喷射电沉积技术的研究现状

喷射电沉积是近年来发展起来的一种电沉积新工艺 ,具有普通电镀所不具备的一些优点。本文综述了喷射电沉积的发展历史及研究现状 ,指出了该技术在实际应用中可能出现的一些问题 。

基于电沉积技术的纳米晶材料晶粒细化工艺研究

纳米晶材料电沉积工艺是在传统电沉积工艺的基础上,通过控制适当的工艺条件,最终获得具有各种性能的纳米晶电沉积层的过程。研究表明,由电沉积工艺制备的纳米晶材料,晶粒细小且组织均匀,具有耐磨、耐蚀、耐高温氧化等特殊性能。本文分析了在电沉积过程中纳米晶形成的机理,探讨了工艺参数、复合电沉积和脉冲电沉积、有机添加剂以及采用其它工艺措施对晶粒细化过程的影响。介绍了电沉积纳米晶材料的各种性能及应用。

电沉积技术制备Ni-纳米SiO_2复合镀层的研究

用电沉积方法制备了镍-纳米氧化硅复合镀层。研究了阴极电流密度、纳米SiO2微粒质量浓度、pH值、搅拌方式和表面活性剂种类以及质量浓度等对镀层中SiO2含量的影响,确定了可获得一定纳米氧化硅含量的复合镀工艺参数范围。并用扫描电镜观察了所获镀层的表面形貌。

电沉积技术制备钼酸钡薄膜及其特性表征

采用恒电流电沉积技术，在不同衬底（金属钼片、镀金的硅片、ITO导电玻璃）上，不同溶液酸碱性的条件下制备出了具有白钨矿结构的钼酸钡薄膜，利用X射线衍射仪（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）对制备的薄膜进行了分析表征。分析了利用电沉积方法制备的钼酸钡薄膜的成膜机制．实验结果表明：在室温环境下，利用电沉积技术，在不同材质的衬底（金属钼片、镀金的硅片和ITO导电玻璃）上，可以制备出具有白钨矿结构钼酸钡薄膜，不同材质的衬底会影响到薄膜晶粒的形状进而影响薄膜的表面形貌和致密性，用镀金的硅片（Au-Si片）作衬底时，制备的钼酸钡薄膜晶粒更加饱满，晶体生长呈四方锥形，晶界清晰。

摩擦喷射纳米复合电沉积技术研究

摩擦喷射纳米复合电沉积技术是一项获得功能性复合镀层的表面工程新技术。文中阐述了该技术的原理、特点、用途、装置，溶液、工艺，镀层的组织和性能，镀层强化机理，并在最后对该技术的发展进行了展望。

电沉积技术在合成纳米材料中的应用研究

介绍了电沉积技术在合成纳米材料中的应用,对其合成工艺及其影响参数进行了分 析,并报道了电沉积技术在纳米材料合成领域中的最新研究进展;同时,讨论了电沉积技术在纳米 材料制备中存在的问题。

电沉积技术基于增材制造的研究与发展

选区电沉积是基于增材制造理念所发展出的一种新型制备技术,其优势在于能够在工件表面局部区域进行定点、定形地沉积金属材料。主要介绍了选区电沉积技术的主要类型,论述该技术的原理与特点,总结其发展和研究现状,指出了选区电沉积技术的现有不足及发展趋势。

电极的电沉积制备技术及其在微细电火花深孔加工中的应用

微细电火花深孔加工中电极的损耗变形严重影响了加工精度。分析了造成电极形状失真的原因,提出了增强电极侧面抗电蚀能力的方法,通过复合电镀技术,在电极侧面电沉积Cu-ZrB2复合镀层,制成的复合电极在电火花机床上加工深孔,结果表明,Cu-ZrB2复合镀层提高了电极的抗电蚀能力,该方法能够有效地保证电极端面的等损耗,减小加工孔的锥度。

电沉积生物活性陶瓷涂层技术

介绍了用电沉积技术 (包括电泳沉积 EPD和电化学沉积 ECD)在 Ti或 Ti合金基体上制备生物活性陶瓷涂层 HA的技术 ,评述了该技术的研究现状及发展趋势 .

微波法制备氮掺杂碳点/海藻酸纳米复合物及其电沉积技术研究

以海藻酸为碳源,乙二胺为氮掺杂剂,采用简单方便的微波法制备得到氮掺杂碳点(N-CDs)/海藻酸纳米复合物.通过透射电镜观察到所制得的N-CDs/海藻酸纳米复合物有纳米粒子存在,它们的平均粒径为4.6 nm.荧光性能分析表明N-CDs/海藻酸纳米复合物在365 nm紫外光下呈现明显的蓝色荧光,并且其荧光发射性能具有激发光波长依赖性.N-CDs/海藻酸纳米复合物还保留了海藻酸与Ca^(2+)作用形成凝胶的性能以及与一些二价金属离子的配位能力,可以直接应用于阳极电沉积和配位电沉积.利用电沉积技术具有空间选择性和时间可控性的特点,可以在电极上构建不同形状和荧光图案的N-CDs/海藻酸电沉积膜,还可以对电沉积膜的厚度进行调控.此外,利用电沉积技术制备的N-CDs/海藻酸电沉积膜电极可用于进行电化学检测.

基于电沉积技术构建聚苯胺/海藻酸膜及电化学性能研究

基于电沉积技术的方法在电极表面构建聚苯胺(PANI)/海藻酸膜,直接构建PANI/海藻酸修饰电极,结合了海藻酸的阳极电沉积和苯胺的电化学聚合,具有条件温和以及后处理简便的特点。PANI/海藻酸膜呈现出与PANI类似的深绿色,其不仅可以稳定的存在于电极表面,而且还可以从电极表面取下来作为独立的膜材料。X射线衍射、红外光谱以及扫描电镜的测试结果均表明利用电沉积技术在电极表面制备得到了PANI/海藻酸膜。电化学性能分析结果表明,与PANI修饰电极相比,PANI/海藻酸修饰电极的电荷转移电阻更小,具备更高的电化学电容、更好的电荷储存能力和循环稳定性。

书讯：——《电沉积纳米晶材料技术》

本书由屠振密教授主编，国防工业出版社2008年5月出版。 本书主要内容包括：电沉积纳米晶概述；电沉积纳米材料的制备方法及原理；电沉积单金属纳米晶及其纳米复合镀层的制取方法、特性及应用；电沉积纳米合金及其纳米复合镀层的制取方法、特性及应用。其重点主要介绍电沉积技术制备单金属、合金及复合镀层等纳米材料的方法、镀液性能、镀层的微观结构和特性以及应用和发展。

利用电沉积技术制备可调电子和光子带隙的三维半导体量子点光子晶体

据《科技开发动态》2003年第11期报导,该成果开发的利用电沉积技术制备可调电子和光子带隙的三维半导体量子点光子晶体技术包括:由胶体化学方法制备Ⅱ—Ⅵ族半导体CdSe、Cds或ZnO等量子点,得到单分散性高的电子带隙可调的半导体量子点;用胶体化学方法,分别通过正硅酸乙酯水解和苯乙烯单体聚合制备尺寸在200～400纳米的溶胶SiO2和PS小球;通过自然沉积法,由溶胶SiO2和PS小球自组织晶化,沉积在ITO导电玻璃上制备成三维光子晶体模板;然后用电沉积法将半导体量子点填充入PS模板。所得到的CdSe等光子晶体的电子带隙可调,使其覆盖可见光范围。

电沉积锌合金镀层的特性及应用

锌合金镀层可以在适宜的镀液中比较容易的沉积出来,它具有优异的耐蚀性、低氢脆性和化学稳定性,已引起人们的极大关注。综述了电沉积合金镀层的主要特性和应用,并讨论了锌合金的最新发展趋向。电镀工作者应加快步伐推进锌合金在国内的应用。

电沉积纳米材料研究现状

综述了近年来利用电沉积技术制备纳米晶材料的研究现状和一些方法,如直流电沉积、脉冲电沉积以及复合电沉积和喷射式电沉积技术。同时,对一些电沉积技术所制备的新型纳米材料功能梯度材料,纳米金属多层膜的制备工艺进行了介绍,并对现存的问题作了简要的概括。

电沉积工艺参数及热处理对Fe-5Zn合金微观组织的影响

铁具有较高的力学性能和良好的生物相容性,是极具潜力的可降解血管支架材料,但难以在规定的治疗期内完成降解是其面临的主要问题。在前期工作中利用电沉积技术制备出Fe-5Zn合金。为进一步优化其显微组织,将阴极平均电流密度由3.0 A/dm^2降至1.0 A/dm^2,控制电解液pH值在2.3左右,电沉积制备出成分均匀、组织细小致密,且具有(112)择优取向的Fe-5Zn单相固溶体合金。该合金经800℃氩气保护再结晶退火后,显微硬度由681 HV_(0.1)降至287 HV_(0.1),材料韧性得到改善。同时合金中有耐蚀性较高的铁、锌氧化物相析出,增加了微阴极数量。动电位极化曲线测量和模拟体液静态浸泡试验结果显示,热处理后的Fe-5Zn合金自腐蚀电位为-0.89 V,自腐蚀电流密度为1.77×10^(-6) A·cm^(-2),腐蚀速度则为0.259 mg·cm^(-2)·d^(-1),降解性能优于常规纯铁。

Zn-Se/不锈钢薄膜的电沉积及其应用研究

研究了Zn-Se/不锈钢薄膜的电沉积工艺条件及其在染料废水处理中的应用。讨论了电流密度、初始浓度比(c(ZnSO4):c(Na2SeO3))、pH值、柠檬酸钠加入量、电沉积时间、电沉积温度以及超声功率对镀层的影响。经扫描电镜及能谱仪分析测试表明,在电流密度为3.8mA/cm2、初始浓度比为250:1、pH=2.9、柠檬酸钠加入量为14.71g、电沉积时间为7min、电沉积温度为55℃、超声功率为160W条件下制备出的Zn-Se/不锈钢薄膜,其表面结晶致密、均匀,Zn与Se的化学计量比为1:1.25。用所制备的薄膜材料作阴极,采用电化学复合技术处理罗丹明B模拟染料废水,可使模拟废水的脱色率接近99%,COD去除率接近90%。

激光强化电刷镀技术及试验研究

综述了激光强化电沉积技术的发展和研究现状，概括了激光强化电沉积机理、激光对镀层性能的影响，进行了激光强化电刷镀工艺试验，利用扫描电镜和显微硬度计对镀层性能进行了检测。结果表明，激光强化电刷镀可以细化镀层晶粒，提高硬度，并可实现一定的结晶取向性。

柠檬酸浓度对电沉积制备CuInSe_2薄膜的影响

采用 Mo/钠钙玻璃衬底作研究电极,饱和甘汞电极(SCE)作参比电极,铂网电极作辅助电极的三电极体系,利用电沉积技术在镀钼的钠钙玻璃衬底上制备 CuInSe_2薄膜,研究络合剂柠檬酸浓度对 CuInSe_2薄膜制备的影响。利用 EDS、XRD 和 SEM 对制备的 CuInSe_2薄膜进行表征,结果表明:当柠檬酸的浓度为 0.5mol/L 时,可以制备致密性好、晶粒分布均匀、组分接近化学计量比的黄铜矿结构的 CuInSe_2薄膜。