基于电感耦合等离子体源的CO_(2)色散干涉仪搭建和测试

在电感耦合等离子体源(ICP)装置上成功地搭建了一套没有减震系统的水平单道测量的CO_(2)色散干涉仪,用以测量等离子体的弦积分电子密度,并且与HCN干涉仪结果作对比,证明了CO_(2)色散干涉仪的可行性。

小功率平面螺旋电感耦合微波等离子体源的研究

本文提出一种基于平面螺旋微带的2.45GHz小功率电感耦合微波等离子体源,根据等效变压器耦合模型分析等离子体源的谐振特性,通过微波等离子体吸收功率与等离子体阻抗之间的关系,研究不同气压条件下的放电规律.研究表明,在低气压条件下,输入功率不超过220mW时,空气开始放电;而在常压条件下,输入功率不超过1.5W时,氩气开始放电;随着微波等离子体的激励,小功率微波等离子体源的谐振频率和S参数都发生变化.这为电感耦合微波等离子体源的小型化研究提供了理论基础.

ICP源平面微带螺旋天线参数对性能的影响

分析了平面电感耦合微波等离子体源(ICP)的基本理论,根据其等效电路设计了一个谐振频率在2.45 GHz的平面微带螺旋天线,通过建模进行仿真优化,并提出减小损耗的方法.研究发现,螺旋线圈的尺寸是影响谐振频率和Q值的关键因素.这为小功率电感耦合微波等离子体源的进一步研究提供了理论基础.

微型ICP激发源及其应用

介绍一种新的原子发射光谱微型电感耦合等离子体(ICP)激发源,阐述这种激发源的结构、性能及其在光谱仪中的应用,它与平面结构的微型Fabry-Perot光谱仪联用可以作为微型气体分析仪使用。并简要介绍作者研制的在较低的13.56MHz下工作的微型ICP激发源。展望随着MEMS技术的发展,微型光谱仪的应用前景。

基于ICP的金属钛深刻蚀

MEMS应用领域的扩展要求开发硅材料之外其他新型材料的三维微细加工技术.为此,对金属钛这一新型MEMS体材料的三维加工进行了探索.金属钛不仅延展性和导电性好,且断裂韧度高、高低温特性以及生物兼容性好.采用电感耦合等离子体源(inductively coupled plasma,ICP)技术对金属钛进行三维深刻蚀,采用不同刻蚀掩模、氯基刻蚀气体,研究了线圈功率、平板功率和Cl2流量对刻蚀速率和选择比等工艺参数的影响,并对Ti深刻蚀参数进行了优化,得到0.91μm/min的刻蚀速率,可实现光滑表面和陡直侧壁.

低功率射频推力器启动特性研究及优化设计

针对微型射频离子推力器研制过程中击穿困难的问题,开展了低气压细管感应耦合等离子源(ICPs)的击穿特性实验研究.通过对放电腔室内等离子体击穿区域的研究,发现低气压细管ICPs击穿位置不在电场最强的天线区域,即天线的击穿区域与射频离子推力器稳定工作的等离子体维持区域不在同一区域,这造成了传统射频离子推力器结构下击穿点火的困难.通过改变放电腔室结构与天线位置研究击穿工况变化规律,发现延长放电腔室长度,适当增加天线匝数,调整天线与放电腔室相对位置都可以改善上述现象.