期刊文献+
共找到7篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
一种新型超短脉冲离子源
1
作者 王利 李海洋 +4 位作者 白吉玲 吕日昌 王理德 邢恒 魏希文 《大连理工大学学报》 CAS CSCD 北大核心 1998年第3期261-265,共5页
介绍了一种新型超短脉冲离子源.把聚焦后的激光照射到不锈钢板上,产生超短脉冲的光发射电子束.在飞行时间质谱仪(TOF-MS)上,利用这种电子束来轰击超音速射流气体,给出了这些气体离子的飞行时间质谱.这种离子源可作为飞行... 介绍了一种新型超短脉冲离子源.把聚焦后的激光照射到不锈钢板上,产生超短脉冲的光发射电子束.在飞行时间质谱仪(TOF-MS)上,利用这种电子束来轰击超音速射流气体,给出了这些气体离子的飞行时间质谱.这种离子源可作为飞行时间质谱仪的一种理想的“软电离”离子源. 展开更多
关键词 电子束离子源 飞行时间质谱仪 超短脉冲
下载PDF
电子束发射器
2
作者 李鑫德 《稀土信息》 1998年第2期13-13,共1页
电子束离子源需要数量级高达10~3A/cm^2的电子束电流密度。这可用对电流密度较低的阴极电子束进行聚焦的办法来获得。但是,在外部磁场强度很高的情况下。
关键词 电子束发射 电流密度 电子束离子源 阴极电子束 电子束电流 阴极材料 需要数量 逸出功 行聚焦 外部磁场
下载PDF
聚焦慢速高荷态重离子束微束斑X射线源 被引量:1
3
作者 王凯歌 王雷 +1 位作者 王鹏业 牛憨笨 《应用光学》 CAS CSCD 2004年第1期5-8,38,共5页
利用电子束离子源 (EBIS)或者电子束离子陷阱 (EBIT)产生的慢速高电荷态重离子束轰击金属靶面 ,离子束与靶面作用并复合辐射特征 X射线 ;并将高荷态离子束采用离子光学系统会聚为微细束后再与靶面作用 ,能够辐射出微米甚至亚微米级、纳... 利用电子束离子源 (EBIS)或者电子束离子陷阱 (EBIT)产生的慢速高电荷态重离子束轰击金属靶面 ,离子束与靶面作用并复合辐射特征 X射线 ;并将高荷态离子束采用离子光学系统会聚为微细束后再与靶面作用 ,能够辐射出微米甚至亚微米级、纳米级的微束斑 X射线。本文介绍这一新型微束斑 X射线源的结构、机理及其特性等。 展开更多
关键词 微束斑X射线源 电子束离子源 电子束离子陷阱 离子光学聚束系统
下载PDF
光电子技术与器件 射线探测技术与装置
4
《中国光学》 CAS 2005年第1期74-74,共1页
O434.1 2005010554 以碳纳米管阵到为场致发射阴极的X射线源研究=Research of X-ray source using carbon nanotubes based field- emission cathode[刊,中]/解滨(中科院长春光机所应用光学国家重点实验室.吉林,长春(130022)),陈波…... O434.1 2005010554 以碳纳米管阵到为场致发射阴极的X射线源研究=Research of X-ray source using carbon nanotubes based field- emission cathode[刊,中]/解滨(中科院长春光机所应用光学国家重点实验室.吉林,长春(130022)),陈波…∥光学学报.-2004,24(10).-1434-1436 实验使用印刷方法将碳纳米管制备于玻璃基底,并作为X射线源的阴极。阳极材料为铜,其顶端为半球形(半径为2 mm)。高压电源输出在0-19 kV之间可调。 展开更多
关键词 射线源 电子技术 探测技术 中科院 国家重点实验室 电子束离子源 离子 靶面 高电荷态 应用光学
下载PDF
用于聚焦离子束系统的离子源
5
作者 尚勇 赵环昱 《原子核物理评论》 CAS CSCD 北大核心 2011年第4期439-443,共5页
介绍了现阶段两种用于聚焦离子束系统的离子源——液态金属离子源和气体场发射离子源的基本原理,并对比了它们的优缺点。由于目前这两种离子源都难以满足纳米加工领域不断提高的技术要求,因此提出了一种用于聚焦离子束的新型离子源——... 介绍了现阶段两种用于聚焦离子束系统的离子源——液态金属离子源和气体场发射离子源的基本原理,并对比了它们的优缺点。由于目前这两种离子源都难以满足纳米加工领域不断提高的技术要求,因此提出了一种用于聚焦离子束的新型离子源——电子束离子源,并介绍了电子束离子源的基本原理,给出了设计参数、模拟结果(20kV的Ar+离子束,发射度约为5.8×10-5π.mm.mrad,束斑约为1μm)和初步的实验结果。 展开更多
关键词 聚焦离子束系统 液态金属离子源 气体场发射离子源 电子束离子源
原文传递
Charge Breeding Simulations in a Hollow Electron Beam
6
作者 Vincenzo Variale 《Journal of Energy and Power Engineering》 2013年第3期596-602,共7页
关键词 空心电子束 电荷态 育种 放射性离子 充电状态 模拟 放射性同位素 电子束离子源
下载PDF
Multiple charge ion beam generation with a 2.45 GHz electron cyclotron resonance ion source
7
作者 Yuan Xu ShiXiang Peng +7 位作者 HaiTao Ren JiaMei Wen AiLin Zhang Tao Zhang JingFeng Zhang WenBin Wu ZhiYu Guo JiaEr Chen 《Science China(Physics,Mechanics & Astronomy)》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第6期74-77,共4页
Multiple charge ions (MCIs) are necessary for increasing the output energy of particles in accelerators. In general, MCI beams are largely produced by electron beam ion source (EBIS) [1], laser ion source (LIS) [2], o... Multiple charge ions (MCIs) are necessary for increasing the output energy of particles in accelerators. In general, MCI beams are largely produced by electron beam ion source (EBIS) [1], laser ion source (LIS) [2], or high-frequency (mostly >5 GHz) electron cyclotron resonance (ECR) ion source [3]. Among these, only ECR ion source can operate in the continuous wave (CW) mode, while EBIS and LIS only support pulses. In addition, ECR ion source with lower frequency (mostly 2.45 GHz) are required primarily for generating single charge state ions, because the corresponding ECR field (875 Gs) is not sufficiently strong for MCI generation [4]. 展开更多
关键词 电子回旋共振离子源 多电荷离子 离子 GHZ ECR离子源 MCIS 电子束离子源 激光离子源
原文传递
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部