的金刚石表面的粗糙度呈现出一定的方向性,最大粗糙度和最小粗糙度方向,两个方向相互垂直... 用原子力显微镜对热铁盘法抛光CVD金刚石达到R_a0.016μm的表面进行观察。在微观表面重现的基础上,对不同方向的表面粗糙度进行探测。发现抛光后的金刚石表面的粗糙度呈现出一定的方向性,最大粗糙度和最小粗糙度方向,两个方向相互垂直。三维形貌图显示,金刚石表面存在较少数量的由点到凸峰,且较大凸峰的高度在50~60 nm之间,是较小凸峰高度的2~3倍。影响表面粗糙度值的因素不仅有表面凸峰的高度,还应考虑表面凸峰的数量和方向性。这种表面特征与抛光时采用的直压式运动方式有着直接联系。 展开更多
关键词 热铁盘法 CVD金刚石 抛光 微观表面
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