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镀厚膜工艺技术研究
1
作者
高建峰
邓宏洲
+1 位作者
高山城
赵卫
《电力电子技术》
CSCD
北大核心
2008年第12期39-40,共2页
通过分析现有镀膜工艺设备的电子束加热原理、结构和热量损耗,并针对实际应用过程中镀膜存在的问题,提出了对现有设备的改进措施,开发出一种新的镀厚膜工艺,较好解决了芯片镀厚膜的工艺技术难题和存在的镀厚膜工艺质量问题,大大提高了...
通过分析现有镀膜工艺设备的电子束加热原理、结构和热量损耗,并针对实际应用过程中镀膜存在的问题,提出了对现有设备的改进措施,开发出一种新的镀厚膜工艺,较好解决了芯片镀厚膜的工艺技术难题和存在的镀厚膜工艺质量问题,大大提高了镀厚膜工艺的工作效率,极大地改善了特高压超大功率电力电子器件的电性能参数,收到了良好的效果。
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关键词
镀
膜
电子束加热/镀厚膜
下载PDF
职称材料
题名
镀厚膜工艺技术研究
1
作者
高建峰
邓宏洲
高山城
赵卫
机构
西安电力电子技术研究所
出处
《电力电子技术》
CSCD
北大核心
2008年第12期39-40,共2页
文摘
通过分析现有镀膜工艺设备的电子束加热原理、结构和热量损耗,并针对实际应用过程中镀膜存在的问题,提出了对现有设备的改进措施,开发出一种新的镀厚膜工艺,较好解决了芯片镀厚膜的工艺技术难题和存在的镀厚膜工艺质量问题,大大提高了镀厚膜工艺的工作效率,极大地改善了特高压超大功率电力电子器件的电性能参数,收到了良好的效果。
关键词
镀
膜
电子束加热/镀厚膜
Keywords
evaporation
electron beam heating / thick film evaporation
分类号
TM205 [一般工业技术—材料科学与工程]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
镀厚膜工艺技术研究
高建峰
邓宏洲
高山城
赵卫
《电力电子技术》
CSCD
北大核心
2008
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