环氧基紫外负性光刻胶的特性、应用工艺与展望

环氧基紫外负性光刻胶(SU-8)是一种近几年发展起来的新型的光刻胶材料。它是一种双酚A酚醛缩水甘油醚环氧树脂溶解于GBL(γ-Butyrolactone)而形成的高分子有机聚合物胶体。SU-8胶作为一种光刻材料,由于其独特的光学性能,力学性能和化学性能等,在MEMS(Micro-electro-mechanic-sys-tem)研究领域正受到了越来越多的关注,目前已被广泛的应用于MEMS器件的制备中。本文介绍了它的结构性能以及发展前景并报道了我们在其加工工艺上的研究进展。

SHN-1型双叠氮-环化异戊橡胶类紫外负性光刻胶

光刻胶是电子工业微细加工中不可缺少的一种关键材料.它的发明和应用,促进了半导体集成电路的研制和生产. 第六个五年计划期间,我国从日本等国引进了不少集成电路生产线,所用的光刻胶品种主要是日本东京应用化学公司生产的OMR-83胶.我国于七十年代研究过这种类型的光刻胶,但产品未能达到OMR-83胶的水平.主要差距是性能不稳定,清洁度和批量一致性不能保证,操作宽容度小等.所以,引进的集成电路生产线仍需采用进口的OMR-83光刻胶.

国产Lift-Off光刻胶在空间用太阳电池中的应用

选用两种较为典型的国产Lift-Off光刻胶(A和B)进行了实验优化,并进行了电极蒸镀后的牢固度测试、电致发光测试和电性能测试。在牢固度测试中发现,A电池样品有掉栅现象,B电池样品没有出现掉栅现象。通过EL测试和电性能测试分析证明,A电池的电极与太阳电池基体存在局部的接触不良现象。通过实验筛选出了一种应用前景较好的B型号国产Lift-Off负性光刻胶,有望经过进一步验证和优化后逐步应用在空间用太阳电池生产中。