期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
1
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式:
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
国产电子束正抗蚀剂的实用化研究
1
作者
江泽流
罗四维
+1 位作者
吴翠英
邵美姑
《半导体情报》
1989年第4期12-18,共7页
简述了电子束曝光技术及电子束抗蚀剂在微电子器件制造中的重要性,着重介绍了电子束正性抗蚀剂P(MMA-MAA)的研制过程及为使之达到实用化所进行的各项研究及其结果和应用情况。
关键词
电子束正抗蚀剂
光刻
微
电子
曝光
下载PDF
职称材料
题名
国产电子束正抗蚀剂的实用化研究
1
作者
江泽流
罗四维
吴翠英
邵美姑
机构
无锡化工研究所
出处
《半导体情报》
1989年第4期12-18,共7页
文摘
简述了电子束曝光技术及电子束抗蚀剂在微电子器件制造中的重要性,着重介绍了电子束正性抗蚀剂P(MMA-MAA)的研制过程及为使之达到实用化所进行的各项研究及其结果和应用情况。
关键词
电子束正抗蚀剂
光刻
微
电子
曝光
分类号
TN405.7 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
国产电子束正抗蚀剂的实用化研究
江泽流
罗四维
吴翠英
邵美姑
《半导体情报》
1989
0
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部