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用于投射式电子束曝光系统的磁浸没透镜的优化设计
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作者 程敏 唐天同 +1 位作者 姚振华 郭德政 《真空科学与技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第4期315-318,共4页
以磁浸没透镜的电流密度值的大小为优化参量 ,以成像系统的轴上像散为目标函数 ,利用单纯形优化法对用于投射式电子束曝光系统的新型磁浸没透镜进行了优化设计。结果表明 ,目标函数由未经优化前的 35 8.187nm降低到 5 0 .6 93nm。同时... 以磁浸没透镜的电流密度值的大小为优化参量 ,以成像系统的轴上像散为目标函数 ,利用单纯形优化法对用于投射式电子束曝光系统的新型磁浸没透镜进行了优化设计。结果表明 ,目标函数由未经优化前的 35 8.187nm降低到 5 0 .6 93nm。同时单纯形优化法不需要已知目标函数与优化参量之间的解析关系式及求导 。 展开更多
关键词 磁浸没透镜 单纯形法 轴上像散 最优化设计 投射式电子束曝光系统 电子光学系统
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电子束曝光系统的信号检测与处理技术
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作者 杨中山 李新涛 +1 位作者 方光荣 王国铭 《电工电能新技术》 CSCD 北大核心 1995年第4期33-37,共5页
本文叙述了应用于可变矩形电子束曝光系统中的几种信号检测和处理技术以及在调试过程中的应用,简单介绍了系统工作时信号间的相互关系。
关键词 信号检测 电子束曝光系统 信息处理
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利用电子束曝光系统制作高深宽比图形的研究 被引量:1
3
作者 黄秀荪 韩立 顾文琪 《传感器技术》 CSCD 北大核心 2004年第11期30-31,37,共3页
为了加工具有高深宽比的器件,采用能量连续递减近似模型,运用蒙特卡罗方法分析高能电子束曝光领域的电子散射轨迹及背散射电子对曝光分辨力的影响,探讨了制作高深宽比图形的工艺条件。计算机模拟结果与实验结果吻合得很好,表明在其它实... 为了加工具有高深宽比的器件,采用能量连续递减近似模型,运用蒙特卡罗方法分析高能电子束曝光领域的电子散射轨迹及背散射电子对曝光分辨力的影响,探讨了制作高深宽比图形的工艺条件。计算机模拟结果与实验结果吻合得很好,表明在其它实验条件不变的情况下,较高的加速电压能提高图形的高深宽比,提供了制作高深宽比图形的一种方法。 展开更多
关键词 高深宽比 电子束曝光系统 分辨力 器件 图形 背散射 电子散射 制作 加速 计算机模拟
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用于微型、纳米卫星三维作图的微型多来电子束曝光系统研究
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作者 陶友松 付世民 +2 位作者 李达耀 刘志雄 西门纪业 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第S1期310-313,共4页
采用微型多束电子束曝光手段研制微型、纳米卫星所用MEMS和ASIM分系统,具有灵活、迅速和设备费用较低的优点。本文介绍一台四束微型电子束曝光系统的总体方案、电子光柱计算、结构设计和扫描电路实验。四条电子束一条适用于微... 采用微型多束电子束曝光手段研制微型、纳米卫星所用MEMS和ASIM分系统,具有灵活、迅速和设备费用较低的优点。本文介绍一台四束微型电子束曝光系统的总体方案、电子光柱计算、结构设计和扫描电路实验。四条电子束一条适用于微型机械直接光刻,两条适用于VLSI和MMIC,第四条适用于光集成电路。 展开更多
关键词 电子束曝光系统 电子束曝光 纳米卫星 电子光学柱 微型机械 结构设计 离子束 工件台 电气系统 光子束
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电子束曝光系统中的校正技术
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作者 武丰煜 《电工电能新技术》 CSCD 北大核心 1995年第3期42-47,共6页
电子束曝光系统中采用了多项校正技术,才得以便之渐臻完善,成为微细加工领域中一种非常重要的工艺装备。本文概要地介绍了这些校正技术的原理、适用范围以及校正方法的要点。
关键词 电子束曝光系统 场畸变校正 半导体器件
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澳大利亚研制纳米电子束曝光系统
6
《现代科学仪器》 2009年第5期109-109,共1页
据澳大利亚莫纳什大学网站报道,澳大利亚研究人员正在研制世界最强大的纳米设备之——电子束曝光系统(EBL)。该系统可标记纳米级的物体,还可在比人发直径小1万倍的粒子上进行书写或者蚀刻。
关键词 电子束曝光系统 澳大利亚 纳米设备 研究人员 纳米级 蚀刻
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澳大利亚正研制电子束曝光系统
7
《纳米科技》 2009年第5期78-78,共1页
澳大利亚研究人员正在研制世界最强大的纳米设备之一——电子束曝光系统(EBL)。该系统可标记纳米级的物体,还可在比人发直径小1万倍的粒子上进行书写或者蚀刻。
关键词 电子束曝光系统 澳大利亚 纳米设备 研究人员 纳米级 蚀刻
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澳大利亚研制纳米电子束曝光系统
8
《化工科技市场》 CAS 2009年第10期64-64,共1页
据澳大利亚莫纳什大学网站报道,澳大利亚研究人员正在研制世界最强大的纳米设备之一——电子束曝光系统(EBL)。该系统可标记纳米级的物体,还可在比人发直径小1万倍的粒子上进行书写或者蚀刻。
关键词 电子束曝光系统 澳大利亚 纳米设备 研究人员 纳米级 蚀刻
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澳大利亚科学家研制出电子束曝光系统
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《广东科技》 2009年第23期11-11,共1页
澳大利亚研究人员正在研制世界最强大的纳米设备之一——电子束曝光系统(EBL)。该系统可标记纳米级的物体,还可在比人发直径小1万倍的粒子上进行书写或者蚀刻。
关键词 电子束曝光系统 澳大利亚 科学家 纳米设备 研究人员 纳米级 蚀刻
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澳大利亚研制纳米电子束曝光系统
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《大众科技》 2009年第11期9-10,共2页
据澳大利亚莫纳什大学网站报道,澳大利亚研究人员正在研制世界最强大的纳米设备之一——电子柬曝光系统(EBL)。该系统可标记纳米级的物体,还可在比人发直径小1万倍的粒子上进行书写或者蚀刻。
关键词 电子束曝光系统 澳大利亚 纳米设备 研究人员 电子 纳米级 蚀刻
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澳大利亚研制纳米电子束曝光系统是制作微小纳米电子元件的最佳设备
11
《光学仪器》 2009年第5期77-77,共1页
据澳大利亚莫纳什大学网站报道,澳大利亚研究人员正在研制世界最强大的纳米设备之一——电子束曝光系统(EBL)。该系统可标记纳米级的物体,还可在比人发直径小1万倍的粒子上进行书写或者蚀刻。电子束曝光技术可直接刻画精细的图案,... 据澳大利亚莫纳什大学网站报道,澳大利亚研究人员正在研制世界最强大的纳米设备之一——电子束曝光系统(EBL)。该系统可标记纳米级的物体,还可在比人发直径小1万倍的粒子上进行书写或者蚀刻。电子束曝光技术可直接刻画精细的图案,是实验室制作微小纳米电子元件的最佳选择。这款耗资数百万美元的曝光系统将在澳大利亚亮相,并有能力以很高的速度和定位精度制出超高分辨力的纳米图形。 展开更多
关键词 电子束曝光系统 纳米设备 实验室制作 澳大利亚 电子元件 电子束曝光技术 研究人员 纳米图形
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澳大利亚研制纳米电子束曝光系统
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《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2009年第11期10-10,共1页
澳大利亚莫纳什大学的研究人员正在研制世界最强大的纳米设备之一——电子束曝光系统(EBL)。该系统可在纳米级的物体上进行书写或者蚀刻。
关键词 电子束曝光系统 澳大利亚 纳米设备 研究人员 纳米级 蚀刻
原文传递
高能电子束纳米曝光系统的研制
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作者 田丰 韩立 顾文琪 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2003年第6期641-642,共2页
关键词 高能电子束纳米曝光系统 电子产业 半导体器件 光学光刻技术 电子束曝光技术 高分辨
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电子束纳米光刻技术研究 被引量:2
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作者 刘玉贵 王维军 罗四维 《微纳电子技术》 CAS 2003年第7期562-563,共2页
纳米光刻技术在微电子制作中起着关键作用 ,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是最好的方法之一。我们使用VB5电子束曝光系统 ,经过工艺研究 ,现已研究出最细分辨率剥离金属条为 17nm ,最小剥离电极间距为 10nm ,最细T型栅为 10 0nm。
关键词 电子束纳米光刻技术 纳米图形 剥离技术 电子 电子束曝光系统
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一种新型图形发生器硬件方案的研究 被引量:1
15
作者 张鹏 方光荣 《微细加工技术》 2003年第2期12-16,共5页
介绍了一个电子束曝光系统图形发生器的硬件实现方案,该方案以DSP处理器为核心,通过USB接口与上位机通讯,具有标记检测和曝光扫描两项基本功能,同时增加了圆形和圆环图形的处理功能。通过将现有图形发生器的功能移植至数字信号处理器,... 介绍了一个电子束曝光系统图形发生器的硬件实现方案,该方案以DSP处理器为核心,通过USB接口与上位机通讯,具有标记检测和曝光扫描两项基本功能,同时增加了圆形和圆环图形的处理功能。通过将现有图形发生器的功能移植至数字信号处理器,使各种图形硬件化,提高了图形的运算和处理速度,克服了以前图形发生器存在的许多弊端。 展开更多
关键词 图形发生器 电子束曝光系统 DSP 数字信号处理器 USB接口 硬件化
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纳米与粉体材料
16
《新材料产业》 2005年第10期89-90,共2页
关键词 纳米材料 粉体材料 电子束曝光系统 实用化研究 原油回收 颗粒测试 纳米级 培训班
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电子工艺
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《电子科技文摘》 2002年第2期25-26,共2页
关键词 电子工艺 倒装芯片 电子机械系统 器件可靠性 引线键合 封装工艺 电子束曝光系统 MESFET 运动检测 会议录
原文传递
光学元件
18
《电子科技文摘》 2002年第2期20-21,共2页
Y2002-63132-441 0217314下一代全光因特网可变波长光开关的优化设计=To-wards optimal design of wavelength-convertible opticalswitches for the all-optical next-generation Internet[会,英]/Hou,X.L.&Mouftah,H.T.//2001 IEE... Y2002-63132-441 0217314下一代全光因特网可变波长光开关的优化设计=To-wards optimal design of wavelength-convertible opticalswitches for the all-optical next-generation Internet[会,英]/Hou,X.L.&Mouftah,H.T.//2001 IEEECariadian Conference on Electrical and Computer Engi-neering,Vol.1.—441~446(E) 展开更多
关键词 光学元件 有源光波导 聚焦透镜 平面光波导 光致发光特性 模场分布 电子束曝光系统 发光学报 OPGW 热蒸发
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新知
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作者 卫东 《初中生必读》 2014年第9期41-41,共1页
近地宇宙图天文学家绘制出最详细的近地宇宙图,距地球20亿光年范围内的上万个星系都能反映在这幅全新的宇宙图上。"懂"指令的机器人美国研制出能回应人类各种姿势的机器人,这意味着人类生产全自动机器人迈出了重要一步。最完整的智力... 近地宇宙图天文学家绘制出最详细的近地宇宙图,距地球20亿光年范围内的上万个星系都能反映在这幅全新的宇宙图上。"懂"指令的机器人美国研制出能回应人类各种姿势的机器人,这意味着人类生产全自动机器人迈出了重要一步。最完整的智力大脑图科学家绘制出最完整的人类智力大脑图,这意味着。 展开更多
关键词 人类智力 人类的智力 美国研制 电子束曝光系统 火星探测器 生命迹象 隐身衣 相互抵消 英国设计 骨髓干细胞
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半导体技术
20
《中国无线电电子学文摘》 2003年第6期30-41,共12页
关键词 半导体技术 光刻机 半导体学报 电子束曝光系统 微细加工技术 图形发生器 薄膜结构 刻蚀技术 发光强度 金刚石薄膜
原文传递
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