期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
1
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式:
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
预嵌锂用穿孔集流体对锂离子电容器电化学性能的影响
被引量:
3
1
作者
蒋江民
聂平
+2 位作者
董升阳
吴宇婷
张校刚
《物理化学学报》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
2017年第4期780-786,共7页
将石墨涂覆于传统铜箔(CCC)与穿孔铜箔(PCC)集流体表面,通过内部短路的方式进行预嵌锂处理,再以商业化的活性炭及预锂化的石墨分别为正、负极材料组装成锂离子电容器(LIC)。以PCC为集流体的LIC在0.1和2.0 A?g^(-1)的电流密度下,能量密...
将石墨涂覆于传统铜箔(CCC)与穿孔铜箔(PCC)集流体表面,通过内部短路的方式进行预嵌锂处理,再以商业化的活性炭及预锂化的石墨分别为正、负极材料组装成锂离子电容器(LIC)。以PCC为集流体的LIC在0.1和2.0 A?g^(-1)的电流密度下,能量密度分别为118.2和51.7 Wh?kg^(-1),并且在0.5 A?g^(-1)的电流密度下循环1000次后的能量密度保持率为90%;以CCC为集流体的LIC在0.1和2.0 A?g^(-1)的电流密度下的能量密度分别为125.5和43.3 Wh?kg^(-1),在同等电流密度下2.0-3.8 V之间循环1000次后的能量密度保持率仅为73.2%。进一步研究表明,石墨采用PCC在预嵌锂的过程中避免了金属锂沉积,生成了均一且稳定的固体电解质膜(SEI),有效防止充放电过程中SEI膨胀,活性物质与集流体间粘结力降低,活性物质脱落等现象发生。因此,LIC通过PCC完成预嵌锂后的自放电及内阻更小,具有更佳的倍率性能和循环性能。
展开更多
关键词
理离子电容器
穿孔铜箔
预嵌锂
固体电解质膜
集流体
下载PDF
职称材料
题名
预嵌锂用穿孔集流体对锂离子电容器电化学性能的影响
被引量:
3
1
作者
蒋江民
聂平
董升阳
吴宇婷
张校刚
机构
南京航空航天大学材料科学与技术学院
出处
《物理化学学报》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
2017年第4期780-786,共7页
基金
国家重点基础研究发展规划(973)(2014CB239701)
国家自然科学基金(51372116,51672128)
+2 种基金
江苏省自然科学基金(BK20151468)
江苏省产学研前瞻性联合研究(BY-2015003-7)
江苏省高校优势学科建设工程(PAPD)资助项目~~
文摘
将石墨涂覆于传统铜箔(CCC)与穿孔铜箔(PCC)集流体表面,通过内部短路的方式进行预嵌锂处理,再以商业化的活性炭及预锂化的石墨分别为正、负极材料组装成锂离子电容器(LIC)。以PCC为集流体的LIC在0.1和2.0 A?g^(-1)的电流密度下,能量密度分别为118.2和51.7 Wh?kg^(-1),并且在0.5 A?g^(-1)的电流密度下循环1000次后的能量密度保持率为90%;以CCC为集流体的LIC在0.1和2.0 A?g^(-1)的电流密度下的能量密度分别为125.5和43.3 Wh?kg^(-1),在同等电流密度下2.0-3.8 V之间循环1000次后的能量密度保持率仅为73.2%。进一步研究表明,石墨采用PCC在预嵌锂的过程中避免了金属锂沉积,生成了均一且稳定的固体电解质膜(SEI),有效防止充放电过程中SEI膨胀,活性物质与集流体间粘结力降低,活性物质脱落等现象发生。因此,LIC通过PCC完成预嵌锂后的自放电及内阻更小,具有更佳的倍率性能和循环性能。
关键词
理离子电容器
穿孔铜箔
预嵌锂
固体电解质膜
集流体
Keywords
Lithium-ion capacitor
Pre-punched Cu foil
Prelithiation
SEI film
Current collector
分类号
TM53 [电气工程—电器]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
预嵌锂用穿孔集流体对锂离子电容器电化学性能的影响
蒋江民
聂平
董升阳
吴宇婷
张校刚
《物理化学学报》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
2017
3
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部