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电弧离子镀技术在航空工业上的应用 被引量:3
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作者 匡君君 姜春玉 刘宏斌 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2016年第8期23-26,共4页
在航空工业中,电弧离子镀技术是一项很重要的镀膜技术,介绍了电弧离子镀的基本原理与特点,并结合国内外航空工业中航空发动机、复合材料领域的研究与发展,重点介绍了电弧离子镀技术在我国航空工业,尤其是航空发动机叶片、复合材料制件... 在航空工业中,电弧离子镀技术是一项很重要的镀膜技术,介绍了电弧离子镀的基本原理与特点,并结合国内外航空工业中航空发动机、复合材料领域的研究与发展,重点介绍了电弧离子镀技术在我国航空工业,尤其是航空发动机叶片、复合材料制件上的工程应用。 展开更多
关键词 电弧离子镀技术 基本原理 航空工业 应用
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电弧离子镀与磁控溅射复合技术制备Ti/TiN/TiAlN复合涂层的组织结构与力学性能 被引量:18
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作者 张启沛 钟喜春 +4 位作者 李春明 郭燕伶 余赟 焦东玲 匡同春 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第2期195-200,共6页
采用磁控溅射和电弧离子镀技术,在高速钢基体上制备了Ti/TiN/TiAlN复合涂层。采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、显微硬度计、微米划痕仪等方法研究了镀覆条件对复合涂层的形貌、组织结构和力学性能的影响。结果表明,离子镀镀覆的过渡... 采用磁控溅射和电弧离子镀技术,在高速钢基体上制备了Ti/TiN/TiAlN复合涂层。采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、显微硬度计、微米划痕仪等方法研究了镀覆条件对复合涂层的形貌、组织结构和力学性能的影响。结果表明,离子镀镀覆的过渡层对磁控溅射涂层的显微组织和力学性能有重要影响。例如,新开发的AIP+MS技术制备的复合膜比AIP或MS技术制备的薄膜具有更高的硬度、更好的耐磨性能、更光滑的表面和更强的膜基结合力(大于30N)。由于电弧离子镀TiN过渡层表面的"大颗粒"在磁控溅射沉积TiAlN薄膜时也会结晶长大,组织形貌与膜上的TiAlN相似,提高了其与周围薄膜的结合,电弧离子镀TiN过渡层表面的"大颗粒"负面效应大大弱化。 展开更多
关键词 电弧离子镀技术 磁控溅射技术 复合技术 结合力
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电弧离子镀多层Ti/TiN厚膜组织和力学性能研究 被引量:9
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作者 马占吉 武生虎 +2 位作者 肖更竭 任妮 赵栋才 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 2008年第3期26-29,共4页
采用电弧离子镀技术在钛合金(Ti6Al4V)上制备了Ti/TiN/┄/Ti/TiN多层厚膜,膜层厚度为21.6μm~25.6μm,对不同Ti/TiN调制周期的多层膜物相、形貌、附着力和硬度进行了分析。结果表明:随膜层中Ti比例增加,膜层附着力增加,但膜层维氏硬度... 采用电弧离子镀技术在钛合金(Ti6Al4V)上制备了Ti/TiN/┄/Ti/TiN多层厚膜,膜层厚度为21.6μm~25.6μm,对不同Ti/TiN调制周期的多层膜物相、形貌、附着力和硬度进行了分析。结果表明:随膜层中Ti比例增加,膜层附着力增加,但膜层维氏硬度变化不大。 展开更多
关键词 电弧离子镀技术 Ti/TiN多层膜 附着力 硬度
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磁过滤电弧离子镀TiN薄膜的制备及性能研究 被引量:4
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作者 张启沛 钟喜春 +2 位作者 李春明 匡同春 郭燕伶 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第4期444-450,共7页
采用磁过滤电弧离子镀(MFAIP)方法在高速钢表面制备了Ti N薄膜,采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪,显微硬度计和划痕仪等方法研究了偏压和磁过滤电流对Ti N薄膜的形貌、沉积速率、组织结构和力学性能的影响。结果表明:MFAIP-Ti N薄膜膜... 采用磁过滤电弧离子镀(MFAIP)方法在高速钢表面制备了Ti N薄膜,采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪,显微硬度计和划痕仪等方法研究了偏压和磁过滤电流对Ti N薄膜的形貌、沉积速率、组织结构和力学性能的影响。结果表明:MFAIP-Ti N薄膜膜层均匀,表面质量好,膜与基体结合紧密。随着偏压和磁过滤电流的增加,Ti N的(111)晶面择优取向越来越弱,(311)和(222)晶面的择优取向逐渐增强。当偏压为-150 V,磁过滤电流为4.5 A时,表现出较大的沉积速率,最大的显微硬度测试值和最大的膜/基结合力。 展开更多
关键词 磁过滤电弧离子镀技术 TIN薄膜 偏压 磁过滤电流
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电弧离子镀TiN涂层沉积工艺研究 被引量:14
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作者 侯翔 王铁钢 +2 位作者 刘源 张姣姣 朱强 《装备环境工程》 CAS 2019年第5期72-77,共6页
目的优化电弧离子镀沉积TiN涂层的制备工艺,分析不同N_2/Ar条件对涂层微观结构和力学性能的影响机制,进一步强化和研究TiN涂层的优异性能。方法采用带有附加线圈磁场的电弧离子镀技术在不同N_2/Ar条件下制备TiN涂层,利用扫描电子显微镜... 目的优化电弧离子镀沉积TiN涂层的制备工艺,分析不同N_2/Ar条件对涂层微观结构和力学性能的影响机制,进一步强化和研究TiN涂层的优异性能。方法采用带有附加线圈磁场的电弧离子镀技术在不同N_2/Ar条件下制备TiN涂层,利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、超景深显微镜、维氏硬度计、薄膜应力仪和高温摩擦机观察涂层微观结构、测试力学性能。结果随着N_2/Ar流量比的增加,涂层表面形貌得到改善,大颗粒的数量和尺寸明显减少,表面变得光滑致密。TiN涂层的生长取向由沿(110)晶面择优生长,逐渐转变为沿(111)晶面择优生长。涂层显微硬度呈上升趋势,硬度最高为2260HV;当N_2/Ar流量比为2:1时,摩擦系数最低为0.71,磨损率最低为1.5×10^(-2)μm^3/(N·μm),磨痕边界清晰,大颗粒和磨屑较少。结论当N_2/Ar流量比为2:1时,TiN涂层结构致密,且具有最佳的各项力学性能。 展开更多
关键词 电弧离子镀技术 TIN涂层 硬度 残余应力 摩擦磨损
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调制比对Cr/CrN/Cr/CrAlN多层膜结构及性能的影响 被引量:6
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作者 田甜 林松盛 +4 位作者 王迪 柏松 曲帅杰 郭朝乾 代明江 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第12期320-328,共9页
目的探究Cr/CrN/Cr/CrAlN多层膜的最佳调制比。方法利用电弧离子镀技术,在TC4钛合金上制备了不同调制比的Cr/CrN/Cr/CrAlN多层膜。利用扫描电子显微镜观察膜层表面和截面形貌;用Image-Pro分析软件对表面的大颗粒进行定量分析;利用X射线... 目的探究Cr/CrN/Cr/CrAlN多层膜的最佳调制比。方法利用电弧离子镀技术,在TC4钛合金上制备了不同调制比的Cr/CrN/Cr/CrAlN多层膜。利用扫描电子显微镜观察膜层表面和截面形貌;用Image-Pro分析软件对表面的大颗粒进行定量分析;利用X射线衍射法表征膜层的晶体结构;采用维氏硬度计测量膜层的显微硬度;采用划痕试验仪测量膜层与基体之间的结合力(临界载荷);通过基片弯曲法测量并计算得到膜层的残余应力;利用根据ASTM G76-05标准特制的AS600-喷砂试验机进行了抗冲蚀性能测试;采用三维表面轮廓仪测量冲蚀坑深度。结果膜层表面质量和生长取向与L_(Cr/CrN):L_(Cr/CrAlN)调制比密切相关,随着Cr/CrN比例的增加,膜层表面质量越来越好,择优取向由(111)晶面转为(200)晶面。多层膜的硬度随Cr/CrN比例的增加,呈下降趋势,结合力、残余应力和韧性则随之呈先升后降的趋势,并在L_(Cr/CrN)∶LCr/Cr Al N为1∶2时,达到最佳。多层膜的抗砂粒冲蚀性能变化与力学性能变化一致,在L_(Cr/CrN)∶L_(Cr/CrAlN)为1∶2时达到最佳,其抗冲蚀能力是TC4基材的3倍以上,多层膜呈典型的脆性断裂失效形式。结论在调制比L_(Cr/CrN)∶L_(Cr/CrAlN)=1∶2时,膜层获得最佳的抗冲蚀性能。 展开更多
关键词 Cr/CrN/Cr/CrAlN多层膜 钛合金 电弧离子镀技术 调制比 抗冲蚀
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TiAlSiN-TiAlAgN-Ti(Mo)N/MoS2纳米复合涂层在不同温度下的摩擦学性能 被引量:1
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作者 赵岩 冯长杰 +1 位作者 王泽勇 刘光明 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2019年第12期69-74,145,共7页
磁控溅射与电弧离子镀复合技术结合了2种镀膜方法的优点,制备的涂层性能优良,采用此法在SUS304表面制备了TiAlSiN-TiAlAgN-Ti(Mo)N/MoS2纳米复合涂层。采用SEM、EDS、XRD、显微硬度计、高温磨损试验机等研究了纳米复合涂层的微观结构、... 磁控溅射与电弧离子镀复合技术结合了2种镀膜方法的优点,制备的涂层性能优良,采用此法在SUS304表面制备了TiAlSiN-TiAlAgN-Ti(Mo)N/MoS2纳米复合涂层。采用SEM、EDS、XRD、显微硬度计、高温磨损试验机等研究了纳米复合涂层的微观结构、硬度、在室温(RT)、200℃、400℃、600℃恒温以及RT^600℃、600~200℃变温条件下的摩擦磨损性能。结果表明:TiAlSiN-TiAlAgN-Ti(Mo)N/MoS2纳米复合涂层表面较粗糙,有较多熔滴,显微硬度为22.56 GPa;由于MoS2、Ag以及Al2O3、SiO2分别在室温、中温(300~400℃)及高温下具有一定的润滑效果及协调润滑作用,涂层在恒温和变温环境下均具有良好的耐磨性能。 展开更多
关键词 TiAlSiN-TiAlAgN-Ti(Mo)N/MoS2纳米复合涂层 磁控溅射与电弧离子镀复合技术 摩擦学性能
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