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可见光照射下Fe3+掺杂量对玻璃基TiO2薄膜亲水性能的影响
1
作者
陆文涛
赵青南
+3 位作者
王晓宏
常潇
董玉红
赵杰
《硅酸盐通报》
CAS
北大核心
2019年第10期3293-3301,共9页
采用溶胶-凝胶法在普通玻璃衬底上制备了不同Fe^3+掺杂量的TiO2薄膜。通过X射线光电子能谱仪(XPS)、X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、UV-Vis-NIR3600型紫外-可见分光光度计、CA-XP150型水接触角测试仪研究了不同Fe^3+掺...
采用溶胶-凝胶法在普通玻璃衬底上制备了不同Fe^3+掺杂量的TiO2薄膜。通过X射线光电子能谱仪(XPS)、X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、UV-Vis-NIR3600型紫外-可见分光光度计、CA-XP150型水接触角测试仪研究了不同Fe^3+掺杂量对TiO2薄膜微观结构、表面形貌、光学性能和亲水性能的影响。结果表明,所制备的不同Fe^3+掺杂量的TiO2薄膜均具有锐钛矿结构;随着Fe^3+掺杂量的增大,薄膜样品(镀膜玻璃)在可见光区的平均透过率从70.28%降低到61.45%。当薄膜中Fe^3+掺杂量为0.25mol%时,薄膜样品具有最佳的亲水性能,在可见光照射120 min后水接触角降到3.2°;在黑暗中放置20 h后水接触角恢复到4.0°。
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关键词
玻璃
基
Fe^3+掺杂
tio
2
薄膜
Fe^3+掺杂量
亲水性能
溶胶-凝胶法
黑暗放置时间
下载PDF
职称材料
溅射气氛中O_2/Ar比及热处理对直流反应磁控溅射法制备玻璃基TiO_2薄膜结构与亲水性的影响
被引量:
2
2
作者
赵青南
刘保顺
+1 位作者
赵修建
A.W.Sleight
《稀有金属材料与工程》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第5期339-343,共5页
在工作气压为0.80Pa的氧氩气混合气氛下,改变氧与氩的流量比(O2/Ar:0.10,0.20,0.30),在预先镀10nm左右SiO2的普通玻璃基片上用直流(D.C.)磁控溅射法制备了300nm左右的TiO2薄膜试样。离线在500℃、氧气氛下对试样热处理2h。用X射线光电...
在工作气压为0.80Pa的氧氩气混合气氛下,改变氧与氩的流量比(O2/Ar:0.10,0.20,0.30),在预先镀10nm左右SiO2的普通玻璃基片上用直流(D.C.)磁控溅射法制备了300nm左右的TiO2薄膜试样。离线在500℃、氧气氛下对试样热处理2h。用X射线光电子能谱(XPS)和X射线衍射仪(XRD)分别研究了试样热处理前后的表面元素组成、离子状态和物相组成,用接触角分析仪测试了试样在紫外光(UV)照射后的水润湿角。
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关键词
玻璃基tio2薄膜
亲水性
直流反应磁控溅射
氧气和氩气流量比
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职称材料
题名
可见光照射下Fe3+掺杂量对玻璃基TiO2薄膜亲水性能的影响
1
作者
陆文涛
赵青南
王晓宏
常潇
董玉红
赵杰
机构
武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室
江苏秀强玻璃工艺股份有限公司
出处
《硅酸盐通报》
CAS
北大核心
2019年第10期3293-3301,共9页
基金
国家十三五重点研发计划子课题(2016YFB0303903-04)
文摘
采用溶胶-凝胶法在普通玻璃衬底上制备了不同Fe^3+掺杂量的TiO2薄膜。通过X射线光电子能谱仪(XPS)、X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、UV-Vis-NIR3600型紫外-可见分光光度计、CA-XP150型水接触角测试仪研究了不同Fe^3+掺杂量对TiO2薄膜微观结构、表面形貌、光学性能和亲水性能的影响。结果表明,所制备的不同Fe^3+掺杂量的TiO2薄膜均具有锐钛矿结构;随着Fe^3+掺杂量的增大,薄膜样品(镀膜玻璃)在可见光区的平均透过率从70.28%降低到61.45%。当薄膜中Fe^3+掺杂量为0.25mol%时,薄膜样品具有最佳的亲水性能,在可见光照射120 min后水接触角降到3.2°;在黑暗中放置20 h后水接触角恢复到4.0°。
关键词
玻璃
基
Fe^3+掺杂
tio
2
薄膜
Fe^3+掺杂量
亲水性能
溶胶-凝胶法
黑暗放置时间
Keywords
Fe^3+-doped
tio
2
films on glass substrates
Fe^3+ doping amount
hydrophilic property
sol-gel method
darkness time
分类号
O484 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
溅射气氛中O_2/Ar比及热处理对直流反应磁控溅射法制备玻璃基TiO_2薄膜结构与亲水性的影响
被引量:
2
2
作者
赵青南
刘保顺
赵修建
A.W.Sleight
机构
武汉理工大学
Oregon State University
出处
《稀有金属材料与工程》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第5期339-343,共5页
基金
湖北省自然科学基金资助项目(2001abb077)
教育部科学技术重点项目(99087)
文摘
在工作气压为0.80Pa的氧氩气混合气氛下,改变氧与氩的流量比(O2/Ar:0.10,0.20,0.30),在预先镀10nm左右SiO2的普通玻璃基片上用直流(D.C.)磁控溅射法制备了300nm左右的TiO2薄膜试样。离线在500℃、氧气氛下对试样热处理2h。用X射线光电子能谱(XPS)和X射线衍射仪(XRD)分别研究了试样热处理前后的表面元素组成、离子状态和物相组成,用接触角分析仪测试了试样在紫外光(UV)照射后的水润湿角。
关键词
玻璃基tio2薄膜
亲水性
直流反应磁控溅射
氧气和氩气流量比
Keywords
tio
2
thin film based glass
hydrophilicity
magnetron sputtering
分类号
TB43 [一般工业技术]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
可见光照射下Fe3+掺杂量对玻璃基TiO2薄膜亲水性能的影响
陆文涛
赵青南
王晓宏
常潇
董玉红
赵杰
《硅酸盐通报》
CAS
北大核心
2019
0
下载PDF
职称材料
2
溅射气氛中O_2/Ar比及热处理对直流反应磁控溅射法制备玻璃基TiO_2薄膜结构与亲水性的影响
赵青南
刘保顺
赵修建
A.W.Sleight
《稀有金属材料与工程》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003
2
下载PDF
职称材料
已选择
0
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