扩散工艺对6.5%WtSi高硅钢性能的影响

本文简要介绍了用电沉积-扩散工艺制造Fe-65mg.g-1高硅钢片的研制工作。电沉积工艺具有低温沉积、无强烈腐蚀、无污染、成本低、工艺操作性好的特点。对于0.5mm厚的硅钢片,用电沉积-扩散工艺处理后的磁性能为:P1.5/50=1.86 w/kg,P0.2/10000=103.2w/kg,B5000=1.64T,磁性能可与日本NKK公司CVD工艺产品相媲美。