片状吸收剂及吸波涂层研究现状

磁损耗型微波吸收剂的吸波性能正比于其复磁导率,传统颗粒状吸收剂受制于Snoek极限的限制无法继续提升其磁导率。微波磁损耗吸收剂呈片状时由于各向异性可突破Snoek极限达到更高的磁导率,吸波性能提高;包覆措施在改善阻抗匹配的同时有助于提高吸收剂的抗氧化性能。涂层中片状磁性吸收剂的定向排列,可进一步提升涂层磁导率,进而改善涂层吸波性能。

电镀工艺条件变化对片状铁吸收剂吸波性能的影响

通过电镀法制备片状磁性吸收剂，用SEM、XRD等手段对其进行表征。用网络分析仪测试了不同工艺条件下吸收剂样品2～18GHz的电磁参数，并结合晶粒尺寸因素研究了不同工艺条件下对吸收剂电磁参数的影响．结果表明，不同的工艺条件对吸收剂电磁参数的影响具有规律性，可通过合理配置工艺参数来提高吸收剂的吸波性能。

表面处理工艺对片状磁性吸收剂吸波性能的影响

首次采用电镀法制备片状磁性吸收剂,用SEM、XRD等手段对其进行表征。为减少吸收剂表面氧化,提高吸收剂吸波性能,采用溶胶-凝胶法和磷化法两种不同的表面处理工艺对吸收剂进行处理。用网络分析仪测试了未处理吸收剂样品和处理过的吸收剂样品2～18GHz的电磁参数,并对比了其处理前后的SEM照片。结果表明:通过表面处理,片状吸收剂的磁导率有所上升,进而能够提高其吸波性能;比较这两种表面处理工艺,溶胶-凝胶法要优于磷化法。

电镀法制备片状磁性吸收剂

通过电镀法制备片状磁性吸收剂,用SEM、XRD等手段对其进行表征,用网络分析仪测试吸收剂样品在2～18GHz的电磁参数,根据电磁参数计算反射率。参数的测试和反射率计算结果表明,制备出的片状铁吸收剂性能优于传统的羰基铁粉吸收剂,是一种非常有潜力的吸收剂。

球磨时间对片状铁磁性吸收剂吸波性能的影响

通过电镀法制备片状铁磁性吸收剂,用SEM、XRD等手段对其进行表征。用网络分析仪测试了不同球磨时间下吸收剂样品在2～18 GHz的电磁参数,并结合晶粒尺寸因素研究了球磨时间对吸收剂电磁参数的影响,对比了不同球磨时间下吸收剂样品的SEM照片。结果表明:随着球磨时间的增加,片状吸收剂的晶粒尺寸减小,厚度变薄,低频磁导率有所上升,进而能够提高其低频吸波性能。

有机氟包覆片状FeSiAl吸收剂及其吸波性能

以十三氟辛基三乙氧基硅烷(FAS)为硅源,采用水解缩合法对片状FeSiAl吸收剂粒子进行表面接枝包覆,对片状FeSiAl粒子表面包覆前后的微观结构、包覆层成分、静磁性能和电磁性能进行了表征。结果表明:FAS成功地接枝在片状FeSiAl粒子表面形成薄层致密包覆层,包覆后的粒子仍保持较好的软磁性能。由于包覆层的电绝缘及低极化特性,吸收剂的介电常数可降低40%,而磁导率不受影响,从而使材料的阻抗匹配显著提升。当FAS的质量分数为3%,吸收剂的填充质量分数为76%的复合材料是3 mm厚度时,其反射损耗RL小于-3 dB时的吸收带宽从1.206 GHz(0.147~1.353 GHz)增加到1.922 GHz(0.147~2.069 GHz),最小损耗强度从-14.64 dB提升至-16.90 dB。

片状FeCoZr合金吸收剂吸波性能的正交实验

采用气雾化和机械球磨结合的方法制备片状FeCoZr合金磁粉吸收剂,利用正交实验综合研究了球磨时间、吸收剂粒径和含量对吸波材料在2～18GHz内吸波性能的影响。结果表明:在设计范围内,各因素对吸波材料反射损耗的影响顺序从大到小为:球磨时间、粒径和质量分数;获得的最佳工艺条件:球磨时间为15h、吸收剂粒径小于48μm及其质量分数为75%,从而实现了对吸波材料性能的优化设计。

取向吸波贴膜电磁性能研究

提高吸波材料的电磁性能,是新型电磁波吸收材料的重要研究内容。采用朗道-利夫希兹-吉尔伯特(LLG)方程、等效媒介理论和传输线理论,分别对随机取向和一致取向吸波贴膜的本征磁导率、等效磁导率和反射损耗进行了计算。计算结果表明当微波吸收剂一致取向时吸波材料的本征磁导率、等效磁导率和反射损耗均有显著提升。通过改变吸波贴膜内部吸收剂空间排布的方式,可以有效地提高吸波贴膜的电磁性能。针对流延法制备吸波贴膜的过程,对刮刀下流延浆料速度曲线和微波吸收剂取向之间的关系进行了分析,通过微波吸收剂的取向张量对吸波贴膜的取向程度进行了表征。通过改变流延过程中的物理参数,可以调控吸波贴膜的取向状态。