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电化学脉冲腐蚀制备多孔硅微腔技术
1
作者
万小军
《湖南城市学院学报(自然科学版)》
CAS
2010年第1期47-49,共3页
基于电化学脉冲腐蚀方法,用正交实验法给出了制备多孔硅微腔较为理想的制备参数:脉冲周期为5 ms,占空比为5/10和上下各6个周期的Bragg镜面层,得到了半峰宽为6 nm的窄峰发射的多孔硅微腔.并用了以HF酸扩散为基础的多孔硅动态腐蚀机理对...
基于电化学脉冲腐蚀方法,用正交实验法给出了制备多孔硅微腔较为理想的制备参数:脉冲周期为5 ms,占空比为5/10和上下各6个周期的Bragg镜面层,得到了半峰宽为6 nm的窄峰发射的多孔硅微腔.并用了以HF酸扩散为基础的多孔硅动态腐蚀机理对实验结果进行了解释,认为在用电化学脉冲腐蚀法制备多孔硅微腔的过程中,不但要考虑到HF酸对硅的纵向腐蚀(电流腐蚀),也要考虑到HF酸对多孔硅硅柱的横向腐蚀(浸泡腐蚀).
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关键词
多孔硅
微腔
电化学脉冲腐蚀方法
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职称材料
题名
电化学脉冲腐蚀制备多孔硅微腔技术
1
作者
万小军
机构
湖南城市学院计算机科学系
出处
《湖南城市学院学报(自然科学版)》
CAS
2010年第1期47-49,共3页
基金
湖南省教育厅科研基金资助项目(08C207)
文摘
基于电化学脉冲腐蚀方法,用正交实验法给出了制备多孔硅微腔较为理想的制备参数:脉冲周期为5 ms,占空比为5/10和上下各6个周期的Bragg镜面层,得到了半峰宽为6 nm的窄峰发射的多孔硅微腔.并用了以HF酸扩散为基础的多孔硅动态腐蚀机理对实验结果进行了解释,认为在用电化学脉冲腐蚀法制备多孔硅微腔的过程中,不但要考虑到HF酸对硅的纵向腐蚀(电流腐蚀),也要考虑到HF酸对多孔硅硅柱的横向腐蚀(浸泡腐蚀).
关键词
多孔硅
微腔
电化学脉冲腐蚀方法
Keywords
porous silicon
microcavities
pulsed electrochemical etching method
分类号
O646.6 [理学—物理化学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
电化学脉冲腐蚀制备多孔硅微腔技术
万小军
《湖南城市学院学报(自然科学版)》
CAS
2010
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