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用于电弧等离子体沉积设备的喷咀式喷射器
1
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第5期70-70,共1页
关键词
专利
通用电气公司
美国
纽约州
电弧
等离子体沉积
设备
喷咀式喷射
器
电弧点燃器
等离子体发生
器
下载PDF
职称材料
题名
用于电弧等离子体沉积设备的喷咀式喷射器
1
出处
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第5期70-70,共1页
关键词
专利
通用电气公司
美国
纽约州
电弧
等离子体沉积
设备
喷咀式喷射
器
电弧点燃器
等离子体发生
器
分类号
TG174.442 [金属学及工艺—金属表面处理]
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1
用于电弧等离子体沉积设备的喷咀式喷射器
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002
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