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As保护下的生长中断时间对AlSb/InAs超晶格界面粗糙度的影响 被引量:3
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作者 李志华 王文新 +3 位作者 刘林生 蒋中伟 高汉超 周均铭 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第3期1785-1789,共5页
用分子束外延设备(MBE)在GaAs(100)衬底上生长了InSb型界面的AlSb/InAs超晶格,界面生长过程中采用了As保护下不同的中断时间.运用掠入射X射线反射技术(GIXRR)对样品进行了测量,并对测量结果进行了模拟和分析,发现As保护下生长中断20s能... 用分子束外延设备(MBE)在GaAs(100)衬底上生长了InSb型界面的AlSb/InAs超晶格,界面生长过程中采用了As保护下不同的中断时间.运用掠入射X射线反射技术(GIXRR)对样品进行了测量,并对测量结果进行了模拟和分析,发现As保护下生长中断20s能获得最平整的AlSb/InAs界面.结合分析显微镜下观察到的样品形貌,过短的界面中断时间会导致界面富In并形成In点,而过长的中断时间会导致AlAs型界面的形成,两者都使界面变得粗糙.另外,还讨论了生长中断在分子束外延生长中的应用. 展开更多
关键词 分子束外延 生长中断 超晶格 掠入射X射线反射
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生长中断法生长InAs/GaSbⅡ型超晶格材料表面形貌的研究 被引量:4
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作者 李承林 房丹 +4 位作者 张健 高佳旭 方铉 王登魁 唐吉龙 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第9期294-298,共5页
利用分子束外延技术,基于控制快门开关顺序的生长中断法,在GaSb衬底上生长了10周期和20周期的InAs(10 monolayer, 10 ML)/GaSb(10 ML)Ⅱ型超晶格材料。实验中,基于软件模拟对生长参数进行调控分析,实现了As-Sb高效的置换,有效地降低了... 利用分子束外延技术,基于控制快门开关顺序的生长中断法,在GaSb衬底上生长了10周期和20周期的InAs(10 monolayer, 10 ML)/GaSb(10 ML)Ⅱ型超晶格材料。实验中,基于软件模拟对生长参数进行调控分析,实现了As-Sb高效的置换,有效地降低了界面的应力。通过双晶X射线衍射和原子力显微镜对超晶格样品表面形貌进行测试和表征,应变分别减少到0.64%和0.56%,均方根粗糙度仅为0.81 nm和0.45 nm,为后续器件的制备提供了基础。 展开更多
关键词 材料 光学材料 超晶格 生长中断 INAS/GASB 分子束外延
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大应变In_(0.3)Ga_(0.7)As/GaAs量子阱激光器的生长和研究 被引量:1
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作者 潘教青 黄柏标 +4 位作者 张晓阳 任忠祥 秦晓燕 朱宝富 李先林 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2003年第6期707-710,共4页
金属有机物化学气相沉积(MOCVD)方法生长应变InGaAs/GaAs量子阱,应变缓冲层结合生长中断改善量子阱的PL谱特性.用该量子阱制备的激光器有很低的阈值电流密度(43 A/cm^2)和较高的斜率效率(0.34W/A,per facet)。
关键词 金属有机物化学气相沉积 生长中断 应变缓冲层 应变量子阱激光器 INGAAS/GAAS量子阱
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MBE生长InAs/GaSb Ⅱ类超晶格材料的界面控制方法分析
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作者 任洋 李俊斌 +7 位作者 覃钢 杨晋 李艳辉 周旭昌 杨春章 常超 孔金丞 李东升 《红外技术》 CSCD 北大核心 2021年第4期301-311,共11页
本文系统地介绍了MBE外延生长In As/Ga SbⅡ类超晶格材料的界面控制方法,主要包括生长中断法、表面迁移增强法、V族元素浸润法和体材料生长法。短波(中波)In As/Ga Sb超晶格材料界面采用混合(mixed-like)界面,控制方法以生长中断法为主... 本文系统地介绍了MBE外延生长In As/Ga SbⅡ类超晶格材料的界面控制方法,主要包括生长中断法、表面迁移增强法、V族元素浸润法和体材料生长法。短波(中波)In As/Ga Sb超晶格材料界面采用混合(mixed-like)界面,控制方法以生长中断法为主;长波(甚长波)超晶格材料界面采用InSb-like界面,控制方法采用表面迁移增强法(migration-enhancedepitaxy,MEE)或Sbsoak法及体材料生长相结合。讨论分析了InAs/GaSb超晶格材料界面类型选择的依据,简述了界面控制具体实施理论,以及相关研究机构对于不同红外探测波段的超晶格材料界面类型及控制方法的选择。通过界面结构外延生长工艺设计即在界面控制方法的基础上进行快门顺序实验设计,有效地提高界面层的应力补偿效果,这对于长波、甚长波及双色(甚至多色)超晶格材料的晶体质量优化和器件性能提升具有重要意义。 展开更多
关键词 InAs/GaSbⅡ类超晶格 InSb-like界面 GaAs-like界面 生长中断 MEE
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Al-Si-Zn合金直接氧化形成复合材料的结构演变 被引量:1
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作者 赵敬忠 常金晶 +1 位作者 岳建设 张发建 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第8期1007-1012,共6页
采用Lanxide技术制备了Al2O3/Al复合材料,通过中断生长实验方法,和热重分析、光学显微镜、X射线衍射、场发射扫描电镜等检测,对复合材料表面形态和内部组织结构的演变进行了观察,探讨了Al-Si-Zn合金在1100℃条件下的自由氧化生长过程。... 采用Lanxide技术制备了Al2O3/Al复合材料,通过中断生长实验方法,和热重分析、光学显微镜、X射线衍射、场发射扫描电镜等检测,对复合材料表面形态和内部组织结构的演变进行了观察,探讨了Al-Si-Zn合金在1100℃条件下的自由氧化生长过程。结果表明:熔融Al-Si-Zn合金氧化生长经历了孕育期、快速生长期和饱和生长期3个阶段。在各阶段中,样品的组织形貌均发生了明显变化;Al2O3/Al复合材料在宏观上为典型的胞状生长方式,微观上是由三维连通的α-Al2O3相构成骨架,其间分布着残余Al-Si相和孔洞。 展开更多
关键词 复合材料 直接氧化 中断生长 结构演变
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Effects of growth interruption on the properties of InGaN/GaN MQWs grown by MOCVD 被引量:1
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作者 NIU Nan-hui WANG Huai-bing LIU Jian-ping LIU Nai-xin XING Yan-hui HAN Jun DENG Jun SHEN Guang-di 《Optoelectronics Letters》 EI 2007年第1期1-3,共3页
InGaN/GaN MQWs structures were grown by MOCVD. The effects of the growth interruption time on the optical and structural properties of InGaN/GaN MQWs were investigated. The experimental results show that the growth in... InGaN/GaN MQWs structures were grown by MOCVD. The effects of the growth interruption time on the optical and structural properties of InGaN/GaN MQWs were investigated. The experimental results show that the growth interruption can improve the interface quality, increase the intensity of photoluminescence (PL) and electroluminescence (EL); but if the interruption time was too long, the well thickness and the average In composition of MQWs decreased, and the EL intensity also decreased due to poor interface quality and impurities derived from growth interruption. 展开更多
关键词 晶体生长中断 INGAN/GAN多量子阱 氮化铟镓 MOCVD
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Effect of growth-interrupted method on quality of AlGaAs/GaAs multiple quantum wells prepared by MBE
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作者 国凤云 王怀芒 赵连城 《中国有色金属学会会刊:英文版》 CSCD 2006年第B01期183-186,共4页
AlGaAs/GaAs multi-quantum well (MQW) was prepared by molecular beam epitaxy(MBE) with growth-interrupted heterointerface (GIH) method and continuous growth (CG) method, respectively. The microstructures of the MQWs we... AlGaAs/GaAs multi-quantum well (MQW) was prepared by molecular beam epitaxy(MBE) with growth-interrupted heterointerface (GIH) method and continuous growth (CG) method, respectively. The microstructures of the MQWs were characterized by double-crystal X-ray rocking curve (DCRC) and atomic force microscopy (AFM), and the photoluminescence (PL) properties of the MQWs were also studied. The MQWs grown with GIH method show that higher order satellite peaks of Pendell?sung fringes are observed in DCRC, the roughness of surface is much reduced in AFM, and the full width at half maximum (FWHM) of exciton line is much narrower in PL. The results indicate that the GIH method reduces the monolayer growth step density at the heterointerface due to the migration of surface atoms for a few minutes growth interruption, and substantially improves the quality of AlGaAs/GaAs MQWs. 展开更多
关键词 AlGaAs/GaAs多量子阱 MBE 生长中断 多晶X射线摇摆曲线 原子力显微镜
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MOCVD生长1.06μm InGaAs/GaAs量子阱LDs 被引量:4
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作者 潘教青 黄柏标 +4 位作者 张晓阳 岳金顺 秦晓燕 于永芹 尉吉勇 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第6期590-593,共4页
用低压MOCVD生长应变InGaAs/GaAs量子阱,采用中断生长、应变缓冲层(SBL)、改变生长速度和调节Ⅴ/Ⅲ等方法改善InGaAs/GaAs量子阱的光致发光(PL)质量。PL结果表明,10s生长中断结合适当的SBL生长的量子阱PL谱较好。该量子阱应用于1.06μm... 用低压MOCVD生长应变InGaAs/GaAs量子阱,采用中断生长、应变缓冲层(SBL)、改变生长速度和调节Ⅴ/Ⅲ等方法改善InGaAs/GaAs量子阱的光致发光(PL)质量。PL结果表明,10s生长中断结合适当的SBL生长的量子阱PL谱较好。该量子阱应用于1.06μm激光器的制备,未镀膜的宽条激光器(100μm×1000μm)有低阈值电流密度(110A/cm2)和高的斜率效率(0.256W/A,per.facet)。 展开更多
关键词 MOCVD INGAAS/GAAS量子阱 LDs 半导体激光器 应变量子阱 中断生长 应变缓冲层
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S-K方法外延GaN量子点的系统分析
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作者 齐志强 孙昊骋 胡文良 《光学与光电技术》 2019年第6期98-106,共9页
利用S-K(Stranski-Krastanov)方法外延自组装GaN量子点会涉及到Ⅴ/Ⅲ比、生长中断、生长时间、生长流量、生长温度以及降温过程中的氨气流量等6个关键生长条件,通过调节这几个生长条件可以调控生长面的表面能和GaN沉积量,最终改变GaN量... 利用S-K(Stranski-Krastanov)方法外延自组装GaN量子点会涉及到Ⅴ/Ⅲ比、生长中断、生长时间、生长流量、生长温度以及降温过程中的氨气流量等6个关键生长条件,通过调节这几个生长条件可以调控生长面的表面能和GaN沉积量,最终改变GaN量子点的形貌和密度。分析了S-K方法中各个生长条件对GaN量子点生长的影响及其起作用的内部机理,调节Ⅴ/Ⅲ比和生长中断时间可以改变生长面的表面自由能,内部机制主要在于Ga原子及GaN在表面的迁移作用和N原子对二者迁移的限制共同竞争;生长时间、流量和生长温度可以调节最终的GaN沉积量,改变生长温度可以影响沉积速率和迁移速率,但高温下GaN会与H2作用发生分解;降温过程中一定量的NH3氛围可以防止GaN量子点发生分解。最后,通过优化生长条件在MOCVD系统中找到了每个条件的生长窗口并获得了不同尺寸和密度的GaN量子点。其中温度生长窗口有两个,高温805℃生长的无帽层GaN量子点发光性能更为优良。 展开更多
关键词 GaN量子点 S-K方法 金属有机物化学气相沉积系统 生长中断 沉积量 表面自由能
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