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国产电子束正抗蚀剂的实用化研究
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作者 江泽流 罗四维 +1 位作者 吴翠英 邵美姑 《半导体情报》 1989年第4期12-18,共7页
简述了电子束曝光技术及电子束抗蚀剂在微电子器件制造中的重要性,着重介绍了电子束正性抗蚀剂P(MMA-MAA)的研制过程及为使之达到实用化所进行的各项研究及其结果和应用情况。
关键词 电子束正抗蚀剂 光刻 电子 曝光
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