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Ga-Al-As-Si系统中Si的两性掺杂行为的研究
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作者 曾庆科 《功能材料》 EI CAS CSCD 1995年第3期238-242,共5页
对Si在电液相外延Ga-Al-As-Si系统中的两性掺杂行为进行了研究。提出了一种恒温生长Ga_(1-x)Al_xAs:Sip-n结的新方法,对这种p-n结的成因作了定性的解释,并对这种p-n结的电特性加以观察。
关键词 Ga-Al-As-Si系统 掺杂 电液相外延法 转变温度 阶跃电流 P-N结 I-V特性
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