TN305 2000010690线列熔融石英微透镜阵列的光刻和氩离子束刻蚀制备=Fabrication of linear fused quartz microlensarray using photolithography and ar ion beametching[刊,中]/张新宇,易新建,赵兴荣,麦志洪,何苗（华中理工大学光电...TN305 2000010690线列熔融石英微透镜阵列的光刻和氩离子束刻蚀制备=Fabrication of linear fused quartz microlensarray using photolithography and ar ion beametching[刊,中]/张新宇,易新建,赵兴荣,麦志洪,何苗（华中理工大学光电子工程系.湖北,武汉（430074））,刘鲁勤（航天部2院25所.北京（100584））//量子电子学报.—1998,15（1）.—66-73采用光刻和熔融成形法制备线列长方形拱面光致抗蚀剂微透镜图形,采用固化技术对其作重整化处理,采用氩离子（Ar<sup>+</sup>）束刻蚀有效地实现线列长方形拱面光致抗蚀剂微透镜图形阵列向熔融石英（SiO<sub>2</sub>）基片上转移。实验结果证实,光刻/氩离子束刻蚀技术适用于制备具有良好的均匀性和光学质量的单片熔融石英微透镜阵列器件,此技术对于制备与大面阵凝视焦平面成像探测器相匹配的大面阵微透镜阵列具有重要意义。图10参5（于晓光）展开更多
文摘TN305 2000010690线列熔融石英微透镜阵列的光刻和氩离子束刻蚀制备=Fabrication of linear fused quartz microlensarray using photolithography and ar ion beametching[刊,中]/张新宇,易新建,赵兴荣,麦志洪,何苗（华中理工大学光电子工程系.湖北,武汉（430074））,刘鲁勤（航天部2院25所.北京（100584））//量子电子学报.—1998,15（1）.—66-73采用光刻和熔融成形法制备线列长方形拱面光致抗蚀剂微透镜图形,采用固化技术对其作重整化处理,采用氩离子（Ar<sup>+</sup>）束刻蚀有效地实现线列长方形拱面光致抗蚀剂微透镜图形阵列向熔融石英（SiO<sub>2</sub>）基片上转移。实验结果证实,光刻/氩离子束刻蚀技术适用于制备具有良好的均匀性和光学质量的单片熔融石英微透镜阵列器件,此技术对于制备与大面阵凝视焦平面成像探测器相匹配的大面阵微透镜阵列具有重要意义。图10参5（于晓光）
