物理气相沉积法制备TiN薄膜的性能及应用研究

本文主要介绍了物理气相沉积法(磁控溅射法和多弧离子镀法)制备Ti N薄膜的工艺,分析了不同工艺参数对性能的影响,列举了在切削工具、机械加工、航空、医学以及微电子领域的应用,最后对Ti N薄膜的发展趋势进行了展望。

“物理气相沉积法加晶界扩散法”技术成功转化并落地包头

从包头稀土高新区了解,中国科学院宁波材料所研究员宋振纶博士团队成功研发出“物理气相沉积法加晶界扩散法”技术,可大幅提高稀土磁材料矫顽力。目前,技术成果转化已在包头希迪瑞科技有限公司落地,并顺利实现中试生产。矫顽力是永磁材料磁性大小和保持时间长短的决定性因素。随着稀土新材料磁体需求的急速增加,市场对磁体性能的需求不再只局限于高剩磁、高磁能积方面,能否进一步提高材料的矫顽力成为迈向高端应用的关键因素。

物理气相沉积法制备镁纳米线的工艺及机理

利用物理气相沉积法成功制备出了镁纳米线,并研究了镁纳米线的制备工艺,提出了其形成机理。结果发现,在特定的蒸发温度和沉积距离下,可制备得到不同尺寸的镁纳米线。随蒸发温度和沉积距离增加,镁纳米线随之变得更粗更长,并最终转变为镁微米颗粒。根据实验结果,本文绘制了一个镁纳米线在不同蒸发温度和沉积距离下的分布图。同时研究还发现镁纳米线是沿着[1120]这一晶体学方向生长,并提出了镁纳米线沿着[1120]方向生长的生长机理。

等离子体化学气相沉积氮化钛

本文报导中试规模的直流等离子体化学气相沉积氮化钛工艺及设备;对TiN膜的硬度、生长速率、显微组织、晶体结构以及TiN膜的成分进行的研究;经测试及实际应用证明,刃具、模具、轴承等镀TiN后寿命明显提高。

低温化学气相沉积 超硬镀层初期工艺试验成功

上海市科技结合生产十四项重点工业会战项目之一,模具技术改造项目中的一个攻关课题《模具表面TiC超硬镀层技术的研究与应用》,由上海轻工热处理厂和上海有色金属研究所联合承担攻关任务。初期工艺试验已于一九八九年三季度完成。

混合物理化学气相沉积法制备MgB_2单晶纳米晶片的研究

利用混合物理化学气相沉积法在石墨衬底上制备出了晶形为六角结构、厚度不同、径向尺寸不一的Mg B2单晶纳米晶片.利用纳米定向转移技术将此晶片转移到了碳支持膜铜网上,以便对其精细结构等物性进行表征.电输运测量和磁性测量结果都表明晶片具有超导电性:T c onset=38K,T c(0)=33K.扫描电子显微镜图像表明,晶片表面平整、厚度分布在几个纳米到200 nm之间,宽度从几微米到上百微米;高分辨透射电镜图像显示出晶片具有周期性晶格条纹.选区电子衍射数据与Mg B2已有的单晶衍射数据相符.这些测量结果证实了其确为高质量单晶Mg B2超导纳米晶片.本文不仅提出了一种全新的制备单晶Mg B2的方法,也观察到了纳米尺度Mg B2单晶的零电阻现象,为后续的磁通钉扎、纳米力学性能等领域的深入研究提供了合适的素材.

金刚石膜的性能、用途和制备方法

金刚石外表瑰丽、坚不可摧,自古以来就受到人们的喜爱.随着科学和技术的进步,对金刚石的认识又令人惊叹:金刚石具有多种极为为优异的物理化学性质,其广阔的应用前景将远远超过观赏价值,可以毫不夸张地说,金刚石的应用量将成为一个国家工业文明的重要标志.

金属基陶瓷涂层的制备、应用及发展

本文综述了金属基陶瓷涂层的概况、制备方法及应用,并指出了陶瓷涂层今后研究的发展方向。

CoO/CdS纳米复合材料的制备及其光催化降解亚甲基蓝的研究

采用物理气相沉积法制备Co O/Cd S纳米复合材料,通过扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、X射线能谱仪(EDS)和紫外-可见分光光度计(UV-Vis)对其形貌、结构和光吸收性质进行表征,并以亚甲基蓝溶液的光催化降解为探针反应,在可见光下考察Co O/Cd S纳米复合材料的光催化性能。结果表明,Co O/Cd S纳米复合材料的光催化活性显著高于Cd S纳米颗粒,100 min后亚甲基蓝降解率达到92.4%。

并五苯晶体薄膜的生长

用物理气相沉积法在水平系统中生长有机半导体并五苯晶体薄膜 .用 1 0～ 3 0 mg的源生长出 2 0～ 3 0 mm2 大小的适合特性测量和器件制备的晶体薄膜 .利用 TEM,SEM和

EBPVD金属/陶瓷微层复合材料的研究与应用

介绍了电子束物理气相沉积 (EBPVD)法制备微层复合材料的优点 ,详述了其四种不同材料体系的设计思想 。

二维纳米结构--氧化铋纳米片的制备与表征

利用物理气相沉积法，在氲气和氧气保护下将氧化铋粉末在水平管式炉中常压加热至1050℃，然后降温沉积，在硅衬底上得到了大量具有规则矩形外形的二维纳米结构——片状氧化铋．纳米片的长约1200mm，宽约300nm，厚约10～15nm．采用扫描电镜（SEM），X-ray能谱仪（EDS）、高分辨透射电镜（HRTEM）等测试手段分析了样品的形貌、成分及微结构．研究分析了衬底放置方式对产物沉积量的影响．

TiB_2涂层制备及其性能的研究进展

TiB2涂层以其耐磨、耐高温等优异性能及广阔的应用前景得到广泛关注。本文综述了国内外近年来TiB2涂层制备方法及其性能的研究进展,并着重对激光表面改性和热喷涂制备TiB2涂层进行了介绍,指出了目前TiB2涂层制备中存在的问题及今后的研究方向。

钢铝复合板材的制备研究及展望

采用物理气相沉积法(在铝表面沉积硅)制备了钢铝复合板材,并采用扫描电镜对材料的微观结合界面进行分析,探讨热处理后复合板材界面处结合层中间化合物(IMC)的生长规律。脆性IMC在热处理后的长大已成为制约钢铝复合板材的应用瓶颈,在铝表面沉积硅可以很好地抑制IMC在热处理过程的长大,对于进一步拓宽钢铝复合板材的应用领域有积极的作用。

功能梯度材料的研究现状与展望

本文阐述了功能梯度材料的概念,并从功能材料的设计、制备工艺、应用领域这三个方面来介绍功能梯度材料的研究现状,并简述其原理和优缺点,同时展望功能梯度材料的发展方向。

纳米片状铝粉的制备及其发展动态

纳米片状铝粉是新发展起来的新型金属颜料,它具有粒径分布窄、良好的金属光泽性、遮盖率和在涂料中分布均匀等优点而倍受人们的关注。本文阐述的物理气相沉积法(PVD法)是目前制备纳米片状铝粉的主要方法。

PVD改性RB-SiC表面缺陷研究

为获得高表面质量的PVD改性RB-SiC反射镜,解决实际加工中出现的表面缺陷问题,对缺陷的形成机理及处理方法进行了研究。根据Preston假设设计相关试验,推测表面缺陷是由于PVD改性层中的大颗粒结晶受到较大冲击,从而使大颗粒结晶剥落而非对其产生磨削作用而产生的。试验表明:过高的抛光速度或过高的抛光压力会造成改性层表面缺陷的产生,调整抛光的相对速度及抛光压力等关键工艺参数,可在保持抛光效率的同时有效减少和避免表面缺陷问题的产生。经试验验证,当表面缺陷产生后,通过选择适当的相对速度和抛光压强,改性层去除0.7μm^1μm后,可有效修复缺陷,并且无新的表面缺陷产生。

制备条件对Bi_2Te_3薄膜导电性能的影响

通过物理气相沉积法在石英基底上于不同条件下制备出五种Bi_2Te_3薄膜,并且利用扫描电子显微镜和XRD对各薄膜样品进行表征,最后运用四探针测试法测试样品导电性能。结果表明:制备温度和沉积时间对Bi_2Te_3薄膜的表面形貌和样品膜的导电性能影响很大;制备温度越高、沉积时间越长,所制薄膜的均匀度及致密度越高、导电性越好。

非晶CS/RB纳米薄膜的荧光性质

采用低真空物理气相沉积法制备单组份氰基对称二苯代乙烯(CS)纳米薄膜和罗丹明B(RB)纳米薄膜以及CS/RB叠层纳米薄膜。使用荧光分光光度计、X射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)表征薄膜样品的荧光性质、结构和表面形貌。与粉末晶态样品相比,薄膜样品的荧光发射峰数量变多,发射波长范围拓宽到120 nm。有机小分子的非晶聚集态和纳米叠层结构的的纳米效应导致了样品的荧光性质的变化。

真空蒸发彩色镀膜显现手印技术

本文主要介绍在真空状态下利用蒸发技术显现出彩色手印的方法。