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Ga-Al-As-Si系统中Si的两性掺杂行为的研究
1
作者
曾庆科
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
1995年第3期238-242,共5页
对Si在电液相外延Ga-Al-As-Si系统中的两性掺杂行为进行了研究。提出了一种恒温生长Ga_(1-x)Al_xAs:Sip-n结的新方法,对这种p-n结的成因作了定性的解释,并对这种p-n结的电特性加以观察。
关键词
Ga-Al-As-Si系统
掺杂
电液相外延法
转变温度
阶跃电流
法
P-N结
I-V特性
下载PDF
职称材料
题名
Ga-Al-As-Si系统中Si的两性掺杂行为的研究
1
作者
曾庆科
机构
广西师范大学物理系
出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
1995年第3期238-242,共5页
文摘
对Si在电液相外延Ga-Al-As-Si系统中的两性掺杂行为进行了研究。提出了一种恒温生长Ga_(1-x)Al_xAs:Sip-n结的新方法,对这种p-n结的成因作了定性的解释,并对这种p-n结的电特性加以观察。
关键词
Ga-Al-As-Si系统
掺杂
电液相外延法
转变温度
阶跃电流
法
P-N结
I-V特性
Keywords
Electrical Current-induced LiquidPhase Epitaxy (CLPE),Transition temperature,Step Current p-n junction I -V Characteristic
分类号
TN304.23 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
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操作
1
Ga-Al-As-Si系统中Si的两性掺杂行为的研究
曾庆科
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
1995
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