面心立方晶体表面蚀坑的分形特征

本文应用唯象方法，对面心立方晶体的（１１１）面上的显微电化学蚀坑作分形几何分析。提出晶面缺陷的复制侵蚀势概念。此势具有类Ｓｉｅｒｐｉｎｓｋｉ垫结构的自相似复制特征。最后将所得理论结果与红外材料Ｃｄ１－ｘＺｎｘＴｅ晶体的（１１１）面上的电化学蚀坑形貌观察实验结果比较，符合甚好。