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银浆沾污引起的芯片损伤机理分析
1
作者
梁栋程
何志刚
+2 位作者
龚国虎
王淑杰
王晓敏
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
2018年第3期230-234,共5页
对两只塑封器件开封后进行内部目检,发现一只样品存在金属层损伤缺陷,另一只样品芯片表面有大量多余物。利用扫描电镜和能谱仪对缺陷部位和多余物进一步进行形貌观察和元素成分分析,结果表明金属层损伤部位有导电银浆残留物,损伤形貌明...
对两只塑封器件开封后进行内部目检,发现一只样品存在金属层损伤缺陷,另一只样品芯片表面有大量多余物。利用扫描电镜和能谱仪对缺陷部位和多余物进一步进行形貌观察和元素成分分析,结果表明金属层损伤部位有导电银浆残留物,损伤形貌明显为压应力造成,而芯片表面的大量多余物也含有导电银浆残留物,呈扁平状,局部区域有钝化层被压碎的形貌特征。根据微电子塑封封装工艺流程进行分析,认为芯片损伤机理为:粘接工艺控制不良导致导电银浆在芯片上残留,环氧塑封料固化过程中收缩产生的压应力通过银浆残留物将芯片金属层和钝化层压碎。
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关键词
金属层损伤
形貌观察
元素成分分析
银浆残留物
压应力
环氧塑封料固化
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职称材料
题名
银浆沾污引起的芯片损伤机理分析
1
作者
梁栋程
何志刚
龚国虎
王淑杰
王晓敏
机构
中国工程物理研究院计量测试中心
出处
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
2018年第3期230-234,共5页
文摘
对两只塑封器件开封后进行内部目检,发现一只样品存在金属层损伤缺陷,另一只样品芯片表面有大量多余物。利用扫描电镜和能谱仪对缺陷部位和多余物进一步进行形貌观察和元素成分分析,结果表明金属层损伤部位有导电银浆残留物,损伤形貌明显为压应力造成,而芯片表面的大量多余物也含有导电银浆残留物,呈扁平状,局部区域有钝化层被压碎的形貌特征。根据微电子塑封封装工艺流程进行分析,认为芯片损伤机理为:粘接工艺控制不良导致导电银浆在芯片上残留,环氧塑封料固化过程中收缩产生的压应力通过银浆残留物将芯片金属层和钝化层压碎。
关键词
金属层损伤
形貌观察
元素成分分析
银浆残留物
压应力
环氧塑封料固化
Keywords
metal layer damage
morphology observation
analysis of element composition
residual of silver paste
pressure stress
curing of epoxy molding compound
分类号
TN407 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
银浆沾污引起的芯片损伤机理分析
梁栋程
何志刚
龚国虎
王淑杰
王晓敏
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
2018
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