带加热及水冷的等离子清洗系统

等离子体技术作为一种干法纳米级表面处理技术,可以有效均匀可控地处理半导体材料、石英、陶瓷、高分子塑料、橡胶等材料并广泛应用至相关关键工艺生产中,例如集成电路的前期生产后期封装、LED生产、LCD液晶屏的生产工艺、连接器的生产工艺中等等。本文介绍了RF电源频率为13.56 MHz,功率为600W连续可调的真空等离子清洗设备中,对放置工件的电极载物板进行整体均匀可控加热的结构,以及真空反应腔室四壁及真空密封屏蔽门进行水冷的结构。