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理论强度公式在X-射线荧光光谱分析中的应用 被引量：4
1
作者 王桂华 谭秉和 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期328-330,共3页
介绍理论强度公式的应用 :计算基体效应 ,估算三次荧光 ;标准样品数据及实验条件的检验 ;预测标样的适用性 ;稀释率的确定。
关键词 理论强度公式 X-射线荧光光谱分析 应用 基体效应 标样预测 玻璃熔片 稀释率
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