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提高电铸局部电沉积速率试验研究 被引量:2
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作者 吴安德 黄因慧 +2 位作者 王帮峰 吕益艳 余承业 《南京航空航天大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第5期449-452,共4页
电铸成型是采用离子沉积的方法制造复制件 ,具有很好的复制精度 ,因此电铸技术得到了广泛的应用。但由于受极限电流密度等多方面因素的影响 ,电铸速率一直是制约电铸技术发展的一个瓶颈 ,许多学者为此做了大量的理论和试验研究 ,但对如... 电铸成型是采用离子沉积的方法制造复制件 ,具有很好的复制精度 ,因此电铸技术得到了广泛的应用。但由于受极限电流密度等多方面因素的影响 ,电铸速率一直是制约电铸技术发展的一个瓶颈 ,许多学者为此做了大量的理论和试验研究 ,但对如何提高极限电流密度还没有提供一个比较满意的答案。为提高电铸局部电沉积速率 ,本文在前人工作的基础上 ,讨论了影响电铸速率的因素 ,提出了一种新型的电铸方法——喷射式电铸 ,并通过两组试验分析了局部电沉积速率与电铸液流量的关系以及局部电铸速率与喷嘴口径的关系。试验结果表明 ,采用喷射式电铸可以大大提高局部极限电流密度 ,从而使电铸局部电沉积速率有一个较大范围的提高 。 展开更多
关键词 铸成型 喷射式 电沉积速率 快速成型 喷嘴口径 流量 复制精度
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超声场作用对电沉积Cu及Cu-TiB_2性能的影响 被引量:2
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作者 戴春爽 李丽 朱翠雯 《现代制造工程》 CSCD 北大核心 2016年第4期21-25,共5页
在超声场作用下,采用电沉积法制备了Cu和Cu-TiB2复合材料,对比分析超声作用对电沉积速率和电流效率的影响。利用扫描电镜和金相显微镜分别对沉积层表面形貌、晶粒直径进行观察;用维氏硬度计测量硬度,并试验其耐腐蚀性。研究发现,超声波... 在超声场作用下,采用电沉积法制备了Cu和Cu-TiB2复合材料,对比分析超声作用对电沉积速率和电流效率的影响。利用扫描电镜和金相显微镜分别对沉积层表面形貌、晶粒直径进行观察;用维氏硬度计测量硬度,并试验其耐腐蚀性。研究发现,超声波的引入可显著提高电沉积速率和电流效率,提高颗粒的分散性、细化晶粒并且增大沉积层细晶区厚度。用超声复合电沉积法制备的Cu-TiB2的硬度和耐腐蚀性更好。 展开更多
关键词 超声波 沉积Cu和Cu-TiB2 电沉积速率 流效率 耐腐蚀性 硬度
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三价铬电沉积过程强化规律研究
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作者 赵世强 郭丰 《有色金属科学与工程》 CAS 2019年第4期39-44,共6页
铬镀层具有优异的机械和抗腐蚀性能,传统六价铬电镀存在高毒、高污染等问题,三价铬绿色电镀工艺受到普遍关注,但铬镀层不能持续增厚和镀液稳定性差是关键瓶颈.文中研究了脉冲电流和镀液流动对铬电沉积的影响规律,发现两者均可促进电镀... 铬镀层具有优异的机械和抗腐蚀性能,传统六价铬电镀存在高毒、高污染等问题,三价铬绿色电镀工艺受到普遍关注,但铬镀层不能持续增厚和镀液稳定性差是关键瓶颈.文中研究了脉冲电流和镀液流动对铬电沉积的影响规律,发现两者均可促进电镀过程中生成的副产物向镀液主体的传递.然而,脉冲电镀会降低铬电沉积效率,镀液流动可以提高铬电沉积效率,并能促进铬镀层的持续增厚.在50mL/min的镀液流动条件下,直流电镀60min,可获得41μm的厚铬镀层,沉积速率为0.68μm/min,镀层表面平整致密. 展开更多
关键词 三价铬 电沉积速率 脉冲 镀液流动
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阴极移动对不规则零件镀镍层性能的影响
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作者 陈虎 胡守亮 +2 位作者 李剑 杨卫英 伍智 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第5期261-265,共5页
在电真空器件的制造过程中,不规则零件的镀镍是关键步骤之一。采用阴极移动技术在不规则零件表面沉积了镀镍层。利用X射线荧光仪、激光共聚扫描显微镜、弯曲阴极法研究了阴极移动对镀层沉积率、表面形貌、孔隙率和内应力等的影响。结果... 在电真空器件的制造过程中,不规则零件的镀镍是关键步骤之一。采用阴极移动技术在不规则零件表面沉积了镀镍层。利用X射线荧光仪、激光共聚扫描显微镜、弯曲阴极法研究了阴极移动对镀层沉积率、表面形貌、孔隙率和内应力等的影响。结果表明:当阴极移动速率在1.5m/min以上时,可以明显降低不规则零件的针孔现象,但无法完全消除:阴极移动不会影响不规则零件的电沉积速率,但会使镀层的结晶颗粒变大,导致零件表面粗糙度增大;阴极移动可以显著地降低镀层的孔隙率和镀层的内应力,但是与移动的速率关系不大。 展开更多
关键词 镀镍 阴极移动 电沉积速率 孔隙率 内应力
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Online evaluation of electroless deposition rate by electrochemical noise method 被引量:2
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作者 Z.RAJABALIZADEH D.SEIFZADEH A.HABIBI-YANGJEH 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2019年第8期1753-1762,共10页
Continuous noise resistance calculation(CNRC)technique was used for online determination of the electroless nickel deposition rate on zirconium pretreated magnesium alloy.For this purpose,the noise resistance(R_n) var... Continuous noise resistance calculation(CNRC)technique was used for online determination of the electroless nickel deposition rate on zirconium pretreated magnesium alloy.For this purpose,the noise resistance(R_n) variation with time was calculated for the pretreated alloy surface in the electroless plating solution.The CNRC results were described by energy dispersive X-ray spectroscopy(EDS)and scanning electron microscopy(SEM)techniques.Also,potentiodynamic polarization and gravimetric measurements were used for determination of the electroless deposition rate at the same time period and the results were compared with the CNRC results.The Rn variation with plating time shows that the electroless plating consists of different stages with various deposition rates.The results of the CNRC and polarization methods were not in acceptable agreement due to the limitations of the polarization method for online monitoring of the deposition rate.However,the results of the gravimetric measurements were in complete agreement with the CNRC technique and so,the CNRC can be considered as suitable tool for online evaluation of the electroless deposition rate. 展开更多
关键词 magnesium alloy electroless plating deposition rate electrochemical noise SEM EDS
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Characteristics of Amorphous Silicon Nitride Films Deposited by LF-PECVD from SiH_4/N_2
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作者 ZHONG Zhi-qin ZHANG Yi YU Zhi-wei DAI Li-ping ZHANG Guo-jun WANG Yu-mei WANG Gang WANG Shu-ya 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 2009年第3期145-148,共4页
Amorphous silicon nitride films were deposited by low-frequency plasma-enhanced chemical vapor deposition(LF-PECVD) using silane and nitrogen as precursors. Characteristics such as deposition rate, surface morpholog... Amorphous silicon nitride films were deposited by low-frequency plasma-enhanced chemical vapor deposition(LF-PECVD) using silane and nitrogen as precursors. Characteristics such as deposition rate, surface morphology, and chemical composition were measured by spectroscopic ellipsometry(SE), atomic force mieroscope(AFM) and x-ray photoelectron spectroscopy(XPS). It was shown that amorphous silicon nitride film could be prepared by LF-PECVD with good uniformity and even surface. The XPS result indicated that a small quantity of oxygen was involved in the sample, which was discussed in this paper. 展开更多
关键词 SiNx SE AFM XPS PECVD
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Evolution of Electron Velocity Distribution during ECRH and Heating Effect Analysis
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作者 YANG Jinwei ZHANG Yipo LIAO Min LI Xu SONG Xianying FU Bingzhong RAO Jun LI Yongge LUO Cuiwen CHEN Liaoyuan 《Southwestern Institute of Physics Annual Report》 2005年第1期15-16,共2页
1 Electron velocity distributions and energy deposition of ECW Two set of soft X-ray spectra detection system consist of high performance sillicon drift detectors (SDD) , high speed A/D transform and processing soft... 1 Electron velocity distributions and energy deposition of ECW Two set of soft X-ray spectra detection system consist of high performance sillicon drift detectors (SDD) , high speed A/D transform and processing software, software pulse height analyzer (SPHA). They are installed at mid plane ( r=0 ) and undermid plane ( r=-16.4 cm ) of HL-2A tokamak respectively to measure the time evolution of soft X-ray spectra. According to spectrum, the thermal electron and superthermal electron temperatures are derived. Because of the ratio of peak counts to background counts is very high (p/b 〉1 400-3000 ) , 展开更多
关键词 ECRH SDD Electron velocity distribution
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