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强激光场中氢负离子双光子电离能量谱的研究 被引量:1
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作者 王翔 王国利 周效信 《原子与分子物理学报》 CAS CSCD 北大核心 2011年第5期899-902,共4页
利用强场近似(Strong field approximation,SFA)方法研究氢负离子(H^-)在强激光场中双光子电离的能量谱,所得到的电离谱随角度的变化规律与实验结果符合得很好.进一步的研究表明,H^-离子在强激光场中双光子电离的能量谱与有质动力能有关... 利用强场近似(Strong field approximation,SFA)方法研究氢负离子(H^-)在强激光场中双光子电离的能量谱,所得到的电离谱随角度的变化规律与实验结果符合得很好.进一步的研究表明,H^-离子在强激光场中双光子电离的能量谱与有质动力能有关.激光场强度越大,光电子的有质动力能也越大,能量谱向左移动越明显.我们的结果表明,使用强场近似是一种研究负离子在强激光场中电离过程的有效方法. 展开更多
关键词 强激光场 双光子电离能量 强场近似 氢负离子
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近地轨道质子和α粒子入射InP产生的位移损伤模拟
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作者 白雨蓉 李培 +3 位作者 何欢 刘方 李薇 贺朝会 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第5期85-91,共7页
磷化铟(InP)材料具有禁带宽度大、电子迁移率高、耐高温、抗辐照等优点,是制备航天器电子器件的优良材料.近地轨道内的质子和α粒子对近地卫星威胁巨大,其在InP电子器件中产生的位移损失效应是导致InP电子器件电学性能下降的主要因素.... 磷化铟(InP)材料具有禁带宽度大、电子迁移率高、耐高温、抗辐照等优点,是制备航天器电子器件的优良材料.近地轨道内的质子和α粒子对近地卫星威胁巨大,其在InP电子器件中产生的位移损失效应是导致InP电子器件电学性能下降的主要因素.本文使用蒙特卡罗软件Geant4研究近地轨道的质子与α粒子分别经过150μm二氧化硅和2.54 mm铝层屏蔽后,在500/1000/5000μm InP材料中产生的非电离能量损失(non-ionizing energy loss,NIEL)、平均非电离损伤能随深度分布以及年总非电离损伤能.研究发现:低能质子射程短且较易发生非电离反应,入射粒子能谱中低能粒子占比越大,材料厚度越小,NIEL值越大;计算质子和α粒子年总非电离损伤能,质子的年总非电离损伤能占比达98%,表明质子是近地轨道内产生位移损伤的主要因素;α粒子年总非电离损伤能占比小,但其在InP中的NIEL约为质子的2-10倍,应关注α粒子在InP中产生的单粒子位移损伤效应.本文计算为InP材料在空间辐射环境的应用提供了参考依据. 展开更多
关键词 磷化铟 位移损伤 GEANT4 电离能量损失 近地轨道
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移位损伤剂量模型及其应用 被引量:6
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作者 张庆祥 韩建伟 +2 位作者 师立勤 张振龙 黄治 《空间科学学报》 CAS CSCD 北大核心 2005年第2期132-137,共6页
首先描述了移位损伤的机理及其影响器件性能的机制,引入了适合航天器工程抗辐射加固设计使用的 移位损伤剂量模型,探讨了其在CCD器件电荷传输效率CTE,Si器件平均暗电流以太阳电池阵输出功率等工 程参数衰降中的应用,介绍了建立的基于移... 首先描述了移位损伤的机理及其影响器件性能的机制,引入了适合航天器工程抗辐射加固设计使用的 移位损伤剂量模型,探讨了其在CCD器件电荷传输效率CTE,Si器件平均暗电流以太阳电池阵输出功率等工 程参数衰降中的应用,介绍了建立的基于移位损伤剂量模型的空间环境中CCD器件CTE衰降预测模式,其结 果与欧空局空间环境信息系统的计算结果相吻合.该程序在光电器件抗辐射加固设计中具有重要的应用价值. 展开更多
关键词 移位损伤 电离能量损失 光电器件 暗电流 模型 空间辐射 航天器
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基于GEANT4模拟分析不同能量质子在CMOS APS中的位移损伤研究
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作者 臧航 刘方 +4 位作者 贺朝会 谢飞 白雨蓉 黄煜 王涛 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第3期546-553,共8页
本文针对图像传感器在空间辐射环境中电学性能退化问题,采用蒙特卡罗方法基于互补金属氧化物半导体(CMOS)APS器件建立几何模型,开展不同能量质子与靶原子的相互作用过程研究。通过研究不同能量质子辐照下初级碰撞原子的能谱分布及平均... 本文针对图像传感器在空间辐射环境中电学性能退化问题,采用蒙特卡罗方法基于互补金属氧化物半导体(CMOS)APS器件建立几何模型,开展不同能量质子与靶原子的相互作用过程研究。通过研究不同能量质子辐照下初级碰撞原子的能谱分布及平均位移损伤能量沉积随质子能量的变化,讨论不同能量质子及空间站轨道质子能谱下在CMOS APS器件中位移损伤的差异。计算结果表明:随着入射质子能量的增大,辐照产生的初级碰撞原子的最大能量及核反应产生的初级碰撞原子(PKA)对位移损伤能量沉积的贡献逐步增加;对于大于1 MeV的质子辐照,CMOS APS器件中位移损伤研究可忽略氧化层的影响;不同能量的质子和CREME96程序中空间站轨道质子能谱下器件中位移损伤能量沉积分布结果显示,3.5 MeV质子与该空间站轨道质子能谱在器件敏感区中产生的总位移损伤能量沉积相近。该工作对模拟空间站轨道质子辐照下电子器件暗电流增长研究中辐照实验的能量选择,提供了参考依据。 展开更多
关键词 位移损伤 互补金属氧化物半导体APS 电离能量损失 空间站轨道
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InAlAs/InGaAs/InAlAs量子阱质子辐照损伤机理 被引量:1
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作者 王海丽 吉慧芳 +5 位作者 孙树祥 丁芃 金智 魏志超 钟英辉 李玉晓 《西安电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第4期151-155,161,共6页
对InP基高电子迁移率场效晶体管关键的InAlAs/InGaAs/InAlAs量子阱结构质子辐照损伤机理进行了研究.基于SRIM软件计算了50keV、75keV和200keV质子在量子阱中的投影射程和诱生空位缺陷信息.随着质子能量增加,质子注入深度逐渐增加并最终... 对InP基高电子迁移率场效晶体管关键的InAlAs/InGaAs/InAlAs量子阱结构质子辐照损伤机理进行了研究.基于SRIM软件计算了50keV、75keV和200keV质子在量子阱中的投影射程和诱生空位缺陷信息.随着质子能量增加,质子注入深度逐渐增加并最终逃逸出材料层.另外,在异质结附近诱生的空位缺陷个数先增加后减小,且As空位为主要的诱生缺陷.基于解析模型计算了不同能量质子入射下In_(0.52)Al_(0.48)As和In_(0.53)Ga_(0.47)As材料的非电离能量损失.随着质子能量增加,非电离能量损失先增加后减小,与辐照诱生缺陷密度随能量的变化趋势一致.最后通过辐照陷阱模型验证了诱生缺陷作为受主补偿中心对量子阱二维电子气的俘获作用,确定了非电离能量损失诱生空位缺陷为质子辐照主要的损伤机制. 展开更多
关键词 高电子迁移率晶体管 质子辐照 空位缺陷 电离能量损失
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气相色谱-质谱法测定苯中痕量噻吩 被引量:3
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作者 常银川 王亮 《理化检验(化学分册)》 CAS CSCD 北大核心 2015年第4期545-546,共2页
苯是生产染料、塑料、合成纤维、合成橡胶、合成树脂和农药等的重要原料,苯中的噻吩在下游产品生产过程中不但对催化剂有毒害作用,也会影响下游产品的收率及质量,因此,必须严格控制苯中噻吩的含量,噻吩的指标值不大于1mg·kg-1,有... 苯是生产染料、塑料、合成纤维、合成橡胶、合成树脂和农药等的重要原料,苯中的噻吩在下游产品生产过程中不但对催化剂有毒害作用,也会影响下游产品的收率及质量,因此,必须严格控制苯中噻吩的含量,噻吩的指标值不大于1mg·kg-1,有时甚至不大于0.1mg·kg-1,常见的气相色谱法配氢火焰离子化检测器无法满足测试要求。目前,苯中噻吩的测定方法主要有ASTM D4735、 展开更多
关键词 产品生产过程 火焰光度检测器 气相色谱法 质谱检测器 分光光度法 检测器温度 电离能量 色谱行为 精密度试验 毛细管色谱柱
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Geant4在中子辐射效应中的应用 被引量:1
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作者 金晓明 王园明 +4 位作者 杨善潮 马强 刘岩 林东生 陈伟 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第B09期607-610,共4页
中子辐射效应是半导体器件在辐射环境中损伤的重要因素。本文建立了中子在半导体材料中的电离和非电离能量沉积、原子空位密度的Geant4模拟方法。电离能量沉积可用于分析电离总剂量效应,非电离能量沉积可用于分析位移损伤效应。电离kerm... 中子辐射效应是半导体器件在辐射环境中损伤的重要因素。本文建立了中子在半导体材料中的电离和非电离能量沉积、原子空位密度的Geant4模拟方法。电离能量沉积可用于分析电离总剂量效应,非电离能量沉积可用于分析位移损伤效应。电离kerma因子的模拟结果定量解释了中子辐照在CMOS工艺单片机中引起的电离增强效应。通过原子空位密度计算了中子引入的附加陷阱密度,分析了位移损伤对电离效应的增强作用。实验和模拟结果表明,中子的电离能量沉积加剧了CMOS工艺单片机的退化。 展开更多
关键词 中子辐射效应 电离能量沉积 电离能量沉积 原子空位
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CCD质子辐照损伤效应的三维蒙特卡罗模拟 被引量:4
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作者 薛院院 王祖军 +7 位作者 刘静 何宝平 姚志斌 刘敏波 盛江坤 马武英 董观涛 金军山 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第4期83-88,共6页
针对空间质子诱发CCD性能退化问题,开展了CCD质子辐照效应的三维蒙特卡罗模拟研究。采用三维蒙特卡罗软件Geant4模拟计算了不同能量质子在Si和SiO_2中的射程及Bragg峰,分析了不同能量质子在材料中能量沉积的过程,并将模拟结果与相关数... 针对空间质子诱发CCD性能退化问题,开展了CCD质子辐照效应的三维蒙特卡罗模拟研究。采用三维蒙特卡罗软件Geant4模拟计算了不同能量质子在Si和SiO_2中的射程及Bragg峰,分析了不同能量质子在材料中能量沉积的过程,并将模拟结果与相关数据进行对比,模拟误差在5%以内。根据质子与材料相互作用的物理过程,选取了合适的Lindhard分离函数,添加合适的物理过程,模拟计算了不同能量质子在SiO_2中的电离能量损失和Si中的非电离能量损失,并将结果与国外相关数据进行对比。根据CCD的生产工艺参数,建立了单个像元的三维模拟模型,确定了质子辐照损伤的灵敏体积,模拟计算了不同能量质子在像元灵敏体积内的电离能量沉积与非电离能量沉积,分析了CCD不同能量质子的辐照损伤差异产生的机理。结合粒子输运计算结果与CCD质子辐照实验结果,分析了质子辐照诱发CCD辐射敏感参数退化的物理机制。 展开更多
关键词 电荷耦合器件(CCD) 质子 GEANT4 电离能量沉积 电离能量沉积
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质子和中子在硅中位移损伤等效性计算 被引量:5
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作者 王园明 郭晓强 +10 位作者 罗尹虹 陈伟 王燕萍 郭红霞 张凤祁 张科营 王忠明 丁李利 闫逸华 赵雯 肖尧 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第7期1803-1806,共4页
基于蒙特卡罗软件Geant4,探讨质子与硅的库仑散射和核反应及中子与硅的核反应产生反冲原子沉积非电离能量的过程,建立质子和中子在硅中的非电离能量阻止本领计算方法。在此方法中,描述了原子间库仑散射的物理过程,模拟带电粒子与晶格原... 基于蒙特卡罗软件Geant4,探讨质子与硅的库仑散射和核反应及中子与硅的核反应产生反冲原子沉积非电离能量的过程,建立质子和中子在硅中的非电离能量阻止本领计算方法。在此方法中,描述了原子间库仑散射的物理过程,模拟带电粒子与晶格原子之间的屏蔽库仑散射。计算得到不同能量质子和中子在硅中因库仑散射和核反应产生反冲原子的非电离能量沉积及阻止本领的等效性,计算结果与中子ASTM标准及文献计算得到的质子数据符合很好。 展开更多
关键词 中子 质子 反冲原子 电离能量阻止本领
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CCD及CMOS图像传感器的质子位移损伤等效分析 被引量:1
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作者 于新 荀明珠 +5 位作者 郭旗 何承发 李豫东 文林 张兴尧 周东 《现代应用物理》 2019年第2期42-46,共5页
对位移损伤敏感器件CCD及CMOS图像传感器进行了3,10,23MeV质子辐照试验,获得了电荷转移效率及暗电流退化程度分别随非电离能量损失(NIEL)变化的线性关系,验证了基于NIEL的位移损伤等效方法的可行性。为准确预测抗辐射加固工程中,器件屏... 对位移损伤敏感器件CCD及CMOS图像传感器进行了3,10,23MeV质子辐照试验,获得了电荷转移效率及暗电流退化程度分别随非电离能量损失(NIEL)变化的线性关系,验证了基于NIEL的位移损伤等效方法的可行性。为准确预测抗辐射加固工程中,器件屏蔽结构带来的能量崎离、次级粒子等非理想因素对器件参数退化的影响,利用Geant4计算了不同质子能量下的NIEL值。结果表明,随着质子能量降低,计算得到的NIEL值与解析法给出的理想NIEL值的差异增大。因此,对于结构复杂的器件,有必要建立器件结构模型,以便准确计算NIEL。 展开更多
关键词 位移损伤效应 电离能量损失 CCD CMOS
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InP中子位移损伤效应的Geant4模拟 被引量:3
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作者 李薇 白雨蓉 +2 位作者 郭昊轩 贺朝会 李永宏 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2022年第8期71-78,共8页
磷化铟(In P)作为第二代化合物半导体材料,抗辐照能力强,光电转换效率高,在光子领域和射频领域具有优势.大气空间中, In P半导体器件受大气中子辐照影响,器件性能发生退化.本文采用蒙特卡罗模拟软件Geant4对In P中子辐照效应进行模拟,得... 磷化铟(In P)作为第二代化合物半导体材料,抗辐照能力强,光电转换效率高,在光子领域和射频领域具有优势.大气空间中, In P半导体器件受大气中子辐照影响,器件性能发生退化.本文采用蒙特卡罗模拟软件Geant4对In P中子辐照效应进行模拟,得到In P中不同能量中子产生的位移损伤初态分布.结果表明:在微米量级内,非电离能量损失(NIEL)随深度均匀分布,在厘米及更高量级上, NIEL随着入射深度的增大而降低,当靶材料足够厚时可以降低至零;分析1—20 Me V中子入射3μm In P产生的NIEL及其随深度分布,发现NIEL随入射中子能量的增加呈现出先升后降的趋势,该趋势主要由非弹性散射反应产生的初级反冲原子(PKA)造成;分析1—20 Me V中子入射3μm In P产生的PKA种类、能量,发现In/P的PKA占比较大,是产生位移损伤的主要因素,中子能量越高, PKA的种类越丰富, PKA最大动能越大,但PKA主要分布在低能部分.研究结果对In P基5G器件在大气中子辐射环境中的长期应用具有理论和指导价值. 展开更多
关键词 中子 INP 位移损伤 电离能量损失
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Geant4模拟质子入射InP产生的位移损伤 被引量:1
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作者 白雨蓉 贺朝会 +2 位作者 谢飞 李永宏 臧航 《太赫兹科学与电子信息学报》 2021年第1期176-180,共5页
磷化铟(InP)作为重要的第二代半导体材料,禁带宽度大,电子漂移速度快,抗辐照性能比Si,GaAs好,可作为制备空间飞行器上电学器件的备选材料。随着半导体器件的尺寸纳米化,空间环境中低能质子辐照元件所导致的位移损伤成为影响元件电学性... 磷化铟(InP)作为重要的第二代半导体材料,禁带宽度大,电子漂移速度快,抗辐照性能比Si,GaAs好,可作为制备空间飞行器上电学器件的备选材料。随着半导体器件的尺寸纳米化,空间环境中低能质子辐照元件所导致的位移损伤成为影响元件电学性能的主要因素之一。本文使用Geant4模拟得到低能质子入射InP产生的初级撞出原子(PKA)种类及占比和不同能量质子的非电离能量损失(NIEL)的深度分布。结果表明:质子俘获和核反应的概率随质子能量的增加而增加,进而使弹性碰撞产生的反冲原子In,P的占比减少,其他反冲原子占比增加;NIEL峰值随质子能量的增加而降低,且NIEL峰有向前移动的趋势,即随着质子能量增加,位移损伤严重区域逐渐由材料末端移至材料表面。 展开更多
关键词 电离能量损失模型 GEANT4 空间质子辐射 磷化铟
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用截断平均和优化组合方法提高电荷分辨
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作者 董昕 叶树伟 +2 位作者 陈宏芳 张子平 许咨宗 《中国科学技术大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2002年第4期450-454,共5页
以阿尔法磁谱仪 (AMS - 0 1 )探测器为例 ,利用电离能损与电荷量的关系 ,研究了用截断平均和优化组合等离线处理方法来提高电荷分辨能力 ,并取得了较好的结果 。
关键词 电荷分辨能力 截断平均 优化组合 高能物理 电离能量损失 电荷 阿尔法磁谱仪
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Binding Energy and Photoionization of Hydrogenic Impurities in GaAs/Ga_(1-x)Al_xAs Quantum Well Wires 被引量:1
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作者 刘建军 苏会 +1 位作者 关荣华 杨国琛 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第6期561-566,共6页
The binding energy and the photon energy dependence of the photoionization cross-section are calculated for a hydrogenic impurity in GaAs/Ga 1-xAl xAs quantum well wires.The correlation between confined and non-co... The binding energy and the photon energy dependence of the photoionization cross-section are calculated for a hydrogenic impurity in GaAs/Ga 1-xAl xAs quantum well wires.The correlation between confined and non-confined direction of the wire in the variational wave function is taken into account.The results show that the photoionization cross-sections are affected by the width of the wire and that their magnitudes are larger than those in infinite potential quantum well wires.In comparison with previous's results,the variational wave function improves the binding energy and decreases the value of photoionization cross-sections of the hydrogenic impurities,which makes the results more reasonable. 展开更多
关键词 photoionization cross-section binding energy hydrogenic impurity quantum well wire
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质子和1MeV中子在硅中能量沉积的模拟计算 被引量:8
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作者 陈世彬 张义门 +2 位作者 陈雨生 黄流兴 张玉明 《高能物理与核物理》 EI CSCD 北大核心 2001年第4期365-370,共6页
在现有中子截面数据和粒子与物质相互作用的理论基础上 ,编写了计算中子非电离能量损失 (NIEL)和电离能量损失 (IEL)程序 ,利用该程序和引进的TRIM95程序计算了 1MeV中子和质子在硅中IEL和NIEL的大小和分布等 ,并对计算结果进行了分析... 在现有中子截面数据和粒子与物质相互作用的理论基础上 ,编写了计算中子非电离能量损失 (NIEL)和电离能量损失 (IEL)程序 ,利用该程序和引进的TRIM95程序计算了 1MeV中子和质子在硅中IEL和NIEL的大小和分布等 ,并对计算结果进行了分析和比较 . 展开更多
关键词 中子损伤 计算机模拟 蒙特卡罗 沉积 质子损伤 半导体器件辐射 电离能量损失(NIEL) 电离能量损失(IEL) 中子截面 粒子与物质相互作用
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Mechanism for capacity fading of 18650 cylindrical lithium ion batteries 被引量:4
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作者 Jian-liang CHENG Xin-hai LI +1 位作者 Zhi-xing WANG Hua-jun GUO 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第7期1602-1607,共6页
The mechanism for capacity fading of18650lithium ion full cells under room-temperature(RT)is discussedsystematically.The capacity loss of18650cells is about12.91%after500cycles.The cells after cycles are analyzed by X... The mechanism for capacity fading of18650lithium ion full cells under room-temperature(RT)is discussedsystematically.The capacity loss of18650cells is about12.91%after500cycles.The cells after cycles are analyzed by XRD,SEM,EIS and CV.Impedance measurement shows an overall increase in the cell resistance upon cycling.Moreover,it also presents anincreased charge-transfer resistance(Rct)for the cell cycled at RT.CV test shows that the reversibility of lithium ioninsertion/extraction reaction is reduced.The capacity fading for the cells cycled can be explained by taking into account the repeatedfilm formation over the surface of anode and the side reactions.The products of side reactions deposited on separator are able toreduce the porosity of separator.As a result,the migration resistance of lithium ion between the cathode and anode would beincreased,leading the fading of capacity and potential. 展开更多
关键词 18650 lithium ion battery capacity fading cycle performance
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Photodetachment of H^- Near a Dielectric Surface 被引量:1
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作者 王德华 黄凯云 《Communications in Theoretical Physics》 SCIE CAS CSCD 2010年第5期898-902,共5页
Using the closed orbit theory, the photodetachment cross section of H- near a dielectric surface has been derived and calculated. The results show that the dielectric surface has great influence on the photodetachment... Using the closed orbit theory, the photodetachment cross section of H- near a dielectric surface has been derived and calculated. The results show that the dielectric surface has great influence on the photodetachment process of negative ion near the ionization threshold. Above the ionization threshold, the photodetachment cross section starts to oscillate. With the increase of the energy, the oscillating amplitude decreases and the oscillating frequency increases. The oscillation in the photodetachment cross section of H- in the presence of a dielectric surface is either larger or smaller than the photodetachment of H- without the surface. As the photon energy is larger than the critical value Epc, the oscillatory structure disappeared and the cross section approaches to the case of the photodetachment of H- without any external fields. For a given detached-electron energy, the photodetachment cross section becomes decreased with the increase of the ion-surface distance. Besides, the dielectric constant has great influence on the photodetachment of H-. With the increase of the dielectric constant, the oscillation in the cross section becomes increased. As the dielectric constant increases to infinity, the cross section is the same as the photodetachment of H- near a metal surface. This study provides a new understanding on the photodetachment process of H- in the presence of a dielectric surface. 展开更多
关键词 PHOTODETACHMENT closed orbit theory dielectric surface
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Ion-Velocity Map Imaging Study of Photodissociation Dynamics of Acetaldehyde
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作者 Zhi-guo Zhang Zhi-chao Chen +5 位作者 Cui-mei Zhang Yan-ling Jin Qun Zhang Yang Chen Cun-shun Huang Xue-ming Yang 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS CSCD 2014年第3期249-255,共7页
The photodissociation dynamics of acetaldehyde in the radical channel CH3+HCO has been reinvestigated using time-sliced velocity map imaging technique in the photolysis wavelength range of 275-321 nm. The CH3 fragmen... The photodissociation dynamics of acetaldehyde in the radical channel CH3+HCO has been reinvestigated using time-sliced velocity map imaging technique in the photolysis wavelength range of 275-321 nm. The CH3 fragments have been probed via (2+1) resonance-enhanced multiphoton ionization. Images are measured for CH3 formed in the ground and excited states (v2=0 and 1) of the umbrella vibrational mode. For acetaldehyde dissociation on T1 state after intersystem crossing from S1 state, the products are formed with high translational energy release and low internal excitation. The rotational and vibrational energy of both fragments increases with increasing photodissociation energy. The triplet barrier height is estimated at 3.8814-0.006 eV above the ground state of acetaldehyde. 展开更多
关键词 Ion-velocity map imaging Photodissociation dynamics ACETALDEHYDE
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Structural and Bonding Properties of Al_(n)C_(4)^(−/0)(n=2−4)Clusters:Anion Photoelectron Spectroscopy and Theoretical Calculations
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作者 Chao-jiang Zhang Shuai-ting Yan +2 位作者 Hong-guang Xu Xi-ling Xu Wei-jun Zheng 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS CSCD 2021年第6期769-776,I0002,I0003,I0053-I0055,共13页
We measured the photoelectron spectra of Al_(n)C_(4)^(−)(n=2−4)clusters by using size-selected anion photoelectron spectroscopy.The structures of Al_(n)C_(4)^(−/0)(n=2−4)clusters were explored with quantum chemistry c... We measured the photoelectron spectra of Al_(n)C_(4)^(−)(n=2−4)clusters by using size-selected anion photoelectron spectroscopy.The structures of Al_(n)C_(4)^(−/0)(n=2−4)clusters were explored with quantum chemistry calculations and were determined by comparing the theoretical results with the experimental spectra.It is found that the most stable structure of Al_(2)C_(4)^(−) anion is a C_(2v)symmetry planar structure with two Al atoms interacting with two C_(2)units.In addition,Al_(2)C_(4)^(−) anion also has a D∞h symmetry linear structure with two Al atoms located at the two ends of a C_(4)chain,which is slightly higher in energy than the planar structure.The most stable structure of neutral Al_(2)C_(4)has a D∞h symmetry linear structure.The most stable structure of Al_(3)C_(4)^(−) anion is a planar structure with three Al atoms interacting with two C_(2)units.Whereas neutral Al_(3)C_(4)cluster has a C_(2v)symmetric V-shaped bent structure.The global minima structures of both Al_(4)C_(4)^(−) and neutral Al_(4)C_(4)are C_(2)h symmetry planar structures with four Al atoms interacting with the ends of two C_(2)units.Adaptive natural density partitioning analyses of Al_(n)C_(4)^(−)(n=2−4)clusters show that the interactions between the Al atoms and C_(2)units have bothσandπcharacters. 展开更多
关键词 Anion photoelectron spectroscopy Quantum chemistry calculations Planar aluminum-carbon structures
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LARGE VOLUME IONIZATION CHAMBER USED AS LABORATORY REFERENCE FOR LOW ENERGY X-RAY MEASUREMENT
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作者 杨国山 薛永库 蔡反攻 《Nuclear Science and Techniques》 SCIE CAS CSCD 1994年第3期166-169,共4页
A large volume spherical ionization chamber of 195 mm diameter and 0.36 mg/cm2wall thickness made from conducting carbon-fibre epoxy composite material has been developed. The mechanical intensity of the chamber is sa... A large volume spherical ionization chamber of 195 mm diameter and 0.36 mg/cm2wall thickness made from conducting carbon-fibre epoxy composite material has been developed. The mechanical intensity of the chamber is satisfactory for a good longterm volume stability. Owing to its large volume and thin wall, the chamber is sensitive to low energy photon beams and has excellent energy-response characteristics. This ionization chamber is suitable not only for a laboratory reference but also for measurement of low energy photon beam exposure rates at protection-level. 展开更多
关键词 Low energy X-rays Ionization chamber Carbon-fibre
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