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Si^+/As^+双离子注入SI-GaAs对注入层电激活均匀性改善的研究
1
作者
鲁光沅
刘福润
+2 位作者
刘明成
赵杰
王永晨
《天津师大学报(自然科学版)》
2000年第3期22-27,共6页
研究了单 (Si+ )双 (Si+ / As+ )离子注入半绝缘砷化镓 (SI-Ga As)电激活的均匀性 .结果表明 ,L ECSi-Ga As衬底中深电子陷阱能级 (EL 2 )均匀性分布好坏 ,对注入层电激活性有一定影响 .当 SI-Ga As中碳含量小于 5× 1 0 15cm- 3时 ...
研究了单 (Si+ )双 (Si+ / As+ )离子注入半绝缘砷化镓 (SI-Ga As)电激活的均匀性 .结果表明 ,L ECSi-Ga As衬底中深电子陷阱能级 (EL 2 )均匀性分布好坏 ,对注入层电激活性有一定影响 .当 SI-Ga As中碳含量小于 5× 1 0 15cm- 3时 ,对注入层电激活影响不大 .采用多重能量 Si+注入 ,可改善栽流子纵向分布的均匀性 ,采用 Si+ / As+ 双离子注入可改善 L EC SI-Ga As衬底中 EL 2横向不均匀分布对电激活均匀性的影响 ,可获得注入层横向的电激活 .
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关键词
离子注入
GAAS
电激活均匀性
半导体
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职称材料
离子注入半绝缘GaAs电激活效率与电激活均匀性的研究
2
作者
刘明成
刘福润
+2 位作者
鲁光元
赵杰
王永晨
《半导体杂志》
2000年第3期1-7,共7页
研究了Si+ 和Si+ /As+ 注入到HorizontalBridgman (HB)和LiquidEncapsulatedCzochralski(LEC)方法制备的半绝缘GaAs衬底电激活效率与均匀性。结果发现 :在相同条件下 (注入与退火 ) ,不同生长方法的半绝缘GaAs衬底电激活不同 ,通常电激...
研究了Si+ 和Si+ /As+ 注入到HorizontalBridgman (HB)和LiquidEncapsulatedCzochralski(LEC)方法制备的半绝缘GaAs衬底电激活效率与均匀性。结果发现 :在相同条件下 (注入与退火 ) ,不同生长方法的半绝缘GaAs衬底电激活不同 ,通常电激活HB >LEC ,HBSI—GaAs(Cr)(1 0 0 )A面 >(1 0 0 )B面 ,Si+ /As+ 双离子注入电激活高于Si+ 注入。Si+ /As+ 注入的LECSI—GaAs(EL2 )可改善衬底中EL2横向不均匀分布对电激活均匀性的影响 ,可改善注入层内横向电激活均匀分布。剥离Hall测量表明 ,有源层电子迁移率分布均匀 ,近表面位量 ,可达 40 0 0cm2 /V .s。Raman谱显示 :Si+ /As+ 双注入可消除或减少与As空位 (VAs)有关的呈现正电性的复合体 ,这是提高注入层内在质量的重要原因。
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关键词
离子注入
半绝缘
砷化镓
电激活均匀性
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职称材料
题名
Si^+/As^+双离子注入SI-GaAs对注入层电激活均匀性改善的研究
1
作者
鲁光沅
刘福润
刘明成
赵杰
王永晨
机构
天津师范大学物理系
出处
《天津师大学报(自然科学版)》
2000年第3期22-27,共6页
基金
国家自然科学基金资助项目!(6 986 0 0 1)
天津市教委基金资助项目!(9710 9)
文摘
研究了单 (Si+ )双 (Si+ / As+ )离子注入半绝缘砷化镓 (SI-Ga As)电激活的均匀性 .结果表明 ,L ECSi-Ga As衬底中深电子陷阱能级 (EL 2 )均匀性分布好坏 ,对注入层电激活性有一定影响 .当 SI-Ga As中碳含量小于 5× 1 0 15cm- 3时 ,对注入层电激活影响不大 .采用多重能量 Si+注入 ,可改善栽流子纵向分布的均匀性 ,采用 Si+ / As+ 双离子注入可改善 L EC SI-Ga As衬底中 EL 2横向不均匀分布对电激活均匀性的影响 ,可获得注入层横向的电激活 .
关键词
离子注入
GAAS
电激活均匀性
半导体
Keywords
implantation
SI GaAs
active uniformity
EL2 energy
分类号
O471 [理学—半导体物理]
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职称材料
题名
离子注入半绝缘GaAs电激活效率与电激活均匀性的研究
2
作者
刘明成
刘福润
鲁光元
赵杰
王永晨
机构
天津师范大学物理系
出处
《半导体杂志》
2000年第3期1-7,共7页
基金
国家自然基金项目!(项目号 :698860 0 1 )
天津市教委基金项目!(项目号 :971 0 9)
文摘
研究了Si+ 和Si+ /As+ 注入到HorizontalBridgman (HB)和LiquidEncapsulatedCzochralski(LEC)方法制备的半绝缘GaAs衬底电激活效率与均匀性。结果发现 :在相同条件下 (注入与退火 ) ,不同生长方法的半绝缘GaAs衬底电激活不同 ,通常电激活HB >LEC ,HBSI—GaAs(Cr)(1 0 0 )A面 >(1 0 0 )B面 ,Si+ /As+ 双离子注入电激活高于Si+ 注入。Si+ /As+ 注入的LECSI—GaAs(EL2 )可改善衬底中EL2横向不均匀分布对电激活均匀性的影响 ,可改善注入层内横向电激活均匀分布。剥离Hall测量表明 ,有源层电子迁移率分布均匀 ,近表面位量 ,可达 40 0 0cm2 /V .s。Raman谱显示 :Si+ /As+ 双注入可消除或减少与As空位 (VAs)有关的呈现正电性的复合体 ,这是提高注入层内在质量的重要原因。
关键词
离子注入
半绝缘
砷化镓
电激活均匀性
Keywords
Si^+/As^+ iomplantaion
SI-GaAs
Activity uniformity
分类号
TN304.23 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
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被引量
操作
1
Si^+/As^+双离子注入SI-GaAs对注入层电激活均匀性改善的研究
鲁光沅
刘福润
刘明成
赵杰
王永晨
《天津师大学报(自然科学版)》
2000
0
下载PDF
职称材料
2
离子注入半绝缘GaAs电激活效率与电激活均匀性的研究
刘明成
刘福润
鲁光元
赵杰
王永晨
《半导体杂志》
2000
0
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职称材料
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