王氏唇柱苣苔的离体培养及遗传稳定性

以王氏唇柱苣苔(Chirita wangiana)叶片为外植体进行组培离体快繁研究,并利用流式细胞术对组培苗进行遗传稳定性分析。结果表明:最佳初代诱导培养基为MS添加0.5 mg/L 6-BA+0.1 mg/L NAA;最适继代培养基为MS添加0.5 mg/L 6-BA+0.05 mg/L NAA;最适生根培养基为1/2 MS培养基添加0.5 mg/L IBA和15 g/L蔗糖,所有生根培养基获得的组培苗移栽驯化成活率达到92%以上。组织学切片检测表明,王氏唇柱苣苔叶片为外植体所形成芽体均为器官发生方式形成。流式细胞术检测表明,组培苗倍性没有变化,基因组大小与母本相比仅发生了1.86%的减少;染色体数目为2n=36,跟母本一致,植株形态特征上也无变异。研究结果可为王氏唇柱苣苔的园艺应用快速提供大量遗传稳定的种苗。