高度取向片状磁粉/聚合物复合膜的电磁噪声抑制特性分析

采用流延成型工艺制备了片状Fe-Si-Al磁粉/热塑性聚氨酯(TPU)系列复合膜,对样品的微观形貌、静态磁性能和复数磁导率进行了表征,利用微带线测试复合膜在0.3～8 GHz范围的传输/反射参数并计算获得功率损耗比,分析磁粉含量和复合膜厚度对近场噪声抑制性能的影响。结果表明,片状Fe-Si-Al磁粉在复合膜面内高度取向分布,复合膜具有显著的磁各向异性。随着磁粉含量的增加,复合膜的磁导率实部和虚部同时增大,并且功率损耗比相应地大幅提高;磁粉含量85 wt%时,复合膜厚度在0.8 mm以内增加时可有效提高其功率损耗比,但超出0.8mm后其功率损耗比基本不随厚度变化;提高复合膜的磁导率有利于在较薄厚度下实现较好的近场电磁噪声抑制效果。

片状Fe-Si-Al-Cr磁粉复合材料的传导噪声抑制特性研究

通过压延工艺制备了含有片状Fe-Si—A1-Cr合金磁粉的电磁噪声抑制片，采用微带线法表征了样品的传导噪声抑制特性，并研究了磁粉填充浓度和样品厚度对噪声抑制特性的影响。结果表明：材料的传导噪声抑制特性随着磁粉填充浓度或样品厚度的增加而提高，其中填充浓度为85％（质量分数）厚度为1mm的样品在1．86～6GHz范围内功率损耗比高达90％以上，显示出优异的噪声抑制性能。

片状钡铁氧体纳米磁粉的研究及应用

介绍了高密度磁记录媒体用的片状、替代式钡铁氧体纳米磁粉制备方法及其磁特性。分析、讨论了高密度记录对记录媒体磁特性的要求。介绍了最近研制的、先进的钡铁氧体纳米粉磁带及软磁盘的高密度录放特性。

磁场取向片状铁硅铝磁粉复合膜制备及其电磁特性

结合旋转磁场取向和流延工艺制备了片状Fe-Si-Al磁粉/聚乙烯醇缩丁醛酯(PVB)系列复合膜,对样品的微观形貌、静态和动态磁性能进行了表征,分析取向磁场对复合膜的磁导率(μeff)和品质因数(Q)影响。结果表明:片状Fe-Si-Al磁粉在复合膜面内高度取向分布,复合膜具有显著的磁各向异性。随着取向磁场从0增大至40 Oe时,复合膜的有效磁导率和品质因数均有较大幅度提高,但进一步增至60 Oe时二者的提高幅度明显减小;复合膜磁粉含量为86 wt%、取向磁场大小为60 Oe时,复合膜的有效磁导率(1 MHz处)和品质因数峰值分别为166和29.8;随着取向磁场的增大,复合膜直流偏置性能略有降低;高度取向片状Fe-Si-Al磁粉/聚合物复合膜表现出较好的高频电磁性能。

压力取向粘结塑磁的制作技术

本文重点介绍了在无取向磁场条件下,利用特殊制作的片状磁粉,经混炼、压延、不经烧结,直接通过压力使磁粉定向,生产高性能塑磁的工艺技术.

片式电感用FeSiAl磁芯材料研制

磁芯材料是决定片式电感元件性能的关键。本文采用球磨工艺制备片状FeSiAl磁粉,并对片状FeSiAl磁粉表面进行Si O2包覆处理。结果表明,10h球磨时间制备的片状Fe Si Al扁平化效果好;片状Fe Si Al磁粉表面包覆Si O2绝缘层后的磁损耗降低,可用作片式功率电感的磁芯。