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非制冷焦平面探测器牺牲层制备工艺研究
被引量:
4
1
作者
何雯瑾
杨培志
+3 位作者
太云见
杨春丽
袁俊
杨宇
《红外技术》
CSCD
北大核心
2006年第1期19-22,共4页
研究了牺牲层制备的工艺过程。通过对牺牲层材料选择、牺牲层图形化及牺牲层固化等工艺技术的研究,获得了图形质量较好的牺牲层样品。建立了优化的牺牲层制备工艺制度,为探测器的后续研究奠定了基础。
关键词
牺牲层制备
微桥结构
图形化
光敏型聚酰亚胺
下载PDF
职称材料
题名
非制冷焦平面探测器牺牲层制备工艺研究
被引量:
4
1
作者
何雯瑾
杨培志
太云见
杨春丽
袁俊
杨宇
机构
昆明物理研究所
云南大学
出处
《红外技术》
CSCD
北大核心
2006年第1期19-22,共4页
文摘
研究了牺牲层制备的工艺过程。通过对牺牲层材料选择、牺牲层图形化及牺牲层固化等工艺技术的研究,获得了图形质量较好的牺牲层样品。建立了优化的牺牲层制备工艺制度,为探测器的后续研究奠定了基础。
关键词
牺牲层制备
微桥结构
图形化
光敏型聚酰亚胺
Keywords
sacrificial layers fabrication
micro-bridge structure
micropatteming
photosensitive polyimide
分类号
TN215 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
非制冷焦平面探测器牺牲层制备工艺研究
何雯瑾
杨培志
太云见
杨春丽
袁俊
杨宇
《红外技术》
CSCD
北大核心
2006
4
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