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一种新型的具有角度限制的电子束投影曝光技术
被引量:
4
1
作者
顾文琪
张福安
《微纳电子技术》
CAS
2002年第4期37-41,共5页
具有角度限制的电子束投影曝光技术有可能成为21世纪最有潜力的纳米光刻技术之一。通过配备缩小投影透镜、掩模承片台、基片工作台和控制用计算机,我们将一台透射电子显微镜(TEM)改造成一台用于电子束投影曝光的试验装置。利用这台装置...
具有角度限制的电子束投影曝光技术有可能成为21世纪最有潜力的纳米光刻技术之一。通过配备缩小投影透镜、掩模承片台、基片工作台和控制用计算机,我们将一台透射电子显微镜(TEM)改造成一台用于电子束投影曝光的试验装置。利用这台装置完成了有关掩模性能、电子光学特性和图形对准的一系列实验,同时取得了最细线宽为78nm的抗蚀剂图形。
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关键词
角度限制
电子束投影曝光技术
纳米光刻
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职称材料
PREVAIL——下一代电子束投影曝光技术
被引量:
1
2
作者
王云翔
刘明
+3 位作者
陈宝钦
李友
张建宏
张卫红
《微细加工技术》
2002年第2期1-4,共4页
PREVAIL作为下一代电子束投影曝光技术 ,采用可变轴浸没透镜 ,对以硅为支架的碳化硅薄膜进行投影微缩曝光。在 1mm2 子场的情况下 ,运用步进扫描曝光方式 ,在 1 0 0nm临界尺寸下具有较高的产量 ,与EUVL技术一起成为下一代曝光技术的有...
PREVAIL作为下一代电子束投影曝光技术 ,采用可变轴浸没透镜 ,对以硅为支架的碳化硅薄膜进行投影微缩曝光。在 1mm2 子场的情况下 ,运用步进扫描曝光方式 ,在 1 0 0nm临界尺寸下具有较高的产量 ,与EUVL技术一起成为下一代曝光技术的有力竞争者。
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关键词
PREVAIL
电子束投影曝光技术
光学光刻
技术
NGL
下载PDF
职称材料
题名
一种新型的具有角度限制的电子束投影曝光技术
被引量:
4
1
作者
顾文琪
张福安
机构
中国科学院电工研究所
出处
《微纳电子技术》
CAS
2002年第4期37-41,共5页
文摘
具有角度限制的电子束投影曝光技术有可能成为21世纪最有潜力的纳米光刻技术之一。通过配备缩小投影透镜、掩模承片台、基片工作台和控制用计算机,我们将一台透射电子显微镜(TEM)改造成一台用于电子束投影曝光的试验装置。利用这台装置完成了有关掩模性能、电子光学特性和图形对准的一系列实验,同时取得了最细线宽为78nm的抗蚀剂图形。
关键词
角度限制
电子束投影曝光技术
纳米光刻
Keywords
nano lithography
electron beam
angular limitation
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
PREVAIL——下一代电子束投影曝光技术
被引量:
1
2
作者
王云翔
刘明
陈宝钦
李友
张建宏
张卫红
机构
中国科学院微电子中心光掩模实验室
出处
《微细加工技术》
2002年第2期1-4,共4页
基金
国家自然科学基金资助项目 (6 990 6 0 0 6 )
文摘
PREVAIL作为下一代电子束投影曝光技术 ,采用可变轴浸没透镜 ,对以硅为支架的碳化硅薄膜进行投影微缩曝光。在 1mm2 子场的情况下 ,运用步进扫描曝光方式 ,在 1 0 0nm临界尺寸下具有较高的产量 ,与EUVL技术一起成为下一代曝光技术的有力竞争者。
关键词
PREVAIL
电子束投影曝光技术
光学光刻
技术
NGL
Keywords
s:PREVAIL
E-beam projection lithography
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
一种新型的具有角度限制的电子束投影曝光技术
顾文琪
张福安
《微纳电子技术》
CAS
2002
4
下载PDF
职称材料
2
PREVAIL——下一代电子束投影曝光技术
王云翔
刘明
陈宝钦
李友
张建宏
张卫红
《微细加工技术》
2002
1
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职称材料
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