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中国东部几个地区新生代玄武岩中单斜辉石-熔体平衡温压——兼论幔源包体的成因 被引量:8
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作者 李天福 马鸿文 《岩石矿物学杂志》 CAS CSCD 北大核心 2002年第1期11-23,共13页
以中国东部宽甸、汉诺坝和明溪含有幔源包体的新生代玄武岩中的单斜辉石斑 (巨 )晶为研究对象 ,采用最新的单斜辉石 -熔体平衡温压计对单斜辉石斑 (巨 )晶 -熔体进行了平衡温压计算。结果表明 ,碱性玄武岩中的单斜辉石斑晶结晶温度和压... 以中国东部宽甸、汉诺坝和明溪含有幔源包体的新生代玄武岩中的单斜辉石斑 (巨 )晶为研究对象 ,采用最新的单斜辉石 -熔体平衡温压计对单斜辉石斑 (巨 )晶 -熔体进行了平衡温压计算。结果表明 ,碱性玄武岩中的单斜辉石斑晶结晶温度和压力高于共生的亚碱性玄武岩中的单斜辉石斑晶 ,单斜辉石巨晶的结晶温度和压力高于单斜辉石斑晶。这说明碱性玄武岩的形成深度大于亚碱性玄武岩 ,单斜辉石巨晶是更高压力下的结晶产物 ,单斜辉石斑晶在岩浆上升的不同深度均有晶出。回归分析表明 ,尽管携带幔源包体的玄武岩浆上升速度较快 ,但并不是绝热上升。单斜辉石斑 (巨 )晶的结晶温压条件与同一地点幔源包体平衡温压条件的对比表明 ,单斜辉石巨晶和碱性玄武岩中的部分单斜辉石斑 (巨 )晶的结晶温压大于幔源包体的平衡温压 ,表明了包体寄主岩浆的来源深度大于包体的深度。因此 ,幔源包体是寄主岩浆上升途中捕虏的上地幔碎块 ,而非寄主岩浆形成源区的残留体。 展开更多
关键词 中国东部 新生代 玄武岩 单斜辉石斑晶 幔源包体 单斜辉石-熔体平衡 温压计
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Sn、Fe、W、Pb和Zn在花岗岩熔体及共存流体相之间的分配实验研究:850℃和400MPa 被引量:10
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作者 王玉荣 H.T.Hoselton I-Ming Chou 《地球化学》 CAS CSCD 北大核心 2007年第4期413-418,共6页
本实验的目的在于了解花岗岩岩浆演化过程中,F/Cl在介质中的不同比值对Sn、Fe、W、Pb和Zn等元素从岩浆熔体进入超临界水热流体相中的影响。采用天然花岗岩为原始样品,实验在大型内加热装置容器(Harwood Engineering Co.Inc.)中进行。实... 本实验的目的在于了解花岗岩岩浆演化过程中,F/Cl在介质中的不同比值对Sn、Fe、W、Pb和Zn等元素从岩浆熔体进入超临界水热流体相中的影响。采用天然花岗岩为原始样品,实验在大型内加热装置容器(Harwood Engineering Co.Inc.)中进行。实验条件为850℃,400MPa,fO2=2.1×10-13(NNO),恒温约120~128h。固/液比值≈1,固样质量约250mg,Ar为压力介质。实验结果显示,介质中F/Cl比值变化对W的分配系数影响不大。而其他元素均随Cl浓度增高,分配系数增大,并有以下顺序:DV/LZn>DV/LFe>DV/LSn>。通常认为四价Sn较为稳定并与F关系密切,而本实验显示,二价Sn可能较为稳定并与Cl关系密切。在快速淬火过程中,沉淀在金管壁上的玻璃碎屑富集了较多的成矿元素,且观察到玻璃包裹体及盐类包裹体。 展开更多
关键词 流体-熔体平衡 元素分配系数 实验研究
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包边注塑的浇口位置对黏合撕裂强度的影响
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作者 王乾廷 刘琼 +1 位作者 刘贤平 陈文哲 《合肥工业大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2013年第1期24-28,共5页
针对汽车玻璃塑料包边成型生产中易出现黏合撕裂强度不足的问题,文章研究了浇口位置的设定方法,根据生产中玻璃的形态和塑料包边断面的变化情况,建立包边注塑通用简化模型;根据玻璃嵌件的物理特性,设定熔体与玻璃、模具之间的边界条件,... 针对汽车玻璃塑料包边成型生产中易出现黏合撕裂强度不足的问题,文章研究了浇口位置的设定方法,根据生产中玻璃的形态和塑料包边断面的变化情况,建立包边注塑通用简化模型;根据玻璃嵌件的物理特性,设定熔体与玻璃、模具之间的边界条件,建立传递方程;分别运用数值计算和试验方法得到沿流道方向和包边横截面上的温度和压力分布,分析不同浇口位置对黏合撕裂强度的影响。结果表明,在综合考虑玻璃几何形状的前提下,在位于曲率变化较大的位置附近设定浇口,有利于保障压力平衡且减少注射和保压阶段温度的波动,对包边注塑的浇口设计和工艺、模具设计有指导作用。 展开更多
关键词 包边玻璃 注塑成型 浇口位置 撕裂强度 熔体平衡
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Elimination of phosphorus vaporizing from molten silicon at finite reduced pressure 被引量:5
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作者 郑淞生 Jafar SAFARIAN +3 位作者 Seongho SEOK Sungwook KIM Merete TANGSTAD 罗学涛 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第3期697-702,共6页
Elimination of phosphorus vaporizing from silicon was investigated. Si-P alloy made from electronic grade silicon was used. All the samples were analyzed by GD-MS. Theory calculation determines that phosphorus evapora... Elimination of phosphorus vaporizing from silicon was investigated. Si-P alloy made from electronic grade silicon was used. All the samples were analyzed by GD-MS. Theory calculation determines that phosphorus evaporates from molten silicon as gas species P and P2 at a finite reduced pressure. The experimental results show that phosphorus mass fraction can be decreased from 0.046% (460ppmw) to around 0.001% (10ppmw) under the condition of temperature 1 873 K, chamber pressure 0.6-0.8 Pa, holding time 1 h. Both experimental data and calculation results agree that at high phosphorus concentration, phosphorus removal is quite dependent on high chamber pressure while it becomes independent on low chamber pressure. The reason is that phosphorus evaporates from molten silicon as gas species P2 at a relatively high phosphorus concentration, while gas species P will be dominated in its vapour at low phosphorus content. 展开更多
关键词 phosphorus concentration molten silicon equilibrium partial pressure TEMPERATURE chamber pressure
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