直流磁控溅射磁性γ′-Fe_(4)N膜生长机理研究

采用直流磁控溅射法研究了磁控溅射沉积氮化铁薄膜的生长机制 ,并归属了其生长普适类型 .结果表明 ,磁控溅射法生长的薄膜表面具有自仿射分形特性 ,而且表面存在一定数量的空位或孔洞 ,粒子呈现悬臂沉积生长现象 .γ′-Fe4 N单相薄膜的生长指数 β≈ 0 .61± 0 .0 2 ,静态标度指数 α≈ 0 .5 7± 0 .2 0 ,各指数之间的关系为 α+α/ β≈ 2 ,薄膜生长属于