用汽相沉积法制作红外辐射膜材料

采用物理汽相沉积法设计制作了镁 /聚四氟乙烯沉积膜材料 ,并用红外辐射计对其红外辐射性能进行了测试 ,测得该材料在 1～ 3μm波段有较强的红外辐射 ,说明这种方法制作红外辐射烟火材料是可行的。

物理汽相生长并五苯晶体薄膜

用物理汽相沉积法在水平系统中生长有机半导体并五苯晶体薄膜。用 10～ 30毫克的源生长出 2 0～ 30mm2 大小的适合特性测量和器件制备的晶体薄膜。利用扫描电镜 (SEM )、透射电镜 (TEM )和X射线衍射仪 (XRD)

沉积方式对HfO_2薄膜激光损伤阈值的影响

分别采用电子束蒸镀、离子束辅助沉积、离子束反应辅助沉积、双离子束溅射技术制备了二氧化铪薄膜,研究了薄膜的光学特性、缺陷、残余应力、弱吸收和抗激光损伤阈值.发现离子束反应辅助沉积的二氧化铪薄膜具有低的缺陷密度和高的损伤阈值;双离子束溅射的二氧化铪薄膜具有高的折射率、高的残余应力和低的损伤阈值.对二氧化铪薄膜的损伤阈值与上述特性之间的依赖关系进行了讨论,发现残余应力是影响薄膜抗激光损伤阈值的一个重要原因.

SiC半导体在薄膜物理制备中的研究

作为新一代的半导体材料,SiC具有优良的化学物理性质,因此,SiC薄膜的制备工艺也越来越受到人们的关注。本文主要对当前SiC薄膜的物理制备工艺进行详细的研究介绍,并进一步总结讨论了各种制备工艺的优缺点。

超音速状态下整流罩红外窗口的选型问题研究

作为超音速状态下整流罩红外窗口玻璃，应具有优良的光学性能、机械性能、化学性能和热性能。从实际工程应用出发，介绍了该状态下红外窗口玻璃的选型及制作方案。

类金刚石薄膜的光学性能的研究

利用脉冲真空电弧镀的方法,在硅基底上沉积类金刚石薄膜,研究薄膜的光学性能、光学常数和离子能量关系。结果表明:不同的离子能量可以得到不同折射率的薄膜,无氢类金刚石薄膜的折射率在2.5～2.7之间变化;通过改变工艺条件来制备不同折射率的薄膜,和不同折射率的基底材料相互匹配;折射率和光学能隙随离子能量具有相反的变化趋势,和理论预测的趋势相一致;对于硅、锗等红外材料,要求的薄膜应具有1.8～2.1左右的折射率,因此提出一种基于物理汽相沉积和化学汽相沉积两种相互结合的方法,来降低薄膜的折射率,以达到和硅、锗等材料的折射率匹配。

微光像增强器阴极面板漏气点的有效控制

基于微光像增强器所使用的光学纤维面板是无数根玻璃光学纤维规则排列经特种工艺制成的传像光纤元件，其存在纤维泄漏缺陷，结合物理汽相沉积特性，采用新思路使用合适厚度的膜层材料在光纤面板与光电阴极层之间形成一隔离膜，可有效保护光电阴极稳定性，对纤维泄漏起到很好的堵漏效果，这对今后微光像增强器批量生产给予重要的指导意义。