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高精度集成感应电路互连技术研究
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作者 王建全 李保霞 +1 位作者 刘徐 付晓丽 《今日自动化》 2024年第3期71-73,共3页
文章通过建立微盲孔填铜模型、刚性电路板高厚径比和挠性电路板通孔电镀铜模型,同时基于电化学测试结果进行电镀铜的数值模拟计算,对镀液对流对浓度边界层的影响、加速剂在电极表面的积累效应、镀层均匀性、镀槽内电场分布和添加剂作用... 文章通过建立微盲孔填铜模型、刚性电路板高厚径比和挠性电路板通孔电镀铜模型,同时基于电化学测试结果进行电镀铜的数值模拟计算,对镀液对流对浓度边界层的影响、加速剂在电极表面的积累效应、镀层均匀性、镀槽内电场分布和添加剂作用机制等进行了分析。通过设计印制电路图形,对图形电镀镀层均匀性影响因素进行分析,以此确定最优工艺和参数;达到电镀铜表面同层厚度的均匀性与填铜的平整性效果,从而达到了减小盲孔孔径直径,降低孔深、铜层、面铜厚度和抗蚀膜厚度的目的。通过研究,文章实现了高密度互连印制电路板线路的微细化,达到了电气互连孔更小、密度更高,可靠性和感应程度更强的效果。 展开更多
关键词 电路互连 盲孔填铜 电镀铜 电路
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采用各向异性导电粘接剂完成电路互连 被引量:3
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作者 陆峰 李学勤 《电子工艺技术》 2003年第6期263-265,共3页
介绍了采用异性导电粘接剂和热压焊的方法,制造液晶显示器块(CLM)的初步知识,简述了各向异性导电粘接剂,主要是热压导电胶带(HSC)和各向异性导电薄膜(ACF)的组成材料,结构形态以及利用它们完成电气互连的适用范围和热压焊工艺。
关键词 各向异性导电粘接剂 热压焊 电路互连
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集成电路互连介质阻挡层进展研究 被引量:1
3
作者 王艳蓉 胡颖颖 张静 《电子世界》 CAS 2021年第20期77-80,共4页
随着集成电路尺寸的不断微缩,后段制程(back-end-of-line,BEOL)中介质层材料及其扩散阻挡层的选择制备与集成是逐渐成为制约超大规模集成电路发展的重要因素之一。用以金属Cu及互连介质层间扩散阻挡作用的阻挡层对材料的电阻特性,兼容... 随着集成电路尺寸的不断微缩,后段制程(back-end-of-line,BEOL)中介质层材料及其扩散阻挡层的选择制备与集成是逐渐成为制约超大规模集成电路发展的重要因素之一。用以金属Cu及互连介质层间扩散阻挡作用的阻挡层对材料的电阻特性,兼容性和可靠性方面提出严格的要求。本文主要从解决Ru作为Cu扩散阻挡层性能差这个角度出发,重点介绍了将Ru与TaN结合使用作为扩散阻挡层以及向Ru中添加Ta(N),从而增强Ru作为扩散阻挡层性能这两种方案。在研究Ru/TaN双层和RuTa(N)薄膜作为扩散阻挡层时发现,这两种方案中都有相应的影响因素,以及这些因素对薄膜都产生了影响。 展开更多
关键词 扩散阻挡层 超大规模集成电路 介质层 集成电路互连 电阻特性 介质阻挡 阻挡作用 兼容性
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印刷电路互连的发展蓝图
4
作者 季明 《世界产品与技术》 2003年第5期24-24,共1页
在美国有三种电子工业发展蓝图对半导体、电子制造和印制电路业界起着推动作用,实际上对全球的相应业界都有重要影响,它们分别是:
关键词 IPC 印刷电路互连 发展蓝图 PCB
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超大规模集成电路铜互连电镀工艺 被引量:3
5
作者 曾磊 张卫 汪礼康 《中国集成电路》 2006年第11期45-48,共4页
介绍了集成电路铜互连双嵌入式工艺和电镀铜的原理;有机添加剂在电镀铜中的重要作用及对添加剂含量的监测技术;脉冲电镀和化学电镀在铜互连技术中的应用;以及铜互连电镀工艺的发展动态。
关键词 集成电路 互连 电镀 阻挡层
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ULSI互连中纳米多孔SiO_2的制造工艺、特性及应用前景 被引量:4
6
作者 阮刚 陈智涛 +2 位作者 肖夏 朱兆旻 段晓明 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2002年第3期349-354,共6页
综述了 ULSI互连中纳米多孔二氧化硅 (NPS)电介质主要品种干燥凝胶 (Xerogel)的典型制造工艺 ,给出并分析了介电常数、应力、热导率和机械强度等主要特性 。
关键词 ULSI 纳米多孔二氧化硅 干燥凝胶 低介电常数介质 特大规模集成电路互连
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ULSI多层互连中W-CMP速率研究 被引量:1
7
作者 张进 刘玉岭 +2 位作者 申晓宁 张伟 苏艳勤 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2009年第8期737-740,共4页
随着IC制造技术进入到亚深微米时代,化学机械抛光(CMP)工艺成为ULSI多层布线的关键技术之一。分析了W-CMP的机理,抛光液对W材料表面具有化学腐蚀和机械研磨的双重作用,对抛光速率有着重要的影响。在分析了抛光液中各组分的作用基础上,... 随着IC制造技术进入到亚深微米时代,化学机械抛光(CMP)工艺成为ULSI多层布线的关键技术之一。分析了W-CMP的机理,抛光液对W材料表面具有化学腐蚀和机械研磨的双重作用,对抛光速率有着重要的影响。在分析了抛光液中各组分的作用基础上,重点研究了专用的氧化剂、磨料、pH值调节剂和抛光液流量对CMP速率的影响,优化配制了高速率、高平整的碱性W抛光液。实验证明,抛光液流量为150mL/min,V(硅溶胶):V(水)=1:1,有机碱为5mL/L,活性剂为5mL/L,H2O2质量浓度为20mL/L时,能够获得较高的抛光速率,并实现了全局平坦化。最后对W-CMP中存在的问题和发展趋势进行了分析和展望。 展开更多
关键词 集成电路互连 化学机械抛光 钨插塞 抛光液 抛光速率
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全球高密度互连印制电路板市场格局研究
8
作者 杨宏强 《印制电路信息》 2018年第9期6-13,共8页
高密度互连板(HDI PCB)是一种重要的、技术含量较高的印制电路板。基于HDI的相关概念、发展历程和应用,详细分析了全球HDI PCB的主要制造地(日本、中国台湾、韩国、中国大陆、其他等)及其主要制造商的现状,总结了全球16家HDI PCB制造商... 高密度互连板(HDI PCB)是一种重要的、技术含量较高的印制电路板。基于HDI的相关概念、发展历程和应用,详细分析了全球HDI PCB的主要制造地(日本、中国台湾、韩国、中国大陆、其他等)及其主要制造商的现状,总结了全球16家HDI PCB制造商的产品布局。 展开更多
关键词 高密度互连印制电路 发展历程 主要制造商 市场格局
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基于边界扫描技术的装备电路可测性设计 被引量:1
9
作者 许四毛 邓小鹏 《火力与指挥控制》 CSCD 北大核心 2015年第3期159-162,共4页
随着装备中基于复杂数字电路的嵌入式系统应用越来越广泛,装备中电路系统的可测性设计(DFT)已成为装备可测试性设计的重要内容。IEEE 1149.1作为一种标准化的电路可测性设计方法,弥补了传统电路测试方法存在的缺陷,为复杂的互连电路提... 随着装备中基于复杂数字电路的嵌入式系统应用越来越广泛,装备中电路系统的可测性设计(DFT)已成为装备可测试性设计的重要内容。IEEE 1149.1作为一种标准化的电路可测性设计方法,弥补了传统电路测试方法存在的缺陷,为复杂的互连电路提供了一种非入侵的测试手段。首先简述了可测试性设计和边界扫描测试技术的基本原理,并从边界扫描测试链设计、提高测试覆盖率和优化电路网络几个方面,分别提出了几种装备电子系统的电路可测试性设计的具体方法。 展开更多
关键词 边界扫描技术 可测试性设计 JTAG接口 互连电路网络
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激光技术在高密度互连印制板生产中的典型应用 被引量:3
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作者 谢国平 戴广乾 边方胜 《印制电路信息》 2018年第2期36-41,共6页
作为一种新型的加工手段,激光在印制电路板导通孔微小化和导线精细化方面的作用日益凸显。本文主要介绍了激光技术在高密度互连板生产中两种典型的应用,激光钻孔和激光直接成像,并分别阐述了其加工的原理、工艺方法及加工特点,并结合试... 作为一种新型的加工手段,激光在印制电路板导通孔微小化和导线精细化方面的作用日益凸显。本文主要介绍了激光技术在高密度互连板生产中两种典型的应用,激光钻孔和激光直接成像,并分别阐述了其加工的原理、工艺方法及加工特点,并结合试验结果,对激光直接成像的精度进行了定量评测。 展开更多
关键词 激光 激光钻孔 激光直接成像 高密度 互连印制电路
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超导滤波器制作与可靠性初步试验
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作者 丁晓杰 王生旺 左涛 《低温与超导》 CAS CSCD 北大核心 2011年第1期34-36,共3页
介绍了高温超导滤波器薄膜电极与同轴转接器用金带连接技术,得到了较高的性能指标,所制作滤波器带内回波损耗<-21dB。并将金带连接效果的仿真指标与实测结果作了对比,指标一致性较好。所制超导滤波器顺利通过振动冲击试验,表明器件... 介绍了高温超导滤波器薄膜电极与同轴转接器用金带连接技术,得到了较高的性能指标,所制作滤波器带内回波损耗<-21dB。并将金带连接效果的仿真指标与实测结果作了对比,指标一致性较好。所制超导滤波器顺利通过振动冲击试验,表明器件具备一定的可靠性。 展开更多
关键词 高温超导 滤波器封装 电路互连
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CMOS工艺中钨的化学机械抛光技术
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作者 张映斌 赵枫 李炳宗 《微细加工技术》 EI 2006年第2期1-4,24,共5页
介绍了深亚微米CMOS集成电路中研制的关键技术———钨化学机械抛光,比较了化学机械抛光技术与传统反应离子回刻法在金属层与层之间的垂直连接中的优缺点,并指出了钨化学机械抛光工艺中尚存的一些问题,最后对该工艺进行了总结与展望。
关键词 集成电路互连 钨化学机械抛光 钨插塞 凹陷 过蚀 钥孔现象
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3μm铜箔CO_(2)激光直接烧靶工艺研究
13
作者 汤龙洲 赵伟 王继纬 《印制电路信息》 2024年第3期32-35,共4页
为满足印制电路板(PCB)线路等级需求,需要采用改进型半加成工艺(mSAP)并使用3μm及以下的附载体极薄铜箔。采用3μmmSAP工艺时,激光钻孔加工使用开窗流程。为保证对位精度,高精度曝光时抓取内层靶标来对位。利用CO_(2)激光加工的积热效... 为满足印制电路板(PCB)线路等级需求,需要采用改进型半加成工艺(mSAP)并使用3μm及以下的附载体极薄铜箔。采用3μmmSAP工艺时,激光钻孔加工使用开窗流程。为保证对位精度,高精度曝光时抓取内层靶标来对位。利用CO_(2)激光加工的积热效应,验证了3μm铜箔CO_(2)激光直接烧靶的可行性,其中烧蚀靶标的激光叠孔设计和激光加工参数是影响烧靶效果的关键因子。通过研究输出了最优的叠孔设计方案和最适合的激光加工参数。结果表明,采用CO_(2)激光直接烧靶加工,凹点靶标和凸点靶标都可以100%满足高精度曝光抓取靶标的需求。 展开更多
关键词 高密度互连印制电路 改进型半加成法 超薄铜箔 CO_(2)激光 直接烧靶 积热效应
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A Novel Barrier to Copper Metallization by Implanting Nitrogen into SiO_2
14
作者 张国海 夏洋 +3 位作者 钱鹤 高文芳 于广华 龙世兵 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期271-274,共4页
The barrier to the copper diffusion is one of the key technologies in copper metallization. A novel barrier has been presented, which is a thin film of silicon oxynitride formed by implanting nitrogen into PECVD silic... The barrier to the copper diffusion is one of the key technologies in copper metallization. A novel barrier has been presented, which is a thin film of silicon oxynitride formed by implanting nitrogen into PECVD silicon dioxide. The method proved highly effective to block the copper diffusion after high frequency C V measurements at different BTS (Bias Thermal Stress) conditions and the XPS (X ray Photoelectron Spectroscopy) analysis. Furthermore, this method has the advantage of simplifying the damascene process of copper metallization, which has also been analyzed and discussed in detail. 展开更多
关键词 ULSI INTERCONNECTION COPPER BARRIER
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瞄准国际先进水平,发奋攻关创新“连体机”设备,解决原箔氧化难题——记联合铜箔(惠州)有限公司18微米铜箔产业化示范工程项目
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《印制电路资讯》 2003年第3期34-36,38,共4页
随着电子技术的飞速发展,电子元器件的体积和功耗逐步减小,印制电路板的布线密度越来越大(线宽和线间距减小)。这就对铜箔产品厚度及其各项性能提出了更高的要求,促进电解铜箔生产技术和发展也导致了工艺日趋复杂、念来愈先进。多年... 随着电子技术的飞速发展,电子元器件的体积和功耗逐步减小,印制电路板的布线密度越来越大(线宽和线间距减小)。这就对铜箔产品厚度及其各项性能提出了更高的要求,促进电解铜箔生产技术和发展也导致了工艺日趋复杂、念来愈先进。多年来,惠州联合铜箔公司一直致力于高档电解铜箔的研制工作,经过不懈的努力,攻克了无数的技术难关,开发出具有国际先进水平的多种高档电解铜箔产品。该产品采用独创的”连体机”生产工艺设备,克服了国内同类产品在外观形态等方面的缺陷,产品质量全面达到或超过DC(国际电子电路互连与封装协会)技术标准,性能价格比高,是优良的进口替代产品。 展开更多
关键词 电解铜箔 高档铜箔 PCB 印制线路板 国际电子电路互连与封装协会 连体机 逆向法熔铜技术 联合铜箔有限公司 18微米铜箔产业化
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BALANCED TRUNCATED MODELS OF C INTERCONNECT CIRCUITS AND THEIR SIMULATION 被引量:1
16
作者 YuanBaoguo WangBen WangShengguo 《Journal of Electronics(China)》 2005年第4期403-408,共6页
The Balanced Truncation Method (BTM) is applied to an even distributed RC interconnect case by using Wang's closed-forms of even distributed RC interconnect models. The results show that extremely high order RC in... The Balanced Truncation Method (BTM) is applied to an even distributed RC interconnect case by using Wang's closed-forms of even distributed RC interconnect models. The results show that extremely high order RC interconnect can be high-accurately approximated by only third order balanced model. Related simulations are executed in both time domain and frequency domain. The results may be applied to VLSI interconnect model reduction and design. 展开更多
关键词 VLSI INTERCONNECT RC distributed circuit Modeling Balanced model reduction
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HDI板盲孔底部微裂纹问题的探讨 被引量:4
17
作者 戴勇 刘红刚 +1 位作者 张华勇 寻瑞平 《印制电路信息》 2020年第7期1-5,共5页
盲孔裂纹是高密度互连(HDI)印制电路板的可靠性问题之一。文章结合生产实例,利用金相切片、扫描电镜、能谱分析,以及现场调查和试验等分析手段,对导致HDI板盲孔裂纹的原因进行了系统研究和分析,并提出了一些改善措施。
关键词 高密度互连印制电路 盲孔 裂纹 盲孔填孔 可靠性
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HDI板盲孔可靠性关键影响因子研究 被引量:2
18
作者 刘金峰 陈利 +1 位作者 周尚松 袁锡志 《印制电路信息》 2021年第S02期324-336,共13页
随着高密度互连(HDI)产品不断向更高层数,更细线宽间距和微孔化方向发展,对其可靠性的要求也越来越高。激光盲孔孔径小且孔数多是HDI板实现高布线密度的有效途径,因而高盲孔可靠性一直是HDI产品的关键所在。但从激光钻到电镀成型过程中... 随着高密度互连(HDI)产品不断向更高层数,更细线宽间距和微孔化方向发展,对其可靠性的要求也越来越高。激光盲孔孔径小且孔数多是HDI板实现高布线密度的有效途径,因而高盲孔可靠性一直是HDI产品的关键所在。但从激光钻到电镀成型过程中,其盲孔位置易产生盲孔底部余胶、孔内无金属、盲孔堵孔及盲孔裂纹等导致盲孔失效的缺陷。文章从人、机、料、法、环等因素上分析其失效机理,再通过扫描电镜(SEM/EDS)、微切片技术、电测试、热应力测试等表征方法,对激光钻、去钻污及孔化过程中影响HDI产品盲孔可靠性的关键因子进行系统研究。试验结果表明:提高激光钻孔质量,优化等离子去钻污TP参数、提高沉铜前微蚀量,防止盲孔底铜氧化等可有效提高盲孔可靠性。 展开更多
关键词 高密度互连印制电路 盲孔 可靠性 关键影响因子
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盲孔裂缝的成因与改善 被引量:3
19
作者 朱兴华 《印制电路信息》 2011年第7期24-28,共5页
盲孔裂缝是高密度互连印制电路板(HDI)在无铅回焊时最常见的盲孔可靠性问题之一,其影响因素多,原因复杂。文章通过盲孔互连测试板,运用实验设计(DOE)手法对材料、激光能量、除胶速率、沉铜前微蚀大小、化学沉铜厚度、电镀前铜面清洗等... 盲孔裂缝是高密度互连印制电路板(HDI)在无铅回焊时最常见的盲孔可靠性问题之一,其影响因素多,原因复杂。文章通过盲孔互连测试板,运用实验设计(DOE)手法对材料、激光能量、除胶速率、沉铜前微蚀大小、化学沉铜厚度、电镀前铜面清洗等进行了实验。结果表明,激光能量和沉铜前微蚀控制是造成盲孔裂缝的显著因子,激光能量选用16/14/12(3shot)和微蚀量控制1.5μm时效果最佳,不会产生盲孔裂缝问题。 展开更多
关键词 高密度互连印制电路板(HDI) 盲孔电镀 盲孔裂缝 实验设计(DOE)
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A Design of ABC95 Array Computer Multi-function Interconnection Chips
20
作者 季振洲 ZhangHongtao 《High Technology Letters》 EI CAS 2002年第1期12-16,共5页
ABC95 array computer is a multi-function network computer based on FPGA technology. A notable feature of ABC95 array computer is the support of complex interconnection, which determines that the computer must have eno... ABC95 array computer is a multi-function network computer based on FPGA technology. A notable feature of ABC95 array computer is the support of complex interconnection, which determines that the computer must have enough I/O band and flexible communications between Pes. The authors designed the interconnecting network chips of ABC95 and realized a form of multi-function interconnection. The multi-function interconnecting network supports conflict-free access from processors to memory matrix and the MESH network of enhanced processors to processor communications. The design scheme has been proved feasible by experiment. 展开更多
关键词 SIMD Array computer Conflict-free Access
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