黄腐酸对甜樱桃砧木“吉塞拉”扦插苗蒸腾作用及光合特性的影响

以甜樱桃砧木"吉塞拉"扦插苗为试材,分析了喷施浓度为0.08、0.16、0.32g·L^(-1)代谢型抗蒸腾剂黄腐酸对其光合速率、蒸腾速率、气孔导度及水分利用效率的影响,并对"吉塞拉"绿枝扦插苗的移栽成活率进行了研究。结果表明:喷施黄腐酸可显著降低叶片的气孔导度和蒸腾速率,提高植株的水分利用效率,且黄腐酸浓度越高效应越显著。与清水对照相比,喷施0.08、0.16、0.32g·L^(-1)的黄腐酸,使移栽成活率分别提高了4.0、8.3、6.7个百分点。上述结果表明喷施代谢型抗蒸腾剂黄腐酸能通过调节气孔开度而减少水分损失,且以0.16g·L^(-1)黄腐酸的效果最好,可提高"吉塞拉"扦插苗的移栽成活率。

大樱桃矮化砧木吉塞拉6号的组织培养和快速繁殖技术研究

以吉塞拉6号带腋芽茎段为外植体,对大樱桃矮化砧木吉塞拉6号进行了组织培养和快速繁殖技术研究。结果表明,较佳的启动培养基:MS+0.5 mg/L 6-BA+0.2 mg/L NAA,较佳的增殖培养基:MS+1.0 mg/L 6-BA+0.2 mg/L NAA;较佳的生根培养基:1/2 MS+0.5 mg/L IBA+2.0 g/L AC。生根培养第13天进行试管苗炼苗,第20天进行移栽,移栽后的成活率较高,分别为最佳的生根诱导和移栽时间;粉碎苔藓是吉塞拉6号较好的瓶外生根基质。

甜樱桃砧木吉塞拉(Gisela)叶片再生体系研究

以甜樱桃矮化砧木‘Gisela 5’和‘Gisela 6’的组培苗为试材,研究建立叶片的离体再生体系。结果表明,Gisela 6的再生能力高于Gisela 5;叶片正面接触培养基比背面接触培养基更有利于分化再生。用新梢顶端1-3节新展开的叶片制备外植体,分别接种在WPM+BA 7 mg/L+IBA 0.3 mg/L和WPM+BA 5 mg/L+IBA 0.5 mg/L的培养基上,黑暗处理15 d,Gisela 5的最高分化频率为75.1％,Gisela 6为100％。再生芽苗在三角瓶中生根容易,移入大田后生长正常。

甜樱桃矮化砧木吉塞拉(Gisela)的离体叶片再生植株研究

用甜樱桃矮化砧木吉塞拉（Ｇｉｓｅｌａ）５号、７号（Ｐｒｕｎｕｓ ｃｅｒａｓｕｓ ｘ Ｐ．ｃａｎｅｓｃｅｎｓ）无菌生根苗的叶片作为外植体，进行不定芽再生植株的研究。以ＷＰＭ＋ＢＡ ５～７ ｍｇ／Ｌ＋ＩＢＡ ０．１～１．０ｍｇ／Ｌ做培养基，不定芽再生率高达７０％；吉塞拉５号的再生率明显高于７号；培养基中高浓度的细胞分裂素抑制吉塞拉７号的不定芽再生。不定芽的增殖、生根、温室锻炼、大田移栽均已获得成功，同时观察了植株在大田的生长状况。该成果可用于樱桃转基因育种和多倍体植株培育的研究。

扦插时期对甜樱桃矮化砧木吉塞拉嫩枝生根的影响

甜樱桃三倍体无性系矮化砧木吉塞拉5号、吉塞拉6号的嫩枝扦插繁殖在生产上具有重要的应用价值,本试验通过研究不同扦插时期对生根率、生根质量及成苗率的影响,证明大田生长条件下嫩枝扦插插穗的最佳取材时期为9月上中旬,生根率最高达到94%,平均每株生根条数最高可达9.7条,9月下旬、10月上旬扦插生根率低,苗木质量较差。本研究提高了育苗效率,降低了育苗成本,为吉塞拉5号、吉塞拉6号砧木的快速繁育推广奠定了基础。

甜樱桃砧木品种‘吉塞拉6号’的离体培养与快速繁殖

以植株茎段为外植体,进行了甜樱桃矮化砧木品种‘吉塞拉6号'离体快速繁殖技术研究。结果显示:外植体培养于改良MS+1 mg/L ZT+0.5 mg/LBA+0.2 mg/L NAA+0.5 g/L CH,30 d后腋芽萌发率达81.3%;丛芽增殖的适宜培养基是:改良MS+0.5 mg/L BA+0.5 mg/L KT+0.1 mg/L NAA+0.01 mg/L TDZ,增殖系数达5.8;1/2MS+1.0 mg/L IBA+0.2 mg/L NAA是诱导甜樱桃试管苗生根的适宜培养基,生根率达98.3%;适宜试管苗移栽的基质配比为泥炭:椰糠:珍珠岩=1:1:1(v:v:v),试管苗移栽成活率达98%以上。

甜樱桃矮化砧木吉塞拉特性及其栽培技术研究进展

综述了吉塞拉系列矮化砧木(G5、G6、G7、G11和G12)的植物学特征,嫁接甜樱桃后的生长结果习性、适应性和抗逆性等,以及在苗木繁育、建园、土肥水管理、整形修剪、负载量控制等方面有别于乔砧的栽培技术特点;吉塞拉矮化砧木甜樱桃需精细化管理,包括高标准建园、充足肥水(氮肥、根外补肥、滴灌)、通过精细修剪加速树形培养和控制负载量等,以促发新枝,提高叶果比,达到丰产、稳产、优质的效果。

甜樱桃矮化砧木吉塞拉嫩枝扦插技术研究

甜樱桃矮化砧木吉塞拉5号、6号扦插生根困难，只能通过组培繁育苗木。本试验在高温高湿条件下，用当年生吉塞拉组培苗嫩梢扦插于河沙、珍珠岩及河沙：珍珠岩：蛭石（1：1：1）混合基质中；吉塞拉6号嫩梢基部经500—1000mg／LIBA．ABT1号和6号生根粉处理后扦插于混合基质中，生根率均达70％以上，单株生根均达3条以上，可用于吉塞拉砧木苗的规模生产，加快繁育速度，满足生产需要。这是吉塞拉无性系优良砧木苗繁育研究的一个重要突破。

甜樱桃新矮化砧木“吉塞拉12号”组培快繁技术研究

“吉塞拉12号”是从美国引进的甜樱桃优良矮化砧木,主根发达,固地性强,结果盛期无早衰现象,因其压条、扦插繁殖困难,生产中该砧木资源严重不足。本研究以“吉塞拉12号”顶芽为外植体,通过系统试验,建立了其组培快繁技术体系。结果表明,0.1%HgCl_(2)处理12 min可将外植体污染率控制在4%以内,死亡率控制在3%以内,MS+6-BA 0.5 mg/L+IBA 0.3 mg/L的培养基适合顶芽萌发;MS+6-BA 0.8 mg/L+IBA 0.3 mg/L为最佳增殖培养基,增殖率高达97.06%,增殖系数为6.58;1/2MS+IBA 0.5 mg/L+NAA 0.5 mg/L为最佳生根培养基,生根率为60.83%;“吉塞拉12号”试管苗移栽对栽培基质要求不严,普通育苗轻基质在保持湿度和良好的透气条件下,移栽成活率可达95%以上。研究结果对开展“吉塞拉12号”及相关树种工厂化育苗具有重要的应用价值,同时可为同类树种的基因工程改良奠定基础。

甜樱桃矮化砧木吉塞拉7号的组培快繁技术研究

以甜樱桃矮化砧木吉塞拉7号的茎尖和茎段为试材进行组织培养.结果表明:适宜的芽诱导培养基为MS+BA0.5～0.7mg/L;继代增殖培养基为MS+BA2.0mg/L+NAA0.01mg/L;生根培养基为1/2MS+IBA0.6mg/L,生根率达64.0%,移栽成活率90%.

吉塞拉砧木甜樱桃的主干形整形修剪技术

吉塞拉矮化砧木甜樱桃主干树形呈细长纺锤形,树高2.5～4m,比行距略大,主干高0.5m左右,冠径一般小于1.5m。中干强壮直立,其上均匀轮状着生30～50个水平或下垂的单轴延伸状小主枝。介绍了从栽植到盛果期树的整形修剪技术。适宜露地宽行密植栽培。

甜樱桃矮化砧木吉塞拉嫩枝扦插技术研究

以吉塞拉6号、5号为试材,进行了吉塞拉的嫩枝扦插试验,结果表明:吉塞拉6号和5号具较强的生根能力,不作任何处理生根率分别为60.0%、44.5%;经ABT1号和GGR6号处理后,生根率分别达到了95.9%、87.5%。嫩枝扦插效果良好。

吲哚丁酸和萘乙酸对甜樱桃矮化砧木吉塞拉5号硬枝插条生根的影响

试验研究了不同浓度的吲哚丁酸和萘乙酸对甜樱桃矮化砧木吉塞拉5号硬枝插条生根的影响。结果表明,吲哚丁酸比萘乙酸更适合用于吉塞拉5号的硬枝插条处理。在半日光间歇弥雾条件下,用1000mg/L的吲哚丁酸处理插条,能够获得较好的生根效果,生根率最高达到81.25%,平均每株生根条数9.8条,平均根长5.2cm。

甜樱桃矮化砧木吉塞拉12号

介绍了甜樱桃矮化砧木吉塞拉12号的植物学特征和主要农艺性状。吉塞拉12号具有固地性好、矮化、丰产、抗病毒病、耐寒耐涝、土壤适应范围广、适于嫁接自花授粉品种等优点。在风大和自然降雨较多的地区,是替代吉塞拉6号的理想砧木。

甜樱桃砧木吉塞拉12号组培快繁技术体系探讨

以甜樱桃砧木吉塞拉12号当年生茎尖或茎段为试材,建立相应的组培快繁技术体系.以氯化汞、消毒灵、84消毒液、 次氯酸钠溶液等不同消毒剂对外植体进行消毒处理;以MS(蔗糖30 g·L-1,琼脂6.0 g·L-1)为基本培养基,添加不同浓度的6-BA和IBA进行诱导培养和增殖培养;以1/2MS(蔗糖20 g·L-1,琼脂6.0 g·L-1)培养基添加IBA、IAA用于组培苗的生根培养.结果表明,0.1%氯化汞处理10 min的综合消毒效果较优,诱导率可达90%;MS+0.5 mg·L-16-BA+0.1 mg·L-1 IBA为最佳增殖培养基,增殖系数达4.1;1/2MS+0.5 mg·L-1 IAA+0.9 mg·L-1 IBA为最佳生根培养基,生根率达92.3%,平均生根数4.00条,平均根长4.62 cm.

甜樱桃矮化砧木吉塞拉的嫩枝扦插技术

吉塞拉系列樱桃矮砧是德国学者以欧洲酸樱桃与灰毛叶樱桃进行种间杂交培育的三倍体杂种砧木，具有明显的矮化、早实丰产特性，适用于甜樱桃密植和设施栽培。目前，吉塞拉矮化砧木多用组织培养方法繁殖，但其需要一定的设备和技术，不适于用苗量少、自繁自用苗者采用，在一定程度上限制了吉塞拉矮化砧木的推广应用。为此，

吉塞拉5号甜樱桃矮化砧木在石家庄地区的引种试验

2006年引进吉塞拉5号砧木甜樱桃,在石家庄地区不同土壤试栽。结果表明:吉塞拉5号甜樱桃矮化效果明显,树冠相当于考特做砧木的40%,早果早丰效果明显,土壤适应范围广,抗病、抗寒、耐旱,适合矮化密植和设施栽培,固地性好,但"小脚"明显,盛果期负载量过大,树势有早衰现象。

甜樱桃砧木吉塞拉离体茎尖玻璃化法超低温保存研究

为保持甜樱桃矮化砧木吉塞拉的遗传稳定性和避免种质遗传资源丢失,以玻璃化法超低温冷冻保存过程中涉及的主要因子设计正交试验,摸索适合吉塞拉的最佳保存体系;设计单因子试验,观察不同单因子对吉塞拉超低温冷冻保存的影响。结果表明,取生长90 d的组培苗于4℃低温锻炼3周或4周,剥取茎尖放于含0.3 mol/L蔗糖的预培养液中预培养1 d,在装载液中渗透30 min,用PVS3玻璃化试剂0℃处理60min后投入到液氮中保存24 h,取出后经40℃水浴快速化冻1 min,卸载液洗涤两次,每次10 min,后置于恢复培养基上,茎尖的存活率最高且遗传稳定性好。本试验成功建立了甜樱桃矮化砧木吉塞拉的玻璃化法超低温保存技术,为甜樱桃种质资源的长期保存提供了一条有效途径。

甜樱桃矮化砧木吉塞拉系列简介

种植甜樱桃成本低，效益高，市场前景好，但结果晚，7-8年才进入盛果期，又吓退大批跃跃欲试者。针对这个难题，山东省果树研究所苗木微繁中心于1994年从美国引入德国吉塞拉果树试验站选育的10个矮化砧品种。与小樱桃、马扎德等乔化砧相比，该系列砧木共同点：一是早结果。成苗栽后2年结果，4～5年进入盛果期，比小樱桃砧提早3—4年结果。二是连年丰产。