电子束曝光机安装调试中的电磁兼容设计

本文从定义电磁兼容设计目标函数出发，针对具体环境出现的各种干扰问题，根据评价表达式的要求来进行电磁兼容设计。本文所提出的设计思想，经在电子束曝光机安装调试过程中的实践所验证。

亚微米电子束曝光机激光工件台系统

介绍了正在现场使用的亚微米电子束曝光机激光工件台系统，详细论述了它的技术特征，分析了影响重复测量精度的误差因素，给出了系统各部分实际检测达到的技术指标。

电子束曝光机大物面强磁透镜的研究

以SDS 3电子束曝光机的聚焦透镜系统为基础 ,在 0 .0 0 5弧度半张角 ,3× 10 - 5的高压纹波 ,5 0mm的像距 ,30× 30mm扫描场的条件下 ,研究了电磁透镜成像的笛卡尔坐标系中的近轴轨迹方程 ,给出了相应的计算初值条件和实例 讨论了电子束曝光机聚焦透镜系统中的球差、彗差、像散。

纳米级电子束曝光机用图形发生器

为满足纳米级电子束曝光系统的要求,设计了高速图形发生器。该图形发生器包括硬件和软件两部分。硬件方面主要是利用高性能数字信号处理器(DSP)将要曝光的单元图形拆分成线条和点,然后通过优化设计的数模转换电路,将数字量转化成高精度的模拟量,驱动扫描电镜的偏转器,实现电子束的扫描。通过图形发生器还可以对标准样片进行图像采集以及扫描场的校正。配合精密定位的工件台和激光干涉仪,还可以实现曝光场的拼接和套刻。利用配套软件可以新建或导入通用格式的曝光图形,进行曝光参数设置、图形修正、图形分割、临近效应修正等工作,完成曝光图形的准备。结果表明,该图形发生器能够与整个纳米级电子束曝光系统协调工作,刻画出纳米级的图形。

电子束曝光机束斑的自动测控系统

根据亚微米电子束曝光机束斑直径、束流大小与各磁透镜电流之间的关系以及刀口法测试束斑的原理，设计了一套总线式的束斑自动测控系统。该系统以ＩＢＭ—ＰＣ／ＡＴ作为主控机，系统包括用于总线扩展的总线驱动板、电子束扫描控制板和束流信号数据采集板。

电子束曝光机特殊图形辅助发生器

介绍电子束曝光机的图形发生器系统中用以解决硬件化高速扫描特殊图形和硬件过于复杂的特殊图形辅助发生器。叙述了它的工作原理、硬件配置和软件设计及特殊图形的描述参数和计算公式。

DY2001A型电子束曝光机软件系统设计

DY2001A型电子束曝光机是作为实用化的小型曝光系统而研制的。从设计角度详细阐述了DY2001A型电子束曝光机软件系统的构成,包括数据转换、对准校正套刻、硬件系统控制、曝光控制及数据建立和管理。

缩小投影电子束曝光机的调试技术

详细介绍了在透射电镜上进行缩小投影电子束曝光技术原理性实验的主要调试过程。它充分利用了透射电镜本身的功能与特点。整个调试方法不仅可获得高分辨率图形 ,而且为下一步的研究工作提供了比较好的工作参数。

亚微米电子束曝光机自动输片系统结构与精度分析

着重描述了自动输片系统完成的各项功能，并详细介绍机械手的设计功能及精度分析。

SDS-2型电子束曝光机偏放系统的抗干扰改造

对SDS－2型电子束曝光机偏放系统进行了电磁场、电源、数字信号等三方面的抗干扰改造，因而扫描系统的干扰得到了较好的抑制，使用改造后的偏放系统扫出的版，图形质量和线条分辨率都得到了提高。

电子束曝光机扫描场非正交性畸变校正

本文介绍了我校研制的矢量扫描电子束曝光机中，扫描场非正交性畸变的校正情况，该机器的偏转系统为内透镜双磁偏转方式。

锁相技术在电子束曝光机工件台稳速控制中的应用

采用销相技术，对电子束曝光机工件台运动实现速度环的全数字控制。设计了数字差频积分回路和数字差频比例控制器，能有效消除速度的静态误差和改善系统的动态特性。

JBX─6A Ⅱ变形电子束曝光机的计算机控制系统的改进与升级

本文简要介绍了ＪＢＸ－６ＡⅡ电子束曝光机用计算机控制系统的改进、升级情况。文章首先对控制系统作了简单分析，从提高系统工作的稳定性与可靠性出发，进而叙述了更新硬盘的技术问题以及对操作系统的升级，并给出了生成操作系统过程中数据分区实例。

电子束曝光机束径和束流最佳配合研究

文中介绍了电子束曝光机束斑直径和束流大小的测量方法,提出调整束斑直径的基本原理,设计了一种实现束径和束流最佳配合的自动测量和调整系统。

电子束曝光机的偏转系统

电子束曝光机的偏转系统控制电子束偏转扫描。像差低、偏转灵敏度高、扫描速度快是它的基本要求。对各种偏转器、偏转方式进行分析、比较,从偏转器空间场的数值计算方法、偏转系统的优化、像差校正、偏转器制作工艺、电气参数等方面阐述设计过程和工程实现上一些值得注意的问题。综合考虑偏转器和偏放电路的设计可以得到最优性能的系统。

亚微米电子束曝光机工件台控制系统

激光工件台是电子束曝光机关键部件之一。它主要功能是完成图形的拼接。本文描述了双频激光干涉仪，计算机控制的数字伺服系统以及真空条件下的ｘ－ｙ工件台，该系统用于亚微米圆形矢量扫描电子束曝光机中。

亚微米电子束曝光机激光工件台位置显示系统

介绍了工件台位置显示系统的组成、工作原理及软件设计。由于采用单片机控制技术，从而保证了系统的显示精度和运行可靠性。

DY-2001A型纳米级电子束曝光机中静电偏转器的设计

基于纳米曝光要求和JSM-35CF型扫描电镜,设计了一组上下偏转器长度不一致的静电偏转器,使偏转灵敏度大大提高。采用二阶有限元法计算了八极静电偏转器的轴上场分布。高精度的场分布有利于高级像差。为了使系统的总体像差最小,结合具体电子光学系统,用最小二乘法对偏转器的激励强度、转角及其在系统中的位置进行优化,得到直至五级分量的像差。动态校正后,偏转场为80μm×80μm时,束斑分辨率约为3.2nm;偏转场大小为1mm×1mm时,束斑分辨率约为29.8nm。结果表明,应用该组静电偏转器的电子光学系统的分辨率满足纳米曝光的要求。

电子束曝光机束闸电路

介绍了一个输出电压为 1 0 4V ,开关时间为 34ns的电子束曝光机束闸电路。