ULSI多层铜布线CMP影响因素分析研究

研究了ULSI多层互连工艺中铜布线的CMP的机理;对影响抛光速率和抛光后表面状态的诸因素,如抛光条件、抛光方式和抛光耗材进行了分析;特别针对抛光液对铜布线CMP的影响,提出了目前存在的主要问题,并对未来的研究方向和研究内容进行了展望。

国际地球参考框架数据管理的瓶颈与研究策略

分析了ITRF数据管理的瓶颈——甚大规模对称矩阵的数据管理问题。提出将对称矩阵从半结构化形式转换成全结构化且具有固定字段数的关系型表,再用扩展关系模型原理,建立基于对称-关系模型的数据库。这种对称-关系数据模型理论既能用于管理关系型的数据表又能管理对称矩阵。若用于附甚大规模对称矩阵的ITRF成果数据集,可提高ITRF成果的数据存储、管理和网上发布的效率。

用于ULSI电路的超薄栅介质膜研究

制备出６～７ｎｍ超薄栅ＮＭＯＳＦＥＴ。通过对器件性能的研究发现，适当条件下用Ｎ２Ｏ制备的超薄ＳｉＯｘＮｙ膜比ＳｉＯ２膜更适合于ＵＬＳＩ的应用。