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ICP-OES测定电路板制造废水中的铜、镍和锡 被引量:3
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作者 龙加洪 许雄飞 +3 位作者 康晓宇 吴银菊 谭菊 朱奕 《光谱实验室》 CAS CSCD 2012年第4期2208-2211,共4页
建立了电感耦合等离子体-发射光谱法测定电路板制造废水中铜、镍和锡的方法,研究了消解方法及分析谱线的选择。该方法与国标原子吸收光谱法比较结果无显著性差异。方法应用于不同浓度电路板制造废水的测定,铜、镍和锡的方法检出限分别为... 建立了电感耦合等离子体-发射光谱法测定电路板制造废水中铜、镍和锡的方法,研究了消解方法及分析谱线的选择。该方法与国标原子吸收光谱法比较结果无显著性差异。方法应用于不同浓度电路板制造废水的测定,铜、镍和锡的方法检出限分别为0.006、0.005、0.008mg/L,加标回收率分别为91.6%—102.6%、93.0%—105.0%、92.6%—101.8%,相对标准偏差分别为0.7%—2.6%、1.5%—4.5%、1.1%—3.2%。 展开更多
关键词 电感耦合等离子体-发射光谱法 电路板制造废水
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