电子束三维光刻技术的研究

在IH(IntegratedHardenPolymerStereoLithography)技术和电子束光刻技术的基础上提出了电子束微三维光刻技术新概念。对其实现方法的可行性进行了简要的理论分析,并使用SDV-II型真空腔在约1.33Pa的真空下对环氧618、WSJ 202和苏州2号抗蚀剂进行了气化试验,得出了它们在真空中的气化实验结果,证明了电子束液态光刻的可行性。