期刊文献+
共找到1,104篇文章
< 1 2 56 >
每页显示 20 50 100
重离子辐射对AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管低频噪声特性的影响
1
作者 吕玲 邢木涵 +5 位作者 薛博瑞 曹艳荣 胡培培 郑雪峰 马晓华 郝跃 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第3期209-216,共8页
采用^(181)Ta^(32+)重离子辐射AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管,获得器件在重离子辐射前后的电学特性和低频噪声特性.重离子辐射导致器件的阈值电压正向漂移、最大饱和电流减小等电学参数的退化.微光显微测试发现辐射后器件热点数量明显增... 采用^(181)Ta^(32+)重离子辐射AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管,获得器件在重离子辐射前后的电学特性和低频噪声特性.重离子辐射导致器件的阈值电压正向漂移、最大饱和电流减小等电学参数的退化.微光显微测试发现辐射后器件热点数量明显增加,引入更多缺陷.随着辐射注量的增加,电流噪声功率谱密度逐渐增大,在注量为1×10^(10)ions/cm^(2)重离子辐射后,缺陷密度增大到3.19×10^(18)cm^(-3)·eV^(-1),不同栅压下的Hooge参数增大.通过漏极电流噪声归一化功率谱密度随偏置电压的变化分析,发现重离子辐射产生的缺陷会导致寄生串联电阻增大. 展开更多
关键词 重离子辐射 氮化镓 电子迁移率晶体管 低频噪声
下载PDF
GaN基高电子迁移率晶体管器件的可靠性及退化机制研究进展
2
作者 黄玲钰 修慧欣 《有色金属材料与工程》 CAS 2024年第2期46-54,共9页
GaN基高电子迁移率晶体管(high electron mobility transistor,HEMT)器件在航天、通讯、雷达、电动汽车等领域具有广泛的应用,近年来成为电力电子器件的研究热点。在实际应用中,GaN基HEMT器件随着使用时间的延长会发生退化甚至失效的情... GaN基高电子迁移率晶体管(high electron mobility transistor,HEMT)器件在航天、通讯、雷达、电动汽车等领域具有广泛的应用,近年来成为电力电子器件的研究热点。在实际应用中,GaN基HEMT器件随着使用时间的延长会发生退化甚至失效的情况,器件的可靠性问题仍是进一步提高HEMT器件应用的绊脚石。因此,研究器件的可靠性及退化机制对于进一步优化器件性能具有极其重要的意义。将从影响器件可靠性的几个关键因素如高电场应力、高温存储、高温电场和重离子辐照等进行阐述,主要对近几年文献里报道的几种失效机制及相应的失效现象进行了综述和总结,最后讨论了进一步优化器件可靠性的措施,对进一步提高HEMT器件的应用起促进作用。 展开更多
关键词 GAN 电子迁移率晶体管 可靠性 退化
下载PDF
高电子迁移催化材料制备方法研究进展
3
作者 亓占丰 高瑞 +1 位作者 王珍 郭秀丽 《功能材料》 CAS CSCD 北大核心 2023年第6期6056-6065,共10页
通过提升材料的电子迁移率,可以提高材料的导电率,加速催化过程中氧化还原反应的进程,极大地提高催化活性。因此,高电子迁移催化材料的制备已经成为当前研究的热点。尽管诸多研究都认识到了催化材料电子迁移率提升对于催化性能的重要性... 通过提升材料的电子迁移率,可以提高材料的导电率,加速催化过程中氧化还原反应的进程,极大地提高催化活性。因此,高电子迁移催化材料的制备已经成为当前研究的热点。尽管诸多研究都认识到了催化材料电子迁移率提升对于催化性能的重要性,但是目前研究的系统性仍然不足,尤其是对固体表面催化领域电子迁移率如何影响材料催化性能的内在机理缺乏统一认识。亟待揭示电子迁移率与催化材料之间的构效关系,实现催化材料的可控制备。综述系统总结了高电子迁移催化材料的不同制备方法、化学物理机理、特性分析、面临的挑战,并对未来的发展方向进行了展望。重点阐述了材料的元素特性、导电特性和空间特性对高电子迁移催化材料制备的影响和限制。 展开更多
关键词 催化剂 电子迁移 导电材料 空间结构
下载PDF
GaN基高电子迁移率晶体管专利分析
4
作者 罗晓雅 《中国科技信息》 2023年第19期20-23,共4页
技术概述。相对于以Si为代表的第一代半导体材料和以GaAs为代表的第二代半导体材料,以GaN和SiC为代表的第三代半导体具有禁带宽度大、临界击穿电场高、电子饱和漂移速率大、耐高温以及抗辐射能力强的优点,在射频领域和大功率方面显示出... 技术概述。相对于以Si为代表的第一代半导体材料和以GaAs为代表的第二代半导体材料,以GaN和SiC为代表的第三代半导体具有禁带宽度大、临界击穿电场高、电子饱和漂移速率大、耐高温以及抗辐射能力强的优点,在射频领域和大功率方面显示出卓越的优势。除此之外,在GaN材料上生长AlGaN后形成异质结构,AlGaN/GaN界面处会由极化效应产生高浓度的二微电子气(2 DEG),2 DEG被限制在二维平面运动而减少散射,因此具有高达2 000cm2/V·s的电子迁移率,从而能够被应用于射频器件中。 展开更多
关键词 电子迁移率晶体管 半导体材料 临界击穿电场 电子迁移 射频器件 异质结构 GAN材料 抗辐射能力
下载PDF
高电子迁移率晶体管的研究进展 被引量:1
5
作者 许俊焯 蒙自明 《科技创新与应用》 2023年第13期99-104,共6页
高电子迁移率晶体管(HEMT)作为半导体功率器件,能够应用在高温、高压和高频等环境。到目前为止,第二代半导体材料GaAs、InP基HEMTs体系的发展已相当成熟,随着第三代半导体GaN基HEMT体系的数据及理论不断完善,其在相关领域的应用正逐渐... 高电子迁移率晶体管(HEMT)作为半导体功率器件,能够应用在高温、高压和高频等环境。到目前为止,第二代半导体材料GaAs、InP基HEMTs体系的发展已相当成熟,随着第三代半导体GaN基HEMT体系的数据及理论不断完善,其在相关领域的应用正逐渐占据市场的主导地位,而随着对超宽禁带半导体Ga2O3理论的完善及无铱工艺的出现,Ga2O3基HEMT器件在电力电子、射频微波等领域展现出巨大的发展潜力。 展开更多
关键词 电子迁移率晶体管 氮化镓 氧化镓 HEMT 研究进展
下载PDF
氮化镓高电子迁移率晶体管的物理失效分析技术研究进展
6
作者 安蒙恩 修慧欣 《应用物理》 2023年第6期274-290,共17页
氮化镓(GaN)基高电子迁移率晶体管(HEMTs)由于具有高截止频率、高工作电压和工作温度范围广泛等特点,越来越多地应用于高频和高功率器件等电力电子领域。然而,在实际应用中,在高温高压等极端情况下,GaN HEMTs会出现退化甚至失效,这使得... 氮化镓(GaN)基高电子迁移率晶体管(HEMTs)由于具有高截止频率、高工作电压和工作温度范围广泛等特点,越来越多地应用于高频和高功率器件等电力电子领域。然而,在实际应用中,在高温高压等极端情况下,GaN HEMTs会出现退化甚至失效,这使得失效后器件的物理分析对于提高可靠性和进一步的器件优化至关重要。本文介绍了分析器件失效机制的分析方法,对失效后物理表征技术工作原理、表征范围及研究进展方面进行了简要综述,为进一步提高器件可靠性和器件的进一步优化提供了参考。 展开更多
关键词 氮化镓(GaN) 电子迁移率晶体管(HEMT) 物理失效分析技术
下载PDF
加载功率与壳温对AlGaN/GaN高速电子迁移率晶体管器件热阻的影响 被引量:7
7
作者 郭春生 李世伟 +3 位作者 任云翔 高立 冯士维 朱慧 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2016年第7期265-270,共6页
结温是制约器件性能和可靠性的关键因素,通常利用热阻计算器件的工作结温.然而,器件的热阻并不是固定值,它随器件的施加功率、温度环境等工作条件的改变而变化.针对该问题,本文以CREE公司生产的高速电子迁移率晶体管(HEMT)器件为研究对... 结温是制约器件性能和可靠性的关键因素,通常利用热阻计算器件的工作结温.然而,器件的热阻并不是固定值,它随器件的施加功率、温度环境等工作条件的改变而变化.针对该问题,本文以CREE公司生产的高速电子迁移率晶体管(HEMT)器件为研究对象,利用红外热像测温法与Sentaurus TCAD模拟法相结合,测量研究了AlGaN/GaN HEMT器件在不同加载功率以及管壳温度下热阻的变化规律.研究发现:当器件壳温由80°C升高至130°C时,其热阻由5.9°C/W变化为6.8°C/W,增大15%,其热阻与结温呈正反馈效应;当器件的加载功率从2.8 W增加至14 W时,其热阻从5.3°C/W变化为6.5°C/W,增大22%.对其热阻变化机理的研究发现:在不同的管壳温度以及不同的加载功率条件下,由于材料导热系数的变化导致其热阻随温度与加载功率的变化而变化. 展开更多
关键词 AlGaN/GaN高速电子迁移率晶体管 热阻 红外热像测温法 Sentaurus TCAD模拟
下载PDF
不同氟取代基对苝酰亚胺电子迁移率的影响 被引量:10
8
作者 施敏敏 陈红征 汪茫 《化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2006年第8期721-726,共6页
利用空间电荷限制电流(SCLC)法测试了二种氟代苝酰亚胺的电子迁移率,一种是N,N'-二(五氟代苯基)-3,4,9,10-苝四羧基二酰亚胺(1),另一种是N,N'-二(1,1-二氢十五氟代辛基)-3,4,9,10-苝四羧基二酰亚胺(2).结果发现,化合物2的电子... 利用空间电荷限制电流(SCLC)法测试了二种氟代苝酰亚胺的电子迁移率,一种是N,N'-二(五氟代苯基)-3,4,9,10-苝四羧基二酰亚胺(1),另一种是N,N'-二(1,1-二氢十五氟代辛基)-3,4,9,10-苝四羧基二酰亚胺(2).结果发现,化合物2的电子迁移率要比1高1~2个数量级.UV-Vis,XRD,SEM和AFM等表征手段证明,这一现象可以用不同的氟取代基导致不同的聚集态结构来解释:对于化合物1而言,苯环平面与苝环平面之间存在大的夹角,破坏了苝酰亚胺分子的平面性,再加上刚性的氟代苯环大的空间位阻作用,化合物1分子无法依靠相邻苝环之间的重叠排列而结晶,只能无序堆积形成非晶膜;与之相反,在化合物2分子中苝环上的端基是柔性的锯齿状氟代烷基链,空间位阻小,化合物2分子能通过相邻苝环之间相互接近而形成的π-π偶合作用而结晶,因此有利于电子在苝酰亚胺分子间的跳跃传输. 展开更多
关键词 电子迁移 苝酰亚胺 氟代作用 聚集态结构
下载PDF
GaN高电子迁移率晶体管强电磁脉冲损伤效应与机理 被引量:5
9
作者 刘阳 柴常春 +4 位作者 于新海 樊庆扬 杨银堂 席晓文 刘胜北 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2016年第3期372-378,共7页
提出了一种新型GaN异质结高电子迁移率晶体管在强电磁脉冲下的二维电热模型,模型引入材料固有的极化效应,高场下电子迁移率退化、载流子雪崩产生效应以及器件自热效应,分析了栅极注入强电磁脉冲情况下器件内部的瞬态响应,对其损伤机理... 提出了一种新型GaN异质结高电子迁移率晶体管在强电磁脉冲下的二维电热模型,模型引入材料固有的极化效应,高场下电子迁移率退化、载流子雪崩产生效应以及器件自热效应,分析了栅极注入强电磁脉冲情况下器件内部的瞬态响应,对其损伤机理和损伤阈值变化规律进行了研究.结果表明,器件内部温升速率呈现出"快速-缓慢-急剧"的趋势.当器件局部温度足够高时(2000 K),该位置热电子发射与温度升高形成正反馈,导致温度急剧升高直至烧毁.栅极靠近源端的柱面处是由于热积累最易发生熔融烧毁的部位,严重影响器件的特性和可靠性.随着脉宽的增加,损伤功率阈值迅速减小而损伤能量阈值逐渐增大.通过数据拟合得到脉宽τ与损伤功率阈值P和损伤能量阈值E的关系. 展开更多
关键词 GAN 电子迁移率晶体管 强电磁脉冲 损伤机理
下载PDF
高电子迁移率晶体管微波损伤仿真与实验研究 被引量:9
10
作者 张存波 王弘刚 张建德 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第6期59-64,共6页
针对AlGaAs/InGaAs型高电子迁移率晶体管,利用TCAD半导体仿真工具,从器件内部空间电荷密度、电场强度、电流密度和温度分布变化分析出发,研究了从栅极注入1 GHz微波信号时器件内部的损伤过程与机理。研究表明,器件的损伤过程发生在微波... 针对AlGaAs/InGaAs型高电子迁移率晶体管,利用TCAD半导体仿真工具,从器件内部空间电荷密度、电场强度、电流密度和温度分布变化分析出发,研究了从栅极注入1 GHz微波信号时器件内部的损伤过程与机理。研究表明,器件的损伤过程发生在微波信号的正半周,负半周器件处于截止状态;器件内部损伤过程与机理在不同幅值的注入微波信号下是不同的。当注入微波信号幅值较低时,器件内部峰值温度出现在栅极下方靠源极侧栅极与InGaAs沟道间,由于升温时间占整个周期的比例太小,峰值温度很难达到GaAs的熔点;但器件内部雪崩击穿产生的栅极电流比小信号下栅极泄漏电流高4个量级,栅极条在如此大的电流下很容易烧毁熔断。当注入微波信号幅值较高时,在信号正半周的下降阶段,在栅极中间偏漏极下方发生二次击穿,栅极电流出现双峰现象,器件内部峰值温度转移到栅极中间偏漏极下方,峰值温度超过GaAs熔点。利用扫描电子显微镜对微波损伤的高电子迁移率晶体管器件进行表面形貌失效分析,仿真和实验结果符合较好。 展开更多
关键词 电子迁移率晶体管 微波损伤 击穿 失效分析
下载PDF
SOD及其电子迁移促进剂L-半胱氨酸的Raman光谱 被引量:5
11
作者 曹晓卫 孟晓云 +3 位作者 杨海峰 吴霞琴 王桂华 章宗穰 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第4期485-488,共4页
在以电化学方法证实了L 半胱氨酸对铜锌 超氧化物歧化酶在金丝电极上的电子传递过程起有效促进作用的基础上 ,应用共焦显微激光拉曼光谱测试技术对固体的L 半胱氨酸和铜锌 超氧化物歧化酶进行了测定和光谱分析。并对以电化学和浸渍两... 在以电化学方法证实了L 半胱氨酸对铜锌 超氧化物歧化酶在金丝电极上的电子传递过程起有效促进作用的基础上 ,应用共焦显微激光拉曼光谱测试技术对固体的L 半胱氨酸和铜锌 超氧化物歧化酶进行了测定和光谱分析。并对以电化学和浸渍两种不同方法修饰在金电极上的L 半胱氨酸 ,也作了相应的拉曼光谱测试研究。 展开更多
关键词 拉曼光谱 L-半胱氨酸 铜锌-超氧化物歧化酶 修饰电极 光谱分析 电子迁移促进剂
下载PDF
外界条件在电磁脉冲对GaAs赝高电子迁移率晶体管损伤过程中的影响 被引量:4
12
作者 席晓文 柴常春 +2 位作者 刘阳 杨银堂 樊庆扬 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2017年第7期389-395,共7页
结合器件仿真软件Sentaurus TCAD,建立了GaAs赝高电子迁移率晶体管器件的电磁脉冲损伤模型.基于此模型,从信号参数和外接电阻两个方面出发讨论了外界条件对器件电磁脉冲损伤效应的影响.结果表明,信号参数的改变能够显著影响器件的损伤时... 结合器件仿真软件Sentaurus TCAD,建立了GaAs赝高电子迁移率晶体管器件的电磁脉冲损伤模型.基于此模型,从信号参数和外接电阻两个方面出发讨论了外界条件对器件电磁脉冲损伤效应的影响.结果表明,信号参数的改变能够显著影响器件的损伤时间:信号幅度通过改变器件的吸收能量速度来影响器件的损伤效应,其与器件损伤时间成反比;信号上升时间的改变能够提前或延迟器件的击穿点,其与器件损伤时间成正比.器件外接电阻能够减弱器件的电流沟道,进而延缓器件的损伤进程,且源极外接电阻的影响更加明显. 展开更多
关键词 GaAs赝高电子迁移率晶体管 电磁脉冲 外界条件 损伤过程
下载PDF
AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管解析模型 被引量:3
13
作者 杨燕 王平 +2 位作者 郝跃 张进城 李培咸 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期205-208,共4页
基于电荷控制理论 ,考虑到极化效应和寄生漏源电阻的影响 ,建立了能精确模拟AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管直流I V特性和小信号参数的解析模型 .计算表明 ,自发极化和压电极化的综合作用对器件特性影响尤为显著 ,2V栅压下 ,栅长为 1μm的... 基于电荷控制理论 ,考虑到极化效应和寄生漏源电阻的影响 ,建立了能精确模拟AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管直流I V特性和小信号参数的解析模型 .计算表明 ,自发极化和压电极化的综合作用对器件特性影响尤为显著 ,2V栅压下 ,栅长为 1μm的Al0 .2 Ga0 .8N/GaNHEMT获得的最大漏电流为 1370mA/mm ;降低寄生源漏电阻可以获得更高的饱和电流、跨导和截至频率 .模拟结果同已有的测试结果较为吻合 ,该模型具有物理概念明确且算法简单的优点 ,适于微波器件结构和电路设计 . 展开更多
关键词 ALGAN/GAN 电子迁移率晶体管 解析模型 极化效应 寄生源漏电阻
下载PDF
考虑寄生参数的高压GaN高电子迁移率晶体管的逆变器动态过程分析 被引量:8
14
作者 张雅静 郑琼林 李艳 《电工技术学报》 EI CSCD 北大核心 2016年第12期126-134,共9页
近年来随着氮化镓器件制造工艺的迅速发展,氮化镓高电子迁移率晶体管(GaN HEMT)已经开始应用在电力电子领域。GaN HEMT以其低寄生参数、无反向恢复损耗、高开通速度等特点,可降低开关管的开关损耗。本文以600V GaN HEMT为研究对象,研究... 近年来随着氮化镓器件制造工艺的迅速发展,氮化镓高电子迁移率晶体管(GaN HEMT)已经开始应用在电力电子领域。GaN HEMT以其低寄生参数、无反向恢复损耗、高开通速度等特点,可降低开关管的开关损耗。本文以600V GaN HEMT为研究对象,研究其共源共栅(Cascode)结构引起的开关动态过程及其寄生参数的影响。建立了600V GaN HEMT等效模型并详细推导了其在单相逆变器中开关管正向导通、正向关断、反向续流导通和反向续流关断四种情况的动态过程。GaN HEMT的等效电路考虑了对开关过程及开关损耗有重要影响的寄生电感和寄生电容。理论、仿真及实验证明了Cascode GaN HEMT器件中寄生电感L_(int1)、L_(int3)和L_S直接影响开关管的动态过程进而影响开关管的开关损耗。 展开更多
关键词 宽禁带半导体器件 氮化镓高电子迁移率晶体管 动态过程
下载PDF
纤锌矿GaN低场电子迁移率解析模型 被引量:2
15
作者 张进城 马晓华 +2 位作者 郝跃 范隆 李培咸 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第10期1044-1048,共5页
在GaAs低场电子迁移率解析模型的基础上得到了纤锌矿GaN低场电子迁移率的解析模型 ,该模型考虑了杂质浓度、温度和杂质补偿率对低场电子迁移率的影响 .模拟结果和测量数据的比较表明该模型在 10 16~ 10 2 0 cm-3的电子浓度、30~ 80 0... 在GaAs低场电子迁移率解析模型的基础上得到了纤锌矿GaN低场电子迁移率的解析模型 ,该模型考虑了杂质浓度、温度和杂质补偿率对低场电子迁移率的影响 .模拟结果和测量数据的比较表明该模型在 10 16~ 10 2 0 cm-3的电子浓度、30~ 80 0K的温度和 0~ 0 9的杂质补偿率范围内具有较好的一致性 .该电子迁移率解析模型对于GaN器件的数值模拟和器件仿真设计具有很强的实用意义 . 展开更多
关键词 GAN 电子迁移 解析模型
下载PDF
GaN高电子迁移率晶体管的研究进展 被引量:7
16
作者 张金风 郝跃 《电力电子技术》 CSCD 北大核心 2008年第12期63-66,共4页
GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)是GaN微波功率器件的主要形式,是第3代半导体技术领域发展和竞争的焦点。针对GaN HEMT的目标特性和电流崩塌现象,从材料结构设计和器件设计两方面概括了十几年来GaN HEMT器件性能优化的研究方法,并给出了国... GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)是GaN微波功率器件的主要形式,是第3代半导体技术领域发展和竞争的焦点。针对GaN HEMT的目标特性和电流崩塌现象,从材料结构设计和器件设计两方面概括了十几年来GaN HEMT器件性能优化的研究方法,并给出了国内外GaN HEMT器件微波功率特性目前的研究进展水平。 展开更多
关键词 晶体管 电子迁移 特性
下载PDF
AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管的可靠性 被引量:2
17
作者 冯士维 邓兵 +3 位作者 张亚民 石磊 郭春生 朱慧 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2014年第3期226-232,共7页
利用正向肖特基结结电压与温度的线性关系,对AlGaN/GaN HEMT器件有源区瞬态温升进行了测量,其热阻为19.6℃/W。比较了不同测温方法和外界环境对器件沟道温升的影响。并研究了栅极施加反向直流阶梯应力对AlGaN/GaN HEMT器件性能的影响,... 利用正向肖特基结结电压与温度的线性关系,对AlGaN/GaN HEMT器件有源区瞬态温升进行了测量,其热阻为19.6℃/W。比较了不同测温方法和外界环境对器件沟道温升的影响。并研究了栅极施加反向直流阶梯应力对AlGaN/GaN HEMT器件性能的影响,结果表明器件在应力作用下电学参数退化,大信号寄生源/漏极电阻RS/RD和栅源正向I-V特性在击穿后能得到恢复。AlGaN势垒层陷阱俘获电子和电子填充栅极表面态是器件参数退化的原因,表面态恢复是器件参数恢复的主要原因。 展开更多
关键词 瞬态温升测量 应力 衰退与恢复特性 可靠性 电子迁移率晶体管(HEMT)
下载PDF
氮化镓基感光栅极高电子迁移率晶体管器件设计与制备 被引量:2
18
作者 朱彦旭 宋会会 +2 位作者 王岳华 李赉龙 石栋 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2017年第24期205-210,共6页
GaN基高电子迁移率晶体管(HEMT)作为栅控器件,具有AlGaN/GaN异质结处高浓度的二维电子气(2DEG)及对表面态敏感等特性,在栅位置处与感光功能薄膜的结合是光探测器领域重要的研究方向之一.本文首先提出在GaN基HEMT栅电极上引入光敏材料锆... GaN基高电子迁移率晶体管(HEMT)作为栅控器件,具有AlGaN/GaN异质结处高浓度的二维电子气(2DEG)及对表面态敏感等特性,在栅位置处与感光功能薄膜的结合是光探测器领域重要的研究方向之一.本文首先提出在GaN基HEMT栅电极上引入光敏材料锆钛酸铅(PZT),将具有光伏效应的铁电薄膜PZT与HEMT栅极结合,提出一种新的"金属/铁电薄膜/金属/半导体(M/F/M/S)"结构;然后在以蓝宝石为衬底的AlGaN/GaN外延片上制备感光栅极HEMT器件.最后,通过PZT的光伏效应来调控沟道中的载流子浓度和通过源漏电流的变化来实现对可见光和紫外光的探测.在365 nm紫外光和普通可见光条件下,对比测试有/无感光栅极的HEMT器件,在较小V_(gs)电压时,可见光下测得前者较后者的饱和漏源电流I_(ds)的增幅不下降,紫外光下前者较后者的I_(ds)增幅大5.2 mA,由此可知,感光栅PZT在可见光及紫外光下可作用于栅极GaN基HEMT器件并可调控沟道电流. 展开更多
关键词 电子迁移率晶体管 锆钛酸铅 感光栅极 光探测
下载PDF
含电子媒介体电化学传感器电子迁移机理的研究 被引量:2
19
作者 周永军 牛中奇 +1 位作者 卢智远 孙文权 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2007年第5期958-960,共3页
基于《一种微生物检测的生物电化学方法研究》中介绍的一种电测方法,实验对比了试样中含菌量低端时加和未加低分子媒介体时的电极响应,分析讨论了低分子媒介体加速电子传递速率的机理.用氢酶如何催化代谢物上氢的氧化或质子的还原以及... 基于《一种微生物检测的生物电化学方法研究》中介绍的一种电测方法,实验对比了试样中含菌量低端时加和未加低分子媒介体时的电极响应,分析讨论了低分子媒介体加速电子传递速率的机理.用氢酶如何催化代谢物上氢的氧化或质子的还原以及配合态液中氧化还原过程的电子迁移规律阐释了生物的氧化还原过程中的电催化反应机理. 展开更多
关键词 电化学传感器 电子媒介体 电子迁移 电催化反应机理
下载PDF
一种紧凑的GaN高电子迁移率晶体管大信号模型拓扑 被引量:2
20
作者 韩克锋 蒋浩 +1 位作者 秦桂霞 孔月婵 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第2期501-506,共6页
GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)以其复杂的器件特性使其大信号建模变得十分困难,尽管EEHEMT、Angelov等模型结构曾经成功应用于Ga As HEMT/MESFET的大信号模型,但当它们被用于GaN HEMT建模时却不再准确和完备.面向GaN HEMT器件的大信号模... GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)以其复杂的器件特性使其大信号建模变得十分困难,尽管EEHEMT、Angelov等模型结构曾经成功应用于Ga As HEMT/MESFET的大信号模型,但当它们被用于GaN HEMT建模时却不再准确和完备.面向GaN HEMT器件的大信号模型,本文提出了一种紧凑的模型拓扑,此模型拓扑综合了GaN HEMT器件的直流电压-电流(I-V)特性、非线性电容、寄生参数、栅延迟漏延迟与电流崩塌、自热效应以及噪声等特性.经验证此模型拓扑在仿真中具有很好的收敛性,适用于GaN HEMT器件的大信号模型的建立,满足GaN基微波电路设计对器件模型的需求. 展开更多
关键词 氮化镓高电子迁移率晶体管 大信号模型 非线性 收敛性
下载PDF
上一页 1 2 56 下一页 到第
使用帮助 返回顶部