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专利介绍
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《上海涂料》 CAS 2004年第4期41-41,共1页
JP 2003-268305用于半导体的涂料清漆及由其所得耐热电绝缘涂膜:题述清漆含有(A)有重复链节(Q1COY1CO)m(Q2COY2CO)n和/或(Q3COY2CO)的聚苯并(?)唑母体,(B)热分解温度Td为200-400℃的有机化合物,以及可溶解或可分散A和B的有机溶剂。A的... JP 2003-268305用于半导体的涂料清漆及由其所得耐热电绝缘涂膜:题述清漆含有(A)有重复链节(Q1COY1CO)m(Q2COY2CO)n和/或(Q3COY2CO)的聚苯并(?)唑母体,(B)热分解温度Td为200-400℃的有机化合物,以及可溶解或可分散A和B的有机溶剂。A的重复链节中,Q1=NH(OR1)X(OR2) 展开更多
关键词 表面涂层 制备 设备 二氧化硅涂膜 聚酯树 水分散体 杀虫保乳胶漆 干粉外墙腻子 底材 环脂族酮 乙二醇醚酯
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